複数の有機ＥＬ発光素子を利用した表示装置
【課題】 複数の有機ＥＬ素子を用いて形成され、その接合部が視覚的に認識されないような構造を有する大型有機ＥＬディスプレイパネルの提供。
【解決手段】 複数種の副画素から形成される画素、および複数種の副画素の間および画素の周囲に設けられるブラックマトリクスが整列されている色変換フィルタと、複数の有機ＥＬ素子とを含み、複数種の副画素は複数種の色変調部から形成され、複数の有機ＥＬ素子が貼り合せられて１つの表示素子を形成していることを特徴とする表示装置。
【解決手段】 複数種の副画素から形成される画素、および複数種の副画素の間および画素の周囲に設けられるブラックマトリクスが整列されている色変換フィルタと、複数の有機ＥＬ素子とを含み、複数種の副画素は複数種の色変調部から形成され、複数の有機ＥＬ素子が貼り合せられて１つの表示素子を形成していることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子を用いた表示装置に関するもので、特に複数の有機ＥＬ発光素子を用いて、ディスプレイを構成する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フルカラー有機ＥＬパネルの実現方法には、３色塗分け法、色変換法（以下、ＣＣＭ法と称する）、カラーフィルタ法などがある。この方式の中で、ＣＣＭ法、カラーフィルタ法は、成膜時にメタルマスクを用いる必要が無く、色変換層やカラーフィルタはフォトプロセスでパネル上に作製すればよいため大面積、高精細化に関して有利とされている。（非特許文献１参照）
【０００３】
さらに大面積のディスプレイを実現する場合には、従来から複数のパネルを接合して、１つの大型パネルを実現する方式は知られている。（特許文献１および２参照）
【０００４】
図２は、複数パネルを接合して大型パネルを実現する従来技術の方法の例を示したもので、４個の小型有機ＥＬパネル５から構成されている。図３に、従来技術のフルカラー実現方法である３色塗り分け法で実現される有機ＥＬパネル５の構造を示す。図３の有機ＥＬパネル５においては、基板５２上に複数のスイッチング素子５４（ＴＦＴなど）が設けられ、複数のスイッチング素子５４と１対１に対応する複数の第１電極５６が設けられている。複数の第１電極５６のそれぞれの上に、有機層からなる赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇおよび青色発光層５８Ｂが設けられ、発光層５８のそれぞれは分離壁６０によって離隔されている。発光層５８および分離壁６０の上に一体の構造を有して形成される透明電極６２が設けられ、その上に保護層６４および表示面を構成する透明シール６６（ガラスなど）が形成されている。
【０００５】
そのため、複数の有機ＥＬパネル５を用いて大型パネルを実現する際には、それぞれの小型有機ＥＬパネル５の表示面と一体となって、大型パネルの表示面を組み合わせることになる。図２の正面視点から観察する際にはパネルの接合部が認識されないが、斜め視点から観察する際には、小型有機ＥＬパネル５の表示面の歪み、あるいはパネル継ぎ目からの反射などによって接合部が認識される。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−４３９５４号公報
【特許文献２】特開２００２−３７２９２８号公報
【特許文献３】特開平５−１３４１１２号公報
【特許文献４】特開平７−２１８７１７号公報
【特許文献５】特開平７−３０６３１１号公報
【特許文献６】特開平５−１１９３０６号公報
【特許文献７】特開平７−１０４１１４号公報
【特許文献８】特開平７−４８４２４号公報
【特許文献９】特開平８−２７９３９４号公報
【特許文献１０】特開平６−３００９１０号公報
【特許文献１１】特開平７−１２８５１９号公報
【特許文献１２】特開平９−３３０７９３号公報
【特許文献１３】特開平８−２７９３４号公報
【特許文献１４】特開平５−３６４７５号公報
【非特許文献１】桜井建弥、「色変換法によるフルカラー有機ＥＬの技術開発状況と展望」、月刊ディスプレイ１０月号、５９ページ（２００２年）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従来の方法では、観察する角度によって小型有機ＥＬパネルの接合部が視覚的に認識されてしまうという欠点を有する。より具体的には、図２の正面視点から観察する際にはパネルの接合部が認識されないが、斜め視点から観察する際には、小型有機ＥＬパネル５の表示面の歪み、パネル接合部からの反射、あるいは接合部に隣接する画素の光強度ないし色相の変化などによって接合部が認識される。これは、複数の小型有機ＥＬパネル５を用いて大型パネルを実現する際には、それぞれの小型有機ＥＬパネル５の表示面と一体となって、大型パネルの表示面を形成することに起因する。
【０００８】
したがって、本発明の目的は、複数の有機ＥＬ素子を用いて大型パネルを形成する際に、その接合部が視覚的に認識されないような構造を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の表示装置は、複数の有機ＥＬ素子を用いて形成される、大型化に適した構造を有する表示装置であって、ａ）複数種の副画素から形成される画素、および前記複数種の副画素の間および前記画素の周囲に設けられるブラックマトリクスが整列されている色変換フィルタと、ｂ）複数の有機ＥＬ素子とを含み、前記複数種の副画素は複数種の色変調部から形成され、前記複数の有機ＥＬ素子が貼り合せられて１つの表示素子を形成していることを特徴とする。ここで、前記色変換フィルタは、一体の構造を有してもよい。また、前記有機ＥＬ素子の貼り合わせによる接合部が、前記色変換フィルタのブラックマトリクスに相当する位置にある構造を有することが望ましい。さらに、有機ＥＬ素子の横方向の接合部端面に反射防止材料を設けてもよい。
【００１０】
本発明の表示装置の種々の態様として、１）画素が赤色、青色および緑色の３種の副画素から構成され、前記有機ＥＬ素子の横方向の接合部に隣接する副画素が、赤色および青色からなる群から選択される表示色を有する構成；２）有機ＥＬ素子の横方向の接合部に隣接する副画素が、その他の副画素よりも小さい寸法を有する構成；または、３）画素が赤色、青色および緑色の３種の副画素から構成され、前記緑色の副画素は前記青色および赤色の副画素よりも小さい寸法を有し、および前記緑色の副画素に隣接するブラックマトリクスの領域に前記有機ＥＬ素子の横方向の接合部が配置されている構成を採ることが可能である。
【発明の効果】
【００１１】
以上に記載した本発明の構成を採ることによって、ＣＣＭ方式の特徴である色変調部（色変換層および／またはカラーフィルタを含む）をフォトプロセスで大型の１枚基板上に形成して大型の色変換フィルタを作製し、色変換フィルタとは別に、真空成膜プロセスを用いて小型の有機ＥＬ素子を大型パネルに必要な複数枚で構成して、それらを重ね合わせることで大型ディスプレイパネルを実現することが可能になる。すなわち、基板の大型化に適応可能なフォトプロセスと、基板の大型化に制限を受ける真空成膜プロセスとを分離して製作することによって、大型のディスプレイパネルを効率よく作製することが可能となる。
【００１２】
また、複数の有機ＥＬ素子を貼り合わせる際に発生するおそれがある素子の整列の乱れに関して、その接合部に隣接する副画素を適切に選択すること、接合部に隣接する副画素を小型化することによって整列の乱れに対する許容度を向上させることによって、接合部の視覚的認識を防止することが可能となる。また、有機ＥＬ素子の接合部に反射防止材料を設けることによっても、接合部の視覚的認識を防止することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の表示装置の一例を図１に示す。図１の構成においては、色変換フィルタ１と、複数の有機ＥＬ素子２（図１においては４個の例を示した）とを組み合わせることによって表示装置が構成されている。
【００１４】
色変換フィルタ１は、表示装置の表示面に相当する面積において一体として形成されており、および該表示面において複数種の副画素から形成される画素が全面にわたって整列されており、各副画素の間の領域および各画素間の領域にブラックマトリクスが設けられている。図４に示すように、色変換フィルタ１は、透明基板１１０と、透明基板１１０上に設けられる複数種の色変調部およびブラックマトリクス１３０と、色変調部およびブラックマトリクスを覆って形成される保護層１４０とを含む。色変調部のそれぞれは、カラーフィルタ層１２２、色変換層１２４またはカラーフィルタ層１２２／色変換層１２４の積層体から構成される。色変調部のそれぞれが副画素１２０に相当する。図４においては、赤色副画素１２０Ｒ、緑色副画素１２０Ｇ、青色副画素１２０Ｂの３色の場合を示したが、２種類または４種類以上の色変調部を用いてもよいことはいうまでもない。また、後述するように、色変換フィルタ１を構成するためのカラーフィルタ層１２２、色変換層１２４およびブラックマトリクスのパターニングは一般的な画像様露光−湿式現像の方法を用いて行うことができる。したがって、大型のディスプレイパネルを形成するのに必要な大きさの基板を用いて、比較的簡便な工程によって大型の色変換フィルタ１を形成することが可能である。
【００１５】
色変換フィルタ１においては、複数種の副画素１２０が１つの画素を形成するように配置される。画素は、略正方形の形状を有するように形成されることが好ましい。したがって、各画素中には、略矩形の形状を有する副画素１２０を整列させることが好ましい。本発明において、「横方向」とは副画素１２０の矩形形状の短辺の方向を意味し、「縦方向」とは副画素１２０の矩形形状の長辺の方向を意味する。
【００１６】
図４においては、トップエミッション方式のアクティブマトリクス駆動型の有機ＥＬ素子の例を示した。複数の有機ＥＬ素子２は、基板２１０上に複数のスイッチング素子２２０が設けられ、複数のスイッチング素子２２０に１対１で対応する複数の第１電極２３０が設けられている。複数の第１電極２３０の上に有機ＥＬ層２４０が設けられ、その上に一体として形成される第２電極２５０が形成されている。また、後述するように、本発明における有機ＥＬ素子としてパッシブマトリクス駆動型素子を使用することも可能である。また、本発明に用いられる有機ＥＬ素子２は、図４に示したような第２電極２５０側から光を取り出すトップエミッション方式を採用してもよいし、あるいは基板２１０側から光を取り出すボトムエミッション方式を採用してもよい。ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子を用いる場合、有機ＥＬ層２４０などの層を周囲環境から保護するために、色変換フィルタ１への組み合わせの後、色変換フィルタ１周辺部において接着層を用いて接着される封止缶または封止樹脂などを用いて、有機ＥＬ素子を周囲環境から隔離することが望ましい。
【００１７】
有機ＥＬ素子２は、色変換フィルタ１の表示面に相当する面積を形成するのに足る複数枚を準備する。このような構成を採って有機ＥＬ素子２を小型化することは、以下の利点を有する。有機ＥＬ素子の製作は、真空中での蒸着および／またはスパッタなどの作業を伴うため、真空装置の大きさなどから基板２１０のサイズに制約がある。有機ＥＬ素子２を小型化することによって、そのような制約を回避することができ、また、基板２１０全面にわたって均一な特性を有する発光部を形成することが容易になるという利点を有するのである。さらに、大きな真空装置の使用を回避できることから、有機ＥＬ素子２の製造コストを低減させることも可能となる。一方、色変換フィルタ１については、真空中の操作が不要であるので、上記のような制限がなく大型のものを容易に作製することができる。
【００１８】
複数の有機ＥＬ素子２を貼り合わせて１つの表示素子とし、さらに１つの色変換フィルタ１と組み合わせることによって、本発明の表示装置を形成することができる。貼り合わせの際に、複数の有機ＥＬ素子２を電気的に接続して一体として制御するようにしてもよい。ワイヤボンディングなどの当該技術において知られている任意の方法、あるいはバイアを経由した裏面上での接続などを用いて隣接する２つの有機ＥＬ素子を電気的に接続することができる。あるいはまた、それぞれの有機ＥＬ素子２を電気的に接続せずに独立的に制御できるようにしてもよい。
【００１９】
１つの色変換フィルタ１と複数の有機ＥＬ素子２とを組み合わせて形成される本発明の表示装置において、その表示面は、一体に形成される色変換フィルタ１の基板１１０の表面である。したがって、本発明の表示装置の表示面は、正面視点においても、斜め視点においても、その表示面の歪みによって接合部が視覚的に認識されることはない。
【００２０】
図５に、本発明により得られる表示装置（図１中に５００として示される接合領域）を色変換フィルタ側から見た上面図を示す。図５においては、４個の有機ＥＬ素子２ａ〜２ｄが横方向接合部２７０と縦方向接合部２８０とにおいて貼り合わせられており、色変換フィルタ１の色変調部に相当する赤色副画素１２０Ｒ、緑色副画素１２０Ｇおよび青色副画素１２０Ｂが確定されており、３種の副画素が組み合わせられた１つの画素を形成している。副画素が設けられていない部分には、ブラックマトリクス１３０が設けられている。図５から分かるように、有機ＥＬ素子の接合部（横方向接合部２７０および縦方向接合部２８０）は、色変換フィルタ１のブラックマトリクス１３０に相当する位置に配置される。また、４個の有機ＥＬ素子２ａ〜２ｄのそれぞれに設けられている複数の発光部のそれぞれは、対応する副画素１２０と同等の寸法を有する。
【００２１】
有機ＥＬ素子２の貼り合わせにおいては、いくつかの有機ＥＬ素子２が所定の位置からずれて貼り合わせられる恐れがある。そのように有機ＥＬ素子のずれが発生した場合でも、本発明の表示装置においては、色変換層１２４における光源からの光の波長分布変換を行う色変換色素からの光の放出が無指向性かつ拡散的であるために、色変換層１２４の下に発光部が存在しない領域が形成されたとしても、その他の部分から拡散される光によって該領域からも光が放射され、正常な副画素と同様に全面から光が放射され、視覚的に認識可能なほどの光強度および（画素全体としての発光の）色相の変化が発生することがない。また、後述するように本発明の表示装置の青色副画素１２０Ｂにおいて色変換層１２４を用いない場合が可能であるが、その場合でも青色光は肉眼に対する比視感度が低いために、副画素中に発光部が存在しない領域が形成されたとしても、視覚的に認識されるほどの影響を光強度および色相に与えることはない。さらに、本発明の表示装置においては、表示面である基板１１０の表面に接近して光拡散性の色変換層１２４が設けられているため、光源が表示面から離れて配置され色変換層を持たない液晶ディスプレイおよびカラーフィルタ方式ＥＬディスプレイに比較して、視野角依存性が低いというさらなる利点がある。
【００２２】
本発明の１つの態様において、図５に示すように、横方向接合部２７０に隣接する副画素は、赤色副画素１２０Ｒおよび青色副画素１２０Ｂとすることが望ましい。なぜなら、これらの副画素から発せられる赤色光および青色光は肉眼に対する比視感度が低いために、副画素１２０（ＲまたはＢ）と発光部とのずれが発生したとしても、前述の色変換層１２４の拡散効果とあいまって、接合部が視覚的に認識されることを防止することができる。
【００２３】
本発明の別の態様において、図７に示すように横方向接合部２７０に隣接する副画素を、他の部分の副画素１２０よりも小さい寸法を有する小型副画素１７０とすることができる。図７においては、赤色および青色の小型副画素１７０を設けた場合を示し、および有機ＥＬ素子２ａの発光部２９０の内、横方向接合部２７０に隣接するもののみを示した。小型副画素１７０は、他の部分の副画素１２０の面積の４０〜７５％の面積を有することが望ましい。より好ましくは、小型副画素１７０は矩形形状を有し、その短辺は他の部分の副画素１２０の短辺の５０〜８０％の寸法を有し、その長辺は他の部分の副画素１２０の長辺の８０〜１００％の寸法を有することが望ましい。ここで、２色の小型副画素１７０のそれぞれ（図７においては赤色および青色）は、駆動時にそこから発せられる光の強度とその面積との積が、他の部分の同色の副画素１２０におけるものと同等になるような電流を流すように作働される。このような小型副画素１７０を有機ＥＬ素子２の接合部（特に横方向接合部２７０）に隣接して設けることによって、接合部に相当する位置のブラックマトリクスの幅を大きくして、有機ＥＬ素子の貼り合わせのずれに対する接合部に隣接する副画素の許容度を大きくすることができる。すなわち、多少のずれが発生したとしても、小型副画素１７０はその下にある発光部２９０の領域内となり、小型副画素１７０から発せられる光強度は影響を受けない。したがって、接合部に隣接する画素全体としても、発せられる光の光強度および色相は影響を受けず、接合部の視覚的な認識を防止することが可能となる。
【００２４】
本発明の別の態様において、図６に示すように、色変換フィルタ全体にわたって緑色副画素を小型副画素１７０Ｇとし、有機ＥＬ素子２の横方向接合部２７０は、緑色小型副画素１７０Ｇに隣接するブラックマトリクスの位置に配置される。図６においては、有機ＥＬ素子２ａの発光部２９０の内、横方向接合部２７０に隣接するもののみを図示した。本態様における小型副画素の寸法は、前述と同様であってもよい。この構成を採ることによって、肉眼に対して比視感度の高い緑色小型副画素１７０Ｇに関して、有機ＥＬ素子貼り合わせ時のずれに対する緑色副画素の許容度を、接合部に相当する位置のブラックマトリクスの幅の拡大による接合部における向上のみならず、表示装置全体にわたって向上させ、副画素の有効面積が変化しないようにすることができる。もしずれが発生した場合でも、緑色小型副画素１７０Ｇから発せられる光の光強度は変化せず、かつ青色副画素１２０Ｂまたは赤色副画素１２０Ｒが接続部に隣接するが、それらが発する光の比視感度が低いために画素全体としての色相もほとんど影響を受けない。したがって、接合部における光強度および／または色相の変化によって、接合部が視覚的に認識されることはない。
【００２５】
本発明の別の態様において、図８に示すように、色変換フィルタ全体にわたって全ての種類の副画素を小型副画素１７０とする。図８においては、有機ＥＬ素子２ａの発光部２９０の内、横方向接合部２７０に隣接するもののみを図示した。このような構成とすることによって、全種の副画素に関して、有機ＥＬ素子貼り合わせ時のずれに対する副画素の許容度を向上させ、副画素の有効面積が変化しないようにすることができる。もしずれが発生した場合でも、それぞれの小型副画素１７０から発せられる光の光強度は変化せず、したがって画素全体としての色相もほとんど影響を受けない。この効果によって、接合部における光強度および／または色相の変化にる接合部の視覚的認識を防止することができる。
【００２６】
上記のいずれの態様においても、色変換フィルタ１に特定の角度を持って入射した外光が有機ＥＬ素子２の接合部端面において反射するために、接合部が視覚的に認識される恐れがある。貼り合わせの際に形成される接合部端面における反射を防止するために、図９に示すように、有機ＥＬ素子２の接合部端面に反射防止材料を設けることができる。たとえば、反射防止材料としては、可視光の波長領域でガラスの屈折率に近い屈折率を有する紫外線硬化型接着剤、高分子接着剤を用いることができる。用いられるガラスの屈折率は１．５〜１．６程度であり、接着剤としては紫外線硬化型接着剤であるＡＶＲ２００（スリーボンド社製、屈折率１．５６）またはＸＮＲ５６２３（ナガセケムテックス株式会社製、屈折率１．５７）を用いることができる。あるいはまた、反射防止材料としてフィルム状樹脂を使用してもよい。用いることができるフィルム樹脂は、その屈折率とガラスの屈折率との差がガラスの屈折率の５％以下であることが好ましい。フィルム状樹脂は、ポリエステル、ポリエチレン、セロハン、ポリエチレンラミネートセロハン、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、またはポリカーボネートから作製することができる。
【００２７】
以下、本発明の色変換フィルタ１の構造を詳細に示す。透明基板１１０は、可視光（波長４００〜７００ｎｍ）、好ましくは色変調部１２０によって変換された光に対して透明であることが必要である。また、透明基板１１０は、色変調部１２０および他の必要に応じて設けられる層（後述）の形成に用いられる条件（溶媒、温度等）に耐えるものであるべきであり、さらに寸法安定性に優れていることが好ましい。透明基板１１０の材料として好ましいものは、ガラス、ならびにポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート等の樹脂を含む。ホウケイ酸ガラスまたは青板ガラス等が特に好ましいものである。
【００２８】
色変調部１２０のそれぞれは、カラーフィルタ層１２２、色変換層１２４またはカラーフィルタ層１２２／色変換層１２４の積層体から構成される。２種またはそれ以上の種類の色変調部を設けることができるが、好ましくは３種の色変調部、より好ましくは混合により白色を演色できる３種の色変調部、最も好ましくは、赤色変調部１２０Ｒ、緑色変調部１２０Ｇ、青色変調部１２０Ｂを設けることが望ましい。
【００２９】
色変調部１２０に用いられるカラーフィルタ層１２２は、光源として用いる有機ＥＬ素子２の有機ＥＬ層２４０を発した光および／または色変換層１２４で波長分布変換された光の特定の波長域の成分のみを透過させ、色純度の高い出力光を得るための層である。カラーフィルタ層１２２は、液晶ディスプレイ等、フラットパネルディスプレイに用いられるカラーフィルタ材料を用いて形成することができ、近年はフォトレジストに顔料を分散させた、顔料分散型カラーフィルタ材料が広く用いられてきている。本発明においては、好ましくは、４００ｎｍ〜５５０ｎｍの波長を透過する青色カラーフィルタ層１２２Ｂ、５００ｎｍ〜６００ｎｍの波長を透過する緑色カラーフィルタ層１２２Ｇ、６００ｎｍ以上の波長を透過する赤色カラーフィルタ層１２２Ｒを用いることができる。
【００３０】
本発明において、色変換層１２４は、有機ＥＬ素子２の有機ＥＬ層２４０を発した光の波長分布変換を行って、所望される波長域の成分を含む光へと変換するための層である。赤色変換層１２４Ｒは、近紫外領域ないし可視領域、特には青色ないし青色領域の光を吸収して赤色領域の光に変換するための赤色変換色素を含む。また、緑色変換層１２４Ｇは、近紫外領域ないし可視領域、特には青色ないし青色領域の光を吸収して緑色領域の光に変換するための緑色変換色素を含む。さらに、青色変換層１２４Ｂは、近紫外領域の光を吸収して青色領域の光に変換するための青色変換色素を含む。これらの色変換層１２４は、複数種の変換色素を含んでいてもよい。たとえば、赤色変換層１２４Ｒが、青色領域の光を緑色領域の光に変換する変換色素および緑色領域の光を赤色領域の光に変換する色素を含んで、全体的な色変換の効率を向上させてもよい。
【００３１】
青色から青緑色領域の光を吸収して、赤色領域の光を発する赤色変換色素としては、例えばローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ローダミン３Ｂ、ローダミン１０１、ローダミン１１０、スルホローダミン、ベーシックバイオレット１１、ベーシックレッド２などのローダミン系色素、シアニン系色素、１−エチル−２−〔４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１３−ブタジエニル〕−ピリジウム−パークロレート（ピリジン１）などのピリジン系色素、あるいはオキサジン系色素などが挙げられる。
【００３２】
青色ないし青緑色領域の光を吸収して、緑色領域の光を発する緑色変換色素としては、例えば３−（２’−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（クマリン６）、３−（２’−ベンゾイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン７）、３−（２’−Ｎ−メチルベンゾイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン３０）、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジン（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）などのクマリン系色素、あるいはクマリン色素系染料であるベーシックイエロー５１、さらにはソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６などのナフタルイミド系色素などが挙げられる。
【００３３】
上記の色変調部１２０（カラーフィルタ１２２および色変換層１２４のそれぞれ）は、スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法などを用いて各層の材料を塗布し、続いてフォトリソグラフ法などを用いてパターニングすることによって形成することができる。
【００３４】
本発明において、有機ＥＬ層２４０が青色ないし青緑色の光を発し、かつ十分な量の青色領域の成分を含んでいる場合、青色変換層１２４Ｂを用いなくてもよい。その場合には、青色フィルタ層１２２Ｂを通して色純度を向上させた青色光を発することが可能である。
【００３５】
透明基板１１０の表示領域のうち、色変調部１２０を形成しなかった部分にはブラックマトリクス１３０が設けられる。すなわち、各副画素の間の領域および各画素の周囲にブラックマトリクス１３０が設けられる。ブラックマトリクス１３０は黒色材料から形成され、表示装置内部への外光入射を制限して、コントラスト比を向上させ、および有機ＥＬ素子２の接合部の視覚的認識を防止するのに有効な層である。ブラックマトリクス１３０は、液晶ディスプレイ等、フラットパネルディスプレイに慣用的に用いられる材料を用いて形成することができる。ブラックマトリクス１３０は、スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法などを用いて各層の材料を塗布し、続いてフォトリソグラフ法などを用いてパターニングすることによって形成することができる。あるいはまた、スクリーン印刷法を用いてブラックマトリクス１３０を形成してもよい。
【００３６】
必要に応じて、色変調部１２０およびブラックマトリクス１３０を覆うように保護層１４０を形成してもよい。保護層１４０は、色変調部１２０およびブラックマトリクス１３０によって形成される凹凸を平坦化し、かつ色変調部１２０を周囲環境および有機ＥＬ素子２から隔離するためのするための層である。保護層１４０を形成するのに用いることができる有機材料は、たとえば、イミド変性シリコーン樹脂（たとえば特許文献３〜５参照）、アクリル、ポリイミドまたはシリコーン樹脂中に分散された無機金属化合物（ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２など、特許文献６、７参照）、エポキシ変性アクリレート樹脂、反応性ビニル基を含むアクリレートモノマー／オリゴマー／ポリマーのような紫外線硬化型樹脂（特許文献８参照）、レジスト樹脂（特許文献９〜１２参照）、無機化合物（ゾル−ゲル法により形成されてもよい、特許文献１３参照）、フッ素系樹脂などの光硬化型および／または熱硬化型樹脂（特許文献１２、１４参照）を含む。上記のような材料から保護層１４０を形成する際には、たとえば、乾式法（スパッタ法、蒸着法、ＣＶＤ法など）、および湿式法（スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法など）などの、当該技術において知られている任意の方法を用いてもよい。
【００３７】
さらに必要に応じて、保護層１４０の上にパッシベーション層を形成してもよい。パッシベーション層は、可視域における高い透明性（４００〜７００ｎｍの範囲において透過率５０％以上）、１００℃以上のＴｇ、鉛筆硬度２Ｈ以上の表面硬度を示す材料であって、ガスおよび水蒸気を遮断することができる材料から選択することができる。パッシベーション層を形成するのに好ましい材料は、ＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、ＳｉＮｘＯｙ、ＡｌＯｘ、ＴｉＯｘ、ＴａＯｘ、ＺｎＯｘなどの無機酸化物または無機窒化物を含む。パッシベーション層は、前述の無機酸化物または無機窒化物の単一層であってもよく、あるいはそれらの複数を積層した積層構造を採ってもよい。パッシベーション層の形成には、乾式法（スパッタ法、蒸着法、ＣＶＤ法など）、および湿式法（スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法、ゾルゲル法など）などの、当該技術において知られている任意の方法を用いることができる。
【００３８】
次に、本発明の有機ＥＬ素子２の構造を詳細に示す。
【００３９】
基板２１０は、透明であっても不透明であってもよく、積層される層の形成に用いられる条件（溶媒、温度等）に耐えるものであるべきであり、および寸法安定性に優れていることが好ましい。好ましい材料は、金属、セラミック、ガラス、シリコンなど半導体、ならびにポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート等の樹脂を含む。あるいはまた、ポリオレフィン、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂またはポリイミド樹脂などから形成される可撓性フィルムを、基板として用いてもよい。有機発光層からの発光を基板２１０の側から取り出すボトムエミッション方式を採用する場合には、基板１０は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して５０％以上の透過率を有することが好ましい。透明な基板１０としては、ガラス、シリコン、ならびにポリエチレンテレフタレートおよびポリメチルメタクリレート等の樹脂を用いることが好ましく、ホウケイ酸ガラスまたは青板ガラスを用いることがより好ましい。
【００４０】
複数のスイッチング素子２２０は、複数の第１電極２３０のそれぞれと１対１で接続され、副画素の点灯／消灯を制御するための素子である。スイッチング素子は、たとえば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）またはＭＩＭなどの素子を用いて形成することができる。
【００４１】
第１電極２３０は、複数の部分から構成され、有機ＥＬ層２４０に対してキャリア（正孔または電子のいずれか）を注入するための電極である。
【００４２】
有機ＥＬ層２４０からの発光を第２電極２５０側から取り出すトップエミッション方式を採用する場合には、第１電極２５０は、反射性を有することが好ましい。反射性を有する第１電極２５０は、高反射率の金属、アモルファス合金または微結晶性合金と、導電性金属酸化物とを積層することによって形成することができる。導電性金属酸化物は、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ：Ａｌなどを含み、正孔注入効率を向上させるために設けることが望ましい層である。高反射率の金属は、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｒなどを含む。高反射率のアモルファス合金は、ＮｉＰ、ＮｉＢ、ＣｒＰおよびＣｒＢなどを含む。高反射率の微結晶性合金は、ＮｉＡｌなどを含む。高反射率の金属、アモルファス合金または微結晶性合金は、蒸着、スパッタなどの当該技術において知られている任意の方法で形成することができる。トップエミッション方式を採用する場合にも、第１電極２５０を陰極として用いることが可能である。この場合には第１電極２５０は、前述の高反射率の金属、アモルファス合金または微結晶性合金から形成される。あるいはまた、高反射率の金属と仕事関数の小さい金属との合金（たとえばＭｇ／Ａｇ合金など）を用いて第１電極２５０を形成してもよい。第１電極２５０を陰極として用いる場合、陰極の有機ＥＬ層２４０との界面に電子注入性のバッファ層を設けて、電子注入効率を向上させることが望ましい。
【００４３】
バッファ層の材料としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、またはＣｓなどのアルカリ金属、Ｂａ、Ｓｒなどのアルカリ土類金属またはそれらを含む合金、希土類金属、あるいはそれら金属のフッ化物などの用いることができるが、それらに限定されるものではない。バッファ層の膜厚は、駆動電圧および透明性等を考慮して適宜選択することができるが、通常の場合には１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００４４】
ボトムエミッション方式を採用する場合には、第１電極２３０は、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ：Ａｌなどの導電性金属酸化物から形成される。導電性金属酸化物をスパッタ法を用いて積層することにより第１電極２３０を形成することができる。ボトムエミッション方式を採用する場合、第１電極２３０は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して好ましくは５０％以上、より好ましくは８５％以上の透過率を有することが好ましい。第１電極２３０は、通常５０ｎｍ以上、好ましくは５０ｎｍ〜１μｍ、より好ましくは１００〜３００ｎｍの範囲内の厚さを有することが望ましい。ボトムエミッション方式において第１電極２３０を陰極として用いることも可能である。この場合には、陰極の有機ＥＬ層２４０との界面に前述のバッファ層を設けて、電子注入効率を向上させることが望ましい。
【００４５】
第２電極２５０は、一体として形成される共通電極であり、有機ＥＬ層２４０に対してキャリア（正孔または電子のいずれか）を注入するための電極である。
【００４６】
トップエミッション方式を採用する場合、第２電極２５０は有機ＥＬ層２４０からの発光に対する透明性が要求される。この場合には、第２電極２５０は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して好ましくは５０％以上、より好ましくは８５％以上の透過率を有することが好ましい。第２電極２５０は、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ：Ａｌなどの導電性金属酸化物から形成される。第２電極２５０を陰極として用いる場合には、陰極の有機ＥＬ層２４０との界面に前述のバッファ層を設けて、電子注入効率を向上させることが望ましい。
【００４７】
ボトムエミッション方式を採用する場合、第２電極２５０は反射性電極である。この場合、第２電極２５０は、前述の高反射率の金属、アモルファス合金または微結晶性合金から形成される。あるいはまた、第２電極２５０が陰極である場合、高反射率の金属と仕事関数の小さい金属との合金（たとえばＭｇ／Ａｇ合金など）を用いて第２電極２５０を形成してもよい。第２電極２５０を陰極として用いる場合、陰極の有機ＥＬ層との界面に前述のバッファ層を設けて、電子注入効率を向上させることが望ましい。また、ボトムエミッション方式を採用する場合に、第２電極２５０を陽極として用いることもできる。この場合には、前述の導電性金属酸化物と、反射性金属等との積層構造とすることが望ましい。導電性金属酸化物は、有機ＥＬ層側に配置されて正孔注入効率を向上させるために用いられる。
【００４８】
第１電極２３０および第２電極２５０に挟持される有機ＥＬ層２４０は、有機発光層を少なくとも含み、必要に応じて正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層および／または電子注入層を含む。これらの各層は、それぞれにおいて所望される特性を実現するのに充分な膜厚を有して形成される。たとえば、下記のような層構成からなるものが採用される。
（１）有機発光層
（２）正孔注入層／有機発光層
（３）有機発光層／電子注入層
（４）正孔注入層／有機発光層／電子注入層
（５）正孔輸送層／有機発光層／電子注入層
（６）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層
（７）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層／電子注入層
（上記の構成において、陽極として機能する電極が左側に接続され、陰極として機能する電極が右側に接続される）
【００４９】
有機発光層の材料は、所望する色調に応じて選択することが可能であり、例えば青色から青緑色の発光を得るためには、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、スチリルベンゼン系化合物、または芳香族ジメチリデイン系化合物などの１つまたは複数の材料を使用することが可能である。あるいはまた、前述の材料をホスト材料として用い、これにドーパントを添加することによって有機発光層を形成してもよい。ドーパントとして用いることができる材料としては、たとえばレーザ色素としての使用が知られているペリレン（青色）などを用いることができる。
【００５０】
電子輸送層の材料としては、ＰＢＤ、ＴＰＯＢのようなオキサジアゾール誘導体；ＴＡＺのようなトリアゾール誘導体；トリアジン誘導体；フェニルキノキサリン類；ＢＭＢ−２Ｔ、ＢＭＢ−３Ｔのようなチオフェン誘導体；アルミニウムトリス（８−キノリノラート）（Ａｌｑ３）のようなアルミニウム錯体などを用いることができる。
【００５１】
電子注入層の材料としては、Ａｌｑ３のようなアルミニウム錯体、アルカリ金属ないしアルカリ土類金属をドープしたアルミニウム錯体、あるいはアルカリ金属ないしアルカリ土類金属を添加したバソフェナントロリンなどを用いることができる。
【００５２】
正孔注入層の材料としては、フタロシアニン（Ｐｃ）類（銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）などを含む）またはインダンスレン系化合物などを用いることができる。
【００５３】
正孔輸送層の材料としては、トリアリールアミン部分構造、カルバゾール部分構造、オキサジアゾール部分構造を有する材料（たとえばＴＰＤ、α−ＮＰＤ、ＰＢＤ、ｍ−ＭＴＤＡＴＡなど）を用いることができる。
【００５４】
前述の有機ＥＬ層２４０を構成する各層は、蒸着（抵抗加熱または電子ビーム加熱）などの当該技術において知られている任意の手段を用いて形成することができる。
【００５５】
なお、上記の説明においては、スイッチング素子２２０を用いたアクティブマトリクス駆動型の有機ＥＬ素子について説明したが、本発明においてはパッシブマトリクス駆動型有機ＥＬ素子を用いることも可能である。パッシブマトリクス駆動型有機ＥＬ素子は、基板２１０上に、第１の方向に延びる複数のストライプ形状部分からなる第１電極２３０を形成し、その上に有機ＥＬ層２４０を形成し、さらに第２の方向に延びる複数のストライプ形状部分からなる第２電極２５０を形成することによって得ることができる。ここで、第１の方向と第２の方向とは互いに交差する方向であり、好ましくは直交する方向である。基板２１０、第１電極２３０、有機ＥＬ層２４０、第２電極２５０を形成する材料は、前述のものを用いることができる。
【００５６】
必要に応じて、第２電極２５０以下の構造を覆うようなＥＬ素子パッシベーション層を設けてもよい。ＥＬ素子パッシベーション層は、ガスおよび水蒸気を遮断することによって有機ＥＬ層の機能劣化を防止するのに有効であり、ＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、ＳｉＮｘＯｙ、ＡｌＯｘ、ＴｉＯｘ、ＴａＯｘ、ＺｎＯｘなどの無機酸化物材料または無機窒化物材料を用いて形成することができる。ＥＬ素子パッシベーション層は、前述の無機酸化物または無機窒化物の単一層であってもよく、あるいはそれらの複数を積層した積層構造を採ってもよい。ＥＬ素子パッシベーション層の形成には、乾式法（スパッタ法、蒸着法、ＣＶＤ法など）、および湿式法（スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法、ゾルゲル法など）などの、当該技術において知られている任意の方法を用いることができる。
【実施例】
【００５７】
（実施例１）
４０インチのＳＶＧＡ規格（８００×６００画素、各画素はＲＧＢの副画素から構成される）のディスプレイの作製を行った。本実施例では、４００×３００画素に相当する１２００×３００の発光部を有する有機ＥＬ発光素子（２０インチ）を４枚用いた。ＲＧＢ各副画素のサイズを０．１４８×０．７０４ｍｍ、副画素間の間隔は０．１３０ｍｍとした。したがって、画素サイズは０．７０４ｍｍ×０．７０４ｍｍであり、画素間隔は０．３１２ｍｍであり、画素ピッチは１．０１６ｍｍであった。
【００５８】
最初に２０インチ有機ＥＬ素子（４００×３００画素相当）を形成した。
【００５９】
最初に、コーニングガラス基板上に、第１電極の補助電極部として、抵抗率１．５×１０−５［Ω・ｃｍ］のＭｏを膜厚３００ｎｍ、幅１００μｍで堆積させた。Ｍｏの成膜にはＤＣマグネトロンスパッタ法を用い、Ｍｏ上にレジスト剤「ＯＦＲＰ−８００」（商品名、東京応化製）を塗布した後、フォトリソグラフィー法にてパターニングを行った。
【００６０】
次に、スパッタ法にてＩＴＯを全面成膜した。そしてＩＴＯ上にレジスト剤「ＯＦＲＰ−８００」（商品名、東京応化製）を塗布した後、フォトリソグラフィー法にてパターニングを行い、ＲＧＢ副画素に位置する、幅０．２０４ｍｍ、間隙０．０７４ｍｍ、膜厚１００ｎｍの縦方向に延びるストライプパターンからなる第１電極を形成した。本実施例においては、第１電極を陽極として用いた。
【００６１】
次に、ポジ型フォトレジスト［ＷＩＸ−２Ａ］（商品名、日本ゼオン製）を用いて、前記副画素に対応する開口部を除いて、基板面全面に厚さ１μｍの絶縁膜を形成した。絶縁膜端部の基板面に対する角度は鋭角となっている。
【００６２】
本実施例では、絶縁膜としてポジ型フォトレジストを用いたが、他にアクリレート等のネガ型のフォトレジストや、ポリイミド材料、ＳｉＯｘ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉＮｘ、ＴｉＯｘ等の無機酸化膜を用いることができる。
【００６３】
絶縁膜の膜厚は、パネル駆動時に印加される電圧から算出される絶縁耐圧を持つ必要がある。本実施例に用いたポジ型フォトレジストではおよそ８００ｎｍ以上の膜厚で形成することにより十分な絶縁耐圧を持つことができた。
【００６４】
次に、ネガ型フォトレジスト［ＺＰＮ１１００］（商品名、日本ゼオン製）を用いて、隣接する画素間の中央に配置され、横方向（第１電極のストライプパターンと直交する方向）に延びるストライプパターンからなる厚さ４μｍの隔壁を形成した。隔壁の幅は、画素間隙の間隔以下、好ましくは（画素間隙の間隔）−５０μｍ以下であり、１００μｍ以上であればよい。本実施例では、隔壁は逆テーパの断面形状を有し、隔壁の頂部幅は２３０μｍであり、底部幅１３０μｍであり、底部におけるピッチは１．０１６ｍｍである。
【００６５】
次いで、隔壁を形成した基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層および電子注入層を真空を破らずに順次成膜した。成膜に際して真空槽内圧は１×１０−４Ｐａまで減圧した。正孔注入層として膜厚１００ｎｍの銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を積層した。正孔輸送層として膜厚２０ｎｍの４，４’−ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ〕ビフェニル（α−ＮＰＤ）を積層した。ホスト物質として４，４’−ビス（２，２’−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）、ゲスト物質として４，４’−ビス［２−｛４−（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）フェニル｝ビニル］ビフェニル（ＤＰＡＶＢｉ）を用いて膜厚３０ｎｍの有機発光層を積層した。電子注入層として膜厚２０ｎｍのアルミニウムトリス（８−キノリノラート）（Ａｌｑ３）を積層した。
【００６６】
引き続いて、真空を破ることなしにメタルマスクを用いて、厚さ２００ｎｍのＭｇ／Ａｇ（１０：１の重量比率）を堆積させて、陰極として用いる第２電極を形成した。第２電極は前述の隔壁によって分離され、幅０．７８６ｍｍ、間隙０．２３０ｍｍの横方向に延びるストライプパターンから形成された。
【００６７】
最後に、表示部を含んで、２０インチサイズ（４０６．４ｍｍ×３０４．８ｍｍ）に基板から切り出し、４枚の有機ＥＬ素子を得た。
【００６８】
次に、４０インチの一体型の色変換フィルタを作製した。
【００６９】
透明基板としてのコーニングガラス（８４５ｍｍ×６４５ｍｍ×１．１ｍｍ）上に、スピンコート法を用いて黒色色素を含むレジスト樹脂を塗布し、フォトリソグラフ法により、パターニングを実施し、色変調部（副画素）を形成するための開口部を残して膜厚２μｍのブラックマトリックスを形成した。
【００７０】
次に、青色フィルター材料（富士ハントエレクトロニクステクノロジー製：カラーモザイクＣＢ−７００１）をスピンコート法にて塗布後、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、幅０．１４８ｍｍ、ピッチ１．０１６ｍｍ、膜厚６μｍの縦方向に延びるストライプパターンを有する青色フィルタ層を形成して、青色変調部を得た。
【００７１】
次に、蛍光色素としてのクマリン６（０．７重量部）を溶剤のプロピレングリコールモノエチルアセテート（ＰＧＭＥＡ）１２０重量部へ溶解させた。この溶液に対して、光重合性樹脂の［Ｖ２５９ＰＡ／Ｐ５」（新日鐵化成工業株式会社）１００重量部を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を、青色フィルタ層を形成した透明基板上にスピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法により、パターニングを実施し、幅０．１４８ｍｍ、ピッチ１．０１６ｍｍ、膜厚１０μｍの縦方向に延びるストライプパターンを有する緑色変換層を形成して、緑色変調部を得た。
【００７２】
そして、蛍光色素としてのクマリン６（０．６重量部）、ローダミン６Ｇ（０．３重量部）、ベーシックバイオレット１１（０．３重量部）を溶剤のプロピレングリコールモノエチルアセテート（ＰＧＭＥＡ）１２０重量部へ溶解させた。この溶液に対して、光重合性樹脂の「Ｖ２５９ＰＡ／Ｐ５」（商品名、新日鐵化成工業株式会社）１００重量部を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を、上記の各層を形成した透明基板上に、スピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法により、パターニングを実施し、幅０．１４８ｍｍ、ピッチ１．０１６ｍｍ、膜厚１０μｍの縦方向に延びるストライプパターンを有する赤色変換層を形成して、赤色変調部を得た。
【００７３】
以上のようにＲＧＢ各色の色変調部を形成した透明基板上に、ＵＶ硬化型樹脂（エポキシ変性アクリレート）をスピンコート法にて塗布し、高圧水銀灯にて照射し、膜厚５μｍの保護層を形成して、４０インチの色変換フィルタを得た。この時、各色変調部のパターンは変形がなく、かつ保護層上面は平坦であった。
【００７４】
次に、上記で得られた４０インチサイズの色変換フィルタに、２０インチサイズの有機ＥＬ素子を４枚貼り合わせる。最初に、２０インチサイズの有機ＥＬ素子のガラス基板接合面（接合部２７０、２８０に相当する面）を、高精度な貼り合わせが可能なように高精度研磨剤で平滑に研磨仕上げした。高精度研磨剤としては、酸化セリウムまたは酸化ジルコニウムを添加した酸化セリウムを用いることができる。次に、平坦面を有する支持体を用意し、その上に有機ＥＬ素子のガラス基板を載置し、位置合わせを行い、紫外線硬化樹脂であるＡＶＲ２００（スリーボンド社製、屈折率１．５６）を用いて４枚の２０インチサイズの有機ＥＬ素子の接合面を接合した。次いで、４０インチサイズの色変換フィルタに粘性の低いアクリル系接着剤を均一に塗布した後にアライメント位置を確認しながら、上記で得られる２０インチサイズのＥＬ素子４枚からなる接合体を配置し、紫外線を照射して樹脂を硬化させた。
【００７５】
最後に、上記の組合せにより得られた色変換フィルタ／有機ＥＬ発光素子積層体の有機ＥＬ発光素子側（すなわち、両電極および有機ＥＬ層の積層体側）を、グローブボックス内の乾燥窒素雰囲気（酸素および水分濃度ともに１０ｐｐｍ以下）下において、封止缶（ガラス製または金属製のものを用いることができる）を用いて封止した。
【００７６】
得られた４０インチディスプレイは、１６〜３０Ｖの駆動電圧を印加することにより１００〜３００ｃｄ／ｍ２の輝度で発光した。
【００７７】
（実施例２）
４枚の２０インチサイズの有機ＥＬ素子からなる接合体の形成を、有機ＥＬ素子のガラス基板接合面間にポリエステルのフィルム状樹脂を挟み込んで、接着剤による接合を行うこと以外は、実施例１と同様の手順を用いて、２０インチサイズの有機ＥＬ素子４枚および４０インチサイズの色変換フィルタを用いた４０インチディスプレイを形成した。用いたポリエステルのフィルム状樹脂の厚さを２５μｍ以下とすることによって、接着剤の充填不良による有機ＥＬ素子接合端面での乱反射を防止し、有機ＥＬ素子の接合端面が視覚的に認識されるのを防止する効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本発明の表示装置を示す斜視図である。
【図２】従来技術の小型有機ＥＬパネルを用いた表示装置を示す斜視図である。
【図３】従来技術の小型有機ＥＬパネルの構造を示す断面図である。
【図４】本発明の表示装置の構造を示す断面図である。
【図５】本発明の表示装置における有機ＥＬ素子の接合部を示す上面図である。
【図６】本発明の別の態様における有機ＥＬ素子の接合部を示す上面図である。
【図７】本発明の別の態様における有機ＥＬ素子の接合部を示す上面図である。
【図８】本発明の別の態様における有機ＥＬ素子の接合部を示す上面図である。
【図９】本発明の別の態様における有機ＥＬ素子の接合部を示す断面図である。
【符号の説明】
【００７９】
１ 色変換フィルタ
２（ａ〜ｄ） 有機ＥＬ発光素子
５ 小型有機ＥＬパネル
６ ＴＦＴ
５２、２１０ 基板
５４、２２０ スイッチング素子
５６、２３０ 第１電極
５８（Ｒ，Ｇ，Ｂ） 有機ＥＬ層
６０ 分離壁
６２、２５０ 第２電極
６４ 保護層
６６ 透明シール
１１０ 透明基板
１２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ） 色変調部（副画素）
１２２（Ｒ，Ｇ，Ｂ） カラーフィルタ層
１２４（Ｒ，Ｇ，Ｂ） 色変換層
１３０ ブラックマトリクス
１４０ 保護層
１７０（Ｒ，Ｇ，Ｂ） 小型副画素
２４０ 有機ＥＬ層
２７０ 横方向接合部
２８０ 縦方向接合部
２９０ 発光部
３００ 反射防止材料
５００ 接合領域
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子を用いた表示装置に関するもので、特に複数の有機ＥＬ発光素子を用いて、ディスプレイを構成する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フルカラー有機ＥＬパネルの実現方法には、３色塗分け法、色変換法（以下、ＣＣＭ法と称する）、カラーフィルタ法などがある。この方式の中で、ＣＣＭ法、カラーフィルタ法は、成膜時にメタルマスクを用いる必要が無く、色変換層やカラーフィルタはフォトプロセスでパネル上に作製すればよいため大面積、高精細化に関して有利とされている。（非特許文献１参照）
【０００３】
さらに大面積のディスプレイを実現する場合には、従来から複数のパネルを接合して、１つの大型パネルを実現する方式は知られている。（特許文献１および２参照）
【０００４】
図２は、複数パネルを接合して大型パネルを実現する従来技術の方法の例を示したもので、４個の小型有機ＥＬパネル５から構成されている。図３に、従来技術のフルカラー実現方法である３色塗り分け法で実現される有機ＥＬパネル５の構造を示す。図３の有機ＥＬパネル５においては、基板５２上に複数のスイッチング素子５４（ＴＦＴなど）が設けられ、複数のスイッチング素子５４と１対１に対応する複数の第１電極５６が設けられている。複数の第１電極５６のそれぞれの上に、有機層からなる赤色発光層５８Ｒ、緑色発光層５８Ｇおよび青色発光層５８Ｂが設けられ、発光層５８のそれぞれは分離壁６０によって離隔されている。発光層５８および分離壁６０の上に一体の構造を有して形成される透明電極６２が設けられ、その上に保護層６４および表示面を構成する透明シール６６（ガラスなど）が形成されている。
【０００５】
そのため、複数の有機ＥＬパネル５を用いて大型パネルを実現する際には、それぞれの小型有機ＥＬパネル５の表示面と一体となって、大型パネルの表示面を組み合わせることになる。図２の正面視点から観察する際にはパネルの接合部が認識されないが、斜め視点から観察する際には、小型有機ＥＬパネル５の表示面の歪み、あるいはパネル継ぎ目からの反射などによって接合部が認識される。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−４３９５４号公報
【特許文献２】特開２００２−３７２９２８号公報
【特許文献３】特開平５−１３４１１２号公報
【特許文献４】特開平７−２１８７１７号公報
【特許文献５】特開平７−３０６３１１号公報
【特許文献６】特開平５−１１９３０６号公報
【特許文献７】特開平７−１０４１１４号公報
【特許文献８】特開平７−４８４２４号公報
【特許文献９】特開平８−２７９３９４号公報
【特許文献１０】特開平６−３００９１０号公報
【特許文献１１】特開平７−１２８５１９号公報
【特許文献１２】特開平９−３３０７９３号公報
【特許文献１３】特開平８−２７９３４号公報
【特許文献１４】特開平５−３６４７５号公報
【非特許文献１】桜井建弥、「色変換法によるフルカラー有機ＥＬの技術開発状況と展望」、月刊ディスプレイ１０月号、５９ページ（２００２年）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従来の方法では、観察する角度によって小型有機ＥＬパネルの接合部が視覚的に認識されてしまうという欠点を有する。より具体的には、図２の正面視点から観察する際にはパネルの接合部が認識されないが、斜め視点から観察する際には、小型有機ＥＬパネル５の表示面の歪み、パネル接合部からの反射、あるいは接合部に隣接する画素の光強度ないし色相の変化などによって接合部が認識される。これは、複数の小型有機ＥＬパネル５を用いて大型パネルを実現する際には、それぞれの小型有機ＥＬパネル５の表示面と一体となって、大型パネルの表示面を形成することに起因する。
【０００８】
したがって、本発明の目的は、複数の有機ＥＬ素子を用いて大型パネルを形成する際に、その接合部が視覚的に認識されないような構造を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の表示装置は、複数の有機ＥＬ素子を用いて形成される、大型化に適した構造を有する表示装置であって、ａ）複数種の副画素から形成される画素、および前記複数種の副画素の間および前記画素の周囲に設けられるブラックマトリクスが整列されている色変換フィルタと、ｂ）複数の有機ＥＬ素子とを含み、前記複数種の副画素は複数種の色変調部から形成され、前記複数の有機ＥＬ素子が貼り合せられて１つの表示素子を形成していることを特徴とする。ここで、前記色変換フィルタは、一体の構造を有してもよい。また、前記有機ＥＬ素子の貼り合わせによる接合部が、前記色変換フィルタのブラックマトリクスに相当する位置にある構造を有することが望ましい。さらに、有機ＥＬ素子の横方向の接合部端面に反射防止材料を設けてもよい。
【００１０】
本発明の表示装置の種々の態様として、１）画素が赤色、青色および緑色の３種の副画素から構成され、前記有機ＥＬ素子の横方向の接合部に隣接する副画素が、赤色および青色からなる群から選択される表示色を有する構成；２）有機ＥＬ素子の横方向の接合部に隣接する副画素が、その他の副画素よりも小さい寸法を有する構成；または、３）画素が赤色、青色および緑色の３種の副画素から構成され、前記緑色の副画素は前記青色および赤色の副画素よりも小さい寸法を有し、および前記緑色の副画素に隣接するブラックマトリクスの領域に前記有機ＥＬ素子の横方向の接合部が配置されている構成を採ることが可能である。
【発明の効果】
【００１１】
以上に記載した本発明の構成を採ることによって、ＣＣＭ方式の特徴である色変調部（色変換層および／またはカラーフィルタを含む）をフォトプロセスで大型の１枚基板上に形成して大型の色変換フィルタを作製し、色変換フィルタとは別に、真空成膜プロセスを用いて小型の有機ＥＬ素子を大型パネルに必要な複数枚で構成して、それらを重ね合わせることで大型ディスプレイパネルを実現することが可能になる。すなわち、基板の大型化に適応可能なフォトプロセスと、基板の大型化に制限を受ける真空成膜プロセスとを分離して製作することによって、大型のディスプレイパネルを効率よく作製することが可能となる。
【００１２】
また、複数の有機ＥＬ素子を貼り合わせる際に発生するおそれがある素子の整列の乱れに関して、その接合部に隣接する副画素を適切に選択すること、接合部に隣接する副画素を小型化することによって整列の乱れに対する許容度を向上させることによって、接合部の視覚的認識を防止することが可能となる。また、有機ＥＬ素子の接合部に反射防止材料を設けることによっても、接合部の視覚的認識を防止することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の表示装置の一例を図１に示す。図１の構成においては、色変換フィルタ１と、複数の有機ＥＬ素子２（図１においては４個の例を示した）とを組み合わせることによって表示装置が構成されている。
【００１４】
色変換フィルタ１は、表示装置の表示面に相当する面積において一体として形成されており、および該表示面において複数種の副画素から形成される画素が全面にわたって整列されており、各副画素の間の領域および各画素間の領域にブラックマトリクスが設けられている。図４に示すように、色変換フィルタ１は、透明基板１１０と、透明基板１１０上に設けられる複数種の色変調部およびブラックマトリクス１３０と、色変調部およびブラックマトリクスを覆って形成される保護層１４０とを含む。色変調部のそれぞれは、カラーフィルタ層１２２、色変換層１２４またはカラーフィルタ層１２２／色変換層１２４の積層体から構成される。色変調部のそれぞれが副画素１２０に相当する。図４においては、赤色副画素１２０Ｒ、緑色副画素１２０Ｇ、青色副画素１２０Ｂの３色の場合を示したが、２種類または４種類以上の色変調部を用いてもよいことはいうまでもない。また、後述するように、色変換フィルタ１を構成するためのカラーフィルタ層１２２、色変換層１２４およびブラックマトリクスのパターニングは一般的な画像様露光−湿式現像の方法を用いて行うことができる。したがって、大型のディスプレイパネルを形成するのに必要な大きさの基板を用いて、比較的簡便な工程によって大型の色変換フィルタ１を形成することが可能である。
【００１５】
色変換フィルタ１においては、複数種の副画素１２０が１つの画素を形成するように配置される。画素は、略正方形の形状を有するように形成されることが好ましい。したがって、各画素中には、略矩形の形状を有する副画素１２０を整列させることが好ましい。本発明において、「横方向」とは副画素１２０の矩形形状の短辺の方向を意味し、「縦方向」とは副画素１２０の矩形形状の長辺の方向を意味する。
【００１６】
図４においては、トップエミッション方式のアクティブマトリクス駆動型の有機ＥＬ素子の例を示した。複数の有機ＥＬ素子２は、基板２１０上に複数のスイッチング素子２２０が設けられ、複数のスイッチング素子２２０に１対１で対応する複数の第１電極２３０が設けられている。複数の第１電極２３０の上に有機ＥＬ層２４０が設けられ、その上に一体として形成される第２電極２５０が形成されている。また、後述するように、本発明における有機ＥＬ素子としてパッシブマトリクス駆動型素子を使用することも可能である。また、本発明に用いられる有機ＥＬ素子２は、図４に示したような第２電極２５０側から光を取り出すトップエミッション方式を採用してもよいし、あるいは基板２１０側から光を取り出すボトムエミッション方式を採用してもよい。ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子を用いる場合、有機ＥＬ層２４０などの層を周囲環境から保護するために、色変換フィルタ１への組み合わせの後、色変換フィルタ１周辺部において接着層を用いて接着される封止缶または封止樹脂などを用いて、有機ＥＬ素子を周囲環境から隔離することが望ましい。
【００１７】
有機ＥＬ素子２は、色変換フィルタ１の表示面に相当する面積を形成するのに足る複数枚を準備する。このような構成を採って有機ＥＬ素子２を小型化することは、以下の利点を有する。有機ＥＬ素子の製作は、真空中での蒸着および／またはスパッタなどの作業を伴うため、真空装置の大きさなどから基板２１０のサイズに制約がある。有機ＥＬ素子２を小型化することによって、そのような制約を回避することができ、また、基板２１０全面にわたって均一な特性を有する発光部を形成することが容易になるという利点を有するのである。さらに、大きな真空装置の使用を回避できることから、有機ＥＬ素子２の製造コストを低減させることも可能となる。一方、色変換フィルタ１については、真空中の操作が不要であるので、上記のような制限がなく大型のものを容易に作製することができる。
【００１８】
複数の有機ＥＬ素子２を貼り合わせて１つの表示素子とし、さらに１つの色変換フィルタ１と組み合わせることによって、本発明の表示装置を形成することができる。貼り合わせの際に、複数の有機ＥＬ素子２を電気的に接続して一体として制御するようにしてもよい。ワイヤボンディングなどの当該技術において知られている任意の方法、あるいはバイアを経由した裏面上での接続などを用いて隣接する２つの有機ＥＬ素子を電気的に接続することができる。あるいはまた、それぞれの有機ＥＬ素子２を電気的に接続せずに独立的に制御できるようにしてもよい。
【００１９】
１つの色変換フィルタ１と複数の有機ＥＬ素子２とを組み合わせて形成される本発明の表示装置において、その表示面は、一体に形成される色変換フィルタ１の基板１１０の表面である。したがって、本発明の表示装置の表示面は、正面視点においても、斜め視点においても、その表示面の歪みによって接合部が視覚的に認識されることはない。
【００２０】
図５に、本発明により得られる表示装置（図１中に５００として示される接合領域）を色変換フィルタ側から見た上面図を示す。図５においては、４個の有機ＥＬ素子２ａ〜２ｄが横方向接合部２７０と縦方向接合部２８０とにおいて貼り合わせられており、色変換フィルタ１の色変調部に相当する赤色副画素１２０Ｒ、緑色副画素１２０Ｇおよび青色副画素１２０Ｂが確定されており、３種の副画素が組み合わせられた１つの画素を形成している。副画素が設けられていない部分には、ブラックマトリクス１３０が設けられている。図５から分かるように、有機ＥＬ素子の接合部（横方向接合部２７０および縦方向接合部２８０）は、色変換フィルタ１のブラックマトリクス１３０に相当する位置に配置される。また、４個の有機ＥＬ素子２ａ〜２ｄのそれぞれに設けられている複数の発光部のそれぞれは、対応する副画素１２０と同等の寸法を有する。
【００２１】
有機ＥＬ素子２の貼り合わせにおいては、いくつかの有機ＥＬ素子２が所定の位置からずれて貼り合わせられる恐れがある。そのように有機ＥＬ素子のずれが発生した場合でも、本発明の表示装置においては、色変換層１２４における光源からの光の波長分布変換を行う色変換色素からの光の放出が無指向性かつ拡散的であるために、色変換層１２４の下に発光部が存在しない領域が形成されたとしても、その他の部分から拡散される光によって該領域からも光が放射され、正常な副画素と同様に全面から光が放射され、視覚的に認識可能なほどの光強度および（画素全体としての発光の）色相の変化が発生することがない。また、後述するように本発明の表示装置の青色副画素１２０Ｂにおいて色変換層１２４を用いない場合が可能であるが、その場合でも青色光は肉眼に対する比視感度が低いために、副画素中に発光部が存在しない領域が形成されたとしても、視覚的に認識されるほどの影響を光強度および色相に与えることはない。さらに、本発明の表示装置においては、表示面である基板１１０の表面に接近して光拡散性の色変換層１２４が設けられているため、光源が表示面から離れて配置され色変換層を持たない液晶ディスプレイおよびカラーフィルタ方式ＥＬディスプレイに比較して、視野角依存性が低いというさらなる利点がある。
【００２２】
本発明の１つの態様において、図５に示すように、横方向接合部２７０に隣接する副画素は、赤色副画素１２０Ｒおよび青色副画素１２０Ｂとすることが望ましい。なぜなら、これらの副画素から発せられる赤色光および青色光は肉眼に対する比視感度が低いために、副画素１２０（ＲまたはＢ）と発光部とのずれが発生したとしても、前述の色変換層１２４の拡散効果とあいまって、接合部が視覚的に認識されることを防止することができる。
【００２３】
本発明の別の態様において、図７に示すように横方向接合部２７０に隣接する副画素を、他の部分の副画素１２０よりも小さい寸法を有する小型副画素１７０とすることができる。図７においては、赤色および青色の小型副画素１７０を設けた場合を示し、および有機ＥＬ素子２ａの発光部２９０の内、横方向接合部２７０に隣接するもののみを示した。小型副画素１７０は、他の部分の副画素１２０の面積の４０〜７５％の面積を有することが望ましい。より好ましくは、小型副画素１７０は矩形形状を有し、その短辺は他の部分の副画素１２０の短辺の５０〜８０％の寸法を有し、その長辺は他の部分の副画素１２０の長辺の８０〜１００％の寸法を有することが望ましい。ここで、２色の小型副画素１７０のそれぞれ（図７においては赤色および青色）は、駆動時にそこから発せられる光の強度とその面積との積が、他の部分の同色の副画素１２０におけるものと同等になるような電流を流すように作働される。このような小型副画素１７０を有機ＥＬ素子２の接合部（特に横方向接合部２７０）に隣接して設けることによって、接合部に相当する位置のブラックマトリクスの幅を大きくして、有機ＥＬ素子の貼り合わせのずれに対する接合部に隣接する副画素の許容度を大きくすることができる。すなわち、多少のずれが発生したとしても、小型副画素１７０はその下にある発光部２９０の領域内となり、小型副画素１７０から発せられる光強度は影響を受けない。したがって、接合部に隣接する画素全体としても、発せられる光の光強度および色相は影響を受けず、接合部の視覚的な認識を防止することが可能となる。
【００２４】
本発明の別の態様において、図６に示すように、色変換フィルタ全体にわたって緑色副画素を小型副画素１７０Ｇとし、有機ＥＬ素子２の横方向接合部２７０は、緑色小型副画素１７０Ｇに隣接するブラックマトリクスの位置に配置される。図６においては、有機ＥＬ素子２ａの発光部２９０の内、横方向接合部２７０に隣接するもののみを図示した。本態様における小型副画素の寸法は、前述と同様であってもよい。この構成を採ることによって、肉眼に対して比視感度の高い緑色小型副画素１７０Ｇに関して、有機ＥＬ素子貼り合わせ時のずれに対する緑色副画素の許容度を、接合部に相当する位置のブラックマトリクスの幅の拡大による接合部における向上のみならず、表示装置全体にわたって向上させ、副画素の有効面積が変化しないようにすることができる。もしずれが発生した場合でも、緑色小型副画素１７０Ｇから発せられる光の光強度は変化せず、かつ青色副画素１２０Ｂまたは赤色副画素１２０Ｒが接続部に隣接するが、それらが発する光の比視感度が低いために画素全体としての色相もほとんど影響を受けない。したがって、接合部における光強度および／または色相の変化によって、接合部が視覚的に認識されることはない。
【００２５】
本発明の別の態様において、図８に示すように、色変換フィルタ全体にわたって全ての種類の副画素を小型副画素１７０とする。図８においては、有機ＥＬ素子２ａの発光部２９０の内、横方向接合部２７０に隣接するもののみを図示した。このような構成とすることによって、全種の副画素に関して、有機ＥＬ素子貼り合わせ時のずれに対する副画素の許容度を向上させ、副画素の有効面積が変化しないようにすることができる。もしずれが発生した場合でも、それぞれの小型副画素１７０から発せられる光の光強度は変化せず、したがって画素全体としての色相もほとんど影響を受けない。この効果によって、接合部における光強度および／または色相の変化にる接合部の視覚的認識を防止することができる。
【００２６】
上記のいずれの態様においても、色変換フィルタ１に特定の角度を持って入射した外光が有機ＥＬ素子２の接合部端面において反射するために、接合部が視覚的に認識される恐れがある。貼り合わせの際に形成される接合部端面における反射を防止するために、図９に示すように、有機ＥＬ素子２の接合部端面に反射防止材料を設けることができる。たとえば、反射防止材料としては、可視光の波長領域でガラスの屈折率に近い屈折率を有する紫外線硬化型接着剤、高分子接着剤を用いることができる。用いられるガラスの屈折率は１．５〜１．６程度であり、接着剤としては紫外線硬化型接着剤であるＡＶＲ２００（スリーボンド社製、屈折率１．５６）またはＸＮＲ５６２３（ナガセケムテックス株式会社製、屈折率１．５７）を用いることができる。あるいはまた、反射防止材料としてフィルム状樹脂を使用してもよい。用いることができるフィルム樹脂は、その屈折率とガラスの屈折率との差がガラスの屈折率の５％以下であることが好ましい。フィルム状樹脂は、ポリエステル、ポリエチレン、セロハン、ポリエチレンラミネートセロハン、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、またはポリカーボネートから作製することができる。
【００２７】
以下、本発明の色変換フィルタ１の構造を詳細に示す。透明基板１１０は、可視光（波長４００〜７００ｎｍ）、好ましくは色変調部１２０によって変換された光に対して透明であることが必要である。また、透明基板１１０は、色変調部１２０および他の必要に応じて設けられる層（後述）の形成に用いられる条件（溶媒、温度等）に耐えるものであるべきであり、さらに寸法安定性に優れていることが好ましい。透明基板１１０の材料として好ましいものは、ガラス、ならびにポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート等の樹脂を含む。ホウケイ酸ガラスまたは青板ガラス等が特に好ましいものである。
【００２８】
色変調部１２０のそれぞれは、カラーフィルタ層１２２、色変換層１２４またはカラーフィルタ層１２２／色変換層１２４の積層体から構成される。２種またはそれ以上の種類の色変調部を設けることができるが、好ましくは３種の色変調部、より好ましくは混合により白色を演色できる３種の色変調部、最も好ましくは、赤色変調部１２０Ｒ、緑色変調部１２０Ｇ、青色変調部１２０Ｂを設けることが望ましい。
【００２９】
色変調部１２０に用いられるカラーフィルタ層１２２は、光源として用いる有機ＥＬ素子２の有機ＥＬ層２４０を発した光および／または色変換層１２４で波長分布変換された光の特定の波長域の成分のみを透過させ、色純度の高い出力光を得るための層である。カラーフィルタ層１２２は、液晶ディスプレイ等、フラットパネルディスプレイに用いられるカラーフィルタ材料を用いて形成することができ、近年はフォトレジストに顔料を分散させた、顔料分散型カラーフィルタ材料が広く用いられてきている。本発明においては、好ましくは、４００ｎｍ〜５５０ｎｍの波長を透過する青色カラーフィルタ層１２２Ｂ、５００ｎｍ〜６００ｎｍの波長を透過する緑色カラーフィルタ層１２２Ｇ、６００ｎｍ以上の波長を透過する赤色カラーフィルタ層１２２Ｒを用いることができる。
【００３０】
本発明において、色変換層１２４は、有機ＥＬ素子２の有機ＥＬ層２４０を発した光の波長分布変換を行って、所望される波長域の成分を含む光へと変換するための層である。赤色変換層１２４Ｒは、近紫外領域ないし可視領域、特には青色ないし青色領域の光を吸収して赤色領域の光に変換するための赤色変換色素を含む。また、緑色変換層１２４Ｇは、近紫外領域ないし可視領域、特には青色ないし青色領域の光を吸収して緑色領域の光に変換するための緑色変換色素を含む。さらに、青色変換層１２４Ｂは、近紫外領域の光を吸収して青色領域の光に変換するための青色変換色素を含む。これらの色変換層１２４は、複数種の変換色素を含んでいてもよい。たとえば、赤色変換層１２４Ｒが、青色領域の光を緑色領域の光に変換する変換色素および緑色領域の光を赤色領域の光に変換する色素を含んで、全体的な色変換の効率を向上させてもよい。
【００３１】
青色から青緑色領域の光を吸収して、赤色領域の光を発する赤色変換色素としては、例えばローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ローダミン３Ｂ、ローダミン１０１、ローダミン１１０、スルホローダミン、ベーシックバイオレット１１、ベーシックレッド２などのローダミン系色素、シアニン系色素、１−エチル−２−〔４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１３−ブタジエニル〕−ピリジウム−パークロレート（ピリジン１）などのピリジン系色素、あるいはオキサジン系色素などが挙げられる。
【００３２】
青色ないし青緑色領域の光を吸収して、緑色領域の光を発する緑色変換色素としては、例えば３−（２’−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（クマリン６）、３−（２’−ベンゾイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン７）、３−（２’−Ｎ−メチルベンゾイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン３０）、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジン（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）などのクマリン系色素、あるいはクマリン色素系染料であるベーシックイエロー５１、さらにはソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６などのナフタルイミド系色素などが挙げられる。
【００３３】
上記の色変調部１２０（カラーフィルタ１２２および色変換層１２４のそれぞれ）は、スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法などを用いて各層の材料を塗布し、続いてフォトリソグラフ法などを用いてパターニングすることによって形成することができる。
【００３４】
本発明において、有機ＥＬ層２４０が青色ないし青緑色の光を発し、かつ十分な量の青色領域の成分を含んでいる場合、青色変換層１２４Ｂを用いなくてもよい。その場合には、青色フィルタ層１２２Ｂを通して色純度を向上させた青色光を発することが可能である。
【００３５】
透明基板１１０の表示領域のうち、色変調部１２０を形成しなかった部分にはブラックマトリクス１３０が設けられる。すなわち、各副画素の間の領域および各画素の周囲にブラックマトリクス１３０が設けられる。ブラックマトリクス１３０は黒色材料から形成され、表示装置内部への外光入射を制限して、コントラスト比を向上させ、および有機ＥＬ素子２の接合部の視覚的認識を防止するのに有効な層である。ブラックマトリクス１３０は、液晶ディスプレイ等、フラットパネルディスプレイに慣用的に用いられる材料を用いて形成することができる。ブラックマトリクス１３０は、スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法などを用いて各層の材料を塗布し、続いてフォトリソグラフ法などを用いてパターニングすることによって形成することができる。あるいはまた、スクリーン印刷法を用いてブラックマトリクス１３０を形成してもよい。
【００３６】
必要に応じて、色変調部１２０およびブラックマトリクス１３０を覆うように保護層１４０を形成してもよい。保護層１４０は、色変調部１２０およびブラックマトリクス１３０によって形成される凹凸を平坦化し、かつ色変調部１２０を周囲環境および有機ＥＬ素子２から隔離するためのするための層である。保護層１４０を形成するのに用いることができる有機材料は、たとえば、イミド変性シリコーン樹脂（たとえば特許文献３〜５参照）、アクリル、ポリイミドまたはシリコーン樹脂中に分散された無機金属化合物（ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２など、特許文献６、７参照）、エポキシ変性アクリレート樹脂、反応性ビニル基を含むアクリレートモノマー／オリゴマー／ポリマーのような紫外線硬化型樹脂（特許文献８参照）、レジスト樹脂（特許文献９〜１２参照）、無機化合物（ゾル−ゲル法により形成されてもよい、特許文献１３参照）、フッ素系樹脂などの光硬化型および／または熱硬化型樹脂（特許文献１２、１４参照）を含む。上記のような材料から保護層１４０を形成する際には、たとえば、乾式法（スパッタ法、蒸着法、ＣＶＤ法など）、および湿式法（スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法など）などの、当該技術において知られている任意の方法を用いてもよい。
【００３７】
さらに必要に応じて、保護層１４０の上にパッシベーション層を形成してもよい。パッシベーション層は、可視域における高い透明性（４００〜７００ｎｍの範囲において透過率５０％以上）、１００℃以上のＴｇ、鉛筆硬度２Ｈ以上の表面硬度を示す材料であって、ガスおよび水蒸気を遮断することができる材料から選択することができる。パッシベーション層を形成するのに好ましい材料は、ＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、ＳｉＮｘＯｙ、ＡｌＯｘ、ＴｉＯｘ、ＴａＯｘ、ＺｎＯｘなどの無機酸化物または無機窒化物を含む。パッシベーション層は、前述の無機酸化物または無機窒化物の単一層であってもよく、あるいはそれらの複数を積層した積層構造を採ってもよい。パッシベーション層の形成には、乾式法（スパッタ法、蒸着法、ＣＶＤ法など）、および湿式法（スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法、ゾルゲル法など）などの、当該技術において知られている任意の方法を用いることができる。
【００３８】
次に、本発明の有機ＥＬ素子２の構造を詳細に示す。
【００３９】
基板２１０は、透明であっても不透明であってもよく、積層される層の形成に用いられる条件（溶媒、温度等）に耐えるものであるべきであり、および寸法安定性に優れていることが好ましい。好ましい材料は、金属、セラミック、ガラス、シリコンなど半導体、ならびにポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート等の樹脂を含む。あるいはまた、ポリオレフィン、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂またはポリイミド樹脂などから形成される可撓性フィルムを、基板として用いてもよい。有機発光層からの発光を基板２１０の側から取り出すボトムエミッション方式を採用する場合には、基板１０は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して５０％以上の透過率を有することが好ましい。透明な基板１０としては、ガラス、シリコン、ならびにポリエチレンテレフタレートおよびポリメチルメタクリレート等の樹脂を用いることが好ましく、ホウケイ酸ガラスまたは青板ガラスを用いることがより好ましい。
【００４０】
複数のスイッチング素子２２０は、複数の第１電極２３０のそれぞれと１対１で接続され、副画素の点灯／消灯を制御するための素子である。スイッチング素子は、たとえば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）またはＭＩＭなどの素子を用いて形成することができる。
【００４１】
第１電極２３０は、複数の部分から構成され、有機ＥＬ層２４０に対してキャリア（正孔または電子のいずれか）を注入するための電極である。
【００４２】
有機ＥＬ層２４０からの発光を第２電極２５０側から取り出すトップエミッション方式を採用する場合には、第１電極２５０は、反射性を有することが好ましい。反射性を有する第１電極２５０は、高反射率の金属、アモルファス合金または微結晶性合金と、導電性金属酸化物とを積層することによって形成することができる。導電性金属酸化物は、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ：Ａｌなどを含み、正孔注入効率を向上させるために設けることが望ましい層である。高反射率の金属は、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｒなどを含む。高反射率のアモルファス合金は、ＮｉＰ、ＮｉＢ、ＣｒＰおよびＣｒＢなどを含む。高反射率の微結晶性合金は、ＮｉＡｌなどを含む。高反射率の金属、アモルファス合金または微結晶性合金は、蒸着、スパッタなどの当該技術において知られている任意の方法で形成することができる。トップエミッション方式を採用する場合にも、第１電極２５０を陰極として用いることが可能である。この場合には第１電極２５０は、前述の高反射率の金属、アモルファス合金または微結晶性合金から形成される。あるいはまた、高反射率の金属と仕事関数の小さい金属との合金（たとえばＭｇ／Ａｇ合金など）を用いて第１電極２５０を形成してもよい。第１電極２５０を陰極として用いる場合、陰極の有機ＥＬ層２４０との界面に電子注入性のバッファ層を設けて、電子注入効率を向上させることが望ましい。
【００４３】
バッファ層の材料としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、またはＣｓなどのアルカリ金属、Ｂａ、Ｓｒなどのアルカリ土類金属またはそれらを含む合金、希土類金属、あるいはそれら金属のフッ化物などの用いることができるが、それらに限定されるものではない。バッファ層の膜厚は、駆動電圧および透明性等を考慮して適宜選択することができるが、通常の場合には１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００４４】
ボトムエミッション方式を採用する場合には、第１電極２３０は、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ：Ａｌなどの導電性金属酸化物から形成される。導電性金属酸化物をスパッタ法を用いて積層することにより第１電極２３０を形成することができる。ボトムエミッション方式を採用する場合、第１電極２３０は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して好ましくは５０％以上、より好ましくは８５％以上の透過率を有することが好ましい。第１電極２３０は、通常５０ｎｍ以上、好ましくは５０ｎｍ〜１μｍ、より好ましくは１００〜３００ｎｍの範囲内の厚さを有することが望ましい。ボトムエミッション方式において第１電極２３０を陰極として用いることも可能である。この場合には、陰極の有機ＥＬ層２４０との界面に前述のバッファ層を設けて、電子注入効率を向上させることが望ましい。
【００４５】
第２電極２５０は、一体として形成される共通電極であり、有機ＥＬ層２４０に対してキャリア（正孔または電子のいずれか）を注入するための電極である。
【００４６】
トップエミッション方式を採用する場合、第２電極２５０は有機ＥＬ層２４０からの発光に対する透明性が要求される。この場合には、第２電極２５０は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して好ましくは５０％以上、より好ましくは８５％以上の透過率を有することが好ましい。第２電極２５０は、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ：Ａｌなどの導電性金属酸化物から形成される。第２電極２５０を陰極として用いる場合には、陰極の有機ＥＬ層２４０との界面に前述のバッファ層を設けて、電子注入効率を向上させることが望ましい。
【００４７】
ボトムエミッション方式を採用する場合、第２電極２５０は反射性電極である。この場合、第２電極２５０は、前述の高反射率の金属、アモルファス合金または微結晶性合金から形成される。あるいはまた、第２電極２５０が陰極である場合、高反射率の金属と仕事関数の小さい金属との合金（たとえばＭｇ／Ａｇ合金など）を用いて第２電極２５０を形成してもよい。第２電極２５０を陰極として用いる場合、陰極の有機ＥＬ層との界面に前述のバッファ層を設けて、電子注入効率を向上させることが望ましい。また、ボトムエミッション方式を採用する場合に、第２電極２５０を陽極として用いることもできる。この場合には、前述の導電性金属酸化物と、反射性金属等との積層構造とすることが望ましい。導電性金属酸化物は、有機ＥＬ層側に配置されて正孔注入効率を向上させるために用いられる。
【００４８】
第１電極２３０および第２電極２５０に挟持される有機ＥＬ層２４０は、有機発光層を少なくとも含み、必要に応じて正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層および／または電子注入層を含む。これらの各層は、それぞれにおいて所望される特性を実現するのに充分な膜厚を有して形成される。たとえば、下記のような層構成からなるものが採用される。
（１）有機発光層
（２）正孔注入層／有機発光層
（３）有機発光層／電子注入層
（４）正孔注入層／有機発光層／電子注入層
（５）正孔輸送層／有機発光層／電子注入層
（６）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層
（７）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層／電子注入層
（上記の構成において、陽極として機能する電極が左側に接続され、陰極として機能する電極が右側に接続される）
【００４９】
有機発光層の材料は、所望する色調に応じて選択することが可能であり、例えば青色から青緑色の発光を得るためには、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、スチリルベンゼン系化合物、または芳香族ジメチリデイン系化合物などの１つまたは複数の材料を使用することが可能である。あるいはまた、前述の材料をホスト材料として用い、これにドーパントを添加することによって有機発光層を形成してもよい。ドーパントとして用いることができる材料としては、たとえばレーザ色素としての使用が知られているペリレン（青色）などを用いることができる。
【００５０】
電子輸送層の材料としては、ＰＢＤ、ＴＰＯＢのようなオキサジアゾール誘導体；ＴＡＺのようなトリアゾール誘導体；トリアジン誘導体；フェニルキノキサリン類；ＢＭＢ−２Ｔ、ＢＭＢ−３Ｔのようなチオフェン誘導体；アルミニウムトリス（８−キノリノラート）（Ａｌｑ３）のようなアルミニウム錯体などを用いることができる。
【００５１】
電子注入層の材料としては、Ａｌｑ３のようなアルミニウム錯体、アルカリ金属ないしアルカリ土類金属をドープしたアルミニウム錯体、あるいはアルカリ金属ないしアルカリ土類金属を添加したバソフェナントロリンなどを用いることができる。
【００５２】
正孔注入層の材料としては、フタロシアニン（Ｐｃ）類（銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）などを含む）またはインダンスレン系化合物などを用いることができる。
【００５３】
正孔輸送層の材料としては、トリアリールアミン部分構造、カルバゾール部分構造、オキサジアゾール部分構造を有する材料（たとえばＴＰＤ、α−ＮＰＤ、ＰＢＤ、ｍ−ＭＴＤＡＴＡなど）を用いることができる。
【００５４】
前述の有機ＥＬ層２４０を構成する各層は、蒸着（抵抗加熱または電子ビーム加熱）などの当該技術において知られている任意の手段を用いて形成することができる。
【００５５】
なお、上記の説明においては、スイッチング素子２２０を用いたアクティブマトリクス駆動型の有機ＥＬ素子について説明したが、本発明においてはパッシブマトリクス駆動型有機ＥＬ素子を用いることも可能である。パッシブマトリクス駆動型有機ＥＬ素子は、基板２１０上に、第１の方向に延びる複数のストライプ形状部分からなる第１電極２３０を形成し、その上に有機ＥＬ層２４０を形成し、さらに第２の方向に延びる複数のストライプ形状部分からなる第２電極２５０を形成することによって得ることができる。ここで、第１の方向と第２の方向とは互いに交差する方向であり、好ましくは直交する方向である。基板２１０、第１電極２３０、有機ＥＬ層２４０、第２電極２５０を形成する材料は、前述のものを用いることができる。
【００５６】
必要に応じて、第２電極２５０以下の構造を覆うようなＥＬ素子パッシベーション層を設けてもよい。ＥＬ素子パッシベーション層は、ガスおよび水蒸気を遮断することによって有機ＥＬ層の機能劣化を防止するのに有効であり、ＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、ＳｉＮｘＯｙ、ＡｌＯｘ、ＴｉＯｘ、ＴａＯｘ、ＺｎＯｘなどの無機酸化物材料または無機窒化物材料を用いて形成することができる。ＥＬ素子パッシベーション層は、前述の無機酸化物または無機窒化物の単一層であってもよく、あるいはそれらの複数を積層した積層構造を採ってもよい。ＥＬ素子パッシベーション層の形成には、乾式法（スパッタ法、蒸着法、ＣＶＤ法など）、および湿式法（スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法、ゾルゲル法など）などの、当該技術において知られている任意の方法を用いることができる。
【実施例】
【００５７】
（実施例１）
４０インチのＳＶＧＡ規格（８００×６００画素、各画素はＲＧＢの副画素から構成される）のディスプレイの作製を行った。本実施例では、４００×３００画素に相当する１２００×３００の発光部を有する有機ＥＬ発光素子（２０インチ）を４枚用いた。ＲＧＢ各副画素のサイズを０．１４８×０．７０４ｍｍ、副画素間の間隔は０．１３０ｍｍとした。したがって、画素サイズは０．７０４ｍｍ×０．７０４ｍｍであり、画素間隔は０．３１２ｍｍであり、画素ピッチは１．０１６ｍｍであった。
【００５８】
最初に２０インチ有機ＥＬ素子（４００×３００画素相当）を形成した。
【００５９】
最初に、コーニングガラス基板上に、第１電極の補助電極部として、抵抗率１．５×１０−５［Ω・ｃｍ］のＭｏを膜厚３００ｎｍ、幅１００μｍで堆積させた。Ｍｏの成膜にはＤＣマグネトロンスパッタ法を用い、Ｍｏ上にレジスト剤「ＯＦＲＰ−８００」（商品名、東京応化製）を塗布した後、フォトリソグラフィー法にてパターニングを行った。
【００６０】
次に、スパッタ法にてＩＴＯを全面成膜した。そしてＩＴＯ上にレジスト剤「ＯＦＲＰ−８００」（商品名、東京応化製）を塗布した後、フォトリソグラフィー法にてパターニングを行い、ＲＧＢ副画素に位置する、幅０．２０４ｍｍ、間隙０．０７４ｍｍ、膜厚１００ｎｍの縦方向に延びるストライプパターンからなる第１電極を形成した。本実施例においては、第１電極を陽極として用いた。
【００６１】
次に、ポジ型フォトレジスト［ＷＩＸ−２Ａ］（商品名、日本ゼオン製）を用いて、前記副画素に対応する開口部を除いて、基板面全面に厚さ１μｍの絶縁膜を形成した。絶縁膜端部の基板面に対する角度は鋭角となっている。
【００６２】
本実施例では、絶縁膜としてポジ型フォトレジストを用いたが、他にアクリレート等のネガ型のフォトレジストや、ポリイミド材料、ＳｉＯｘ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉＮｘ、ＴｉＯｘ等の無機酸化膜を用いることができる。
【００６３】
絶縁膜の膜厚は、パネル駆動時に印加される電圧から算出される絶縁耐圧を持つ必要がある。本実施例に用いたポジ型フォトレジストではおよそ８００ｎｍ以上の膜厚で形成することにより十分な絶縁耐圧を持つことができた。
【００６４】
次に、ネガ型フォトレジスト［ＺＰＮ１１００］（商品名、日本ゼオン製）を用いて、隣接する画素間の中央に配置され、横方向（第１電極のストライプパターンと直交する方向）に延びるストライプパターンからなる厚さ４μｍの隔壁を形成した。隔壁の幅は、画素間隙の間隔以下、好ましくは（画素間隙の間隔）−５０μｍ以下であり、１００μｍ以上であればよい。本実施例では、隔壁は逆テーパの断面形状を有し、隔壁の頂部幅は２３０μｍであり、底部幅１３０μｍであり、底部におけるピッチは１．０１６ｍｍである。
【００６５】
次いで、隔壁を形成した基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層および電子注入層を真空を破らずに順次成膜した。成膜に際して真空槽内圧は１×１０−４Ｐａまで減圧した。正孔注入層として膜厚１００ｎｍの銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を積層した。正孔輸送層として膜厚２０ｎｍの４，４’−ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ〕ビフェニル（α−ＮＰＤ）を積層した。ホスト物質として４，４’−ビス（２，２’−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）、ゲスト物質として４，４’−ビス［２−｛４−（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）フェニル｝ビニル］ビフェニル（ＤＰＡＶＢｉ）を用いて膜厚３０ｎｍの有機発光層を積層した。電子注入層として膜厚２０ｎｍのアルミニウムトリス（８−キノリノラート）（Ａｌｑ３）を積層した。
【００６６】
引き続いて、真空を破ることなしにメタルマスクを用いて、厚さ２００ｎｍのＭｇ／Ａｇ（１０：１の重量比率）を堆積させて、陰極として用いる第２電極を形成した。第２電極は前述の隔壁によって分離され、幅０．７８６ｍｍ、間隙０．２３０ｍｍの横方向に延びるストライプパターンから形成された。
【００６７】
最後に、表示部を含んで、２０インチサイズ（４０６．４ｍｍ×３０４．８ｍｍ）に基板から切り出し、４枚の有機ＥＬ素子を得た。
【００６８】
次に、４０インチの一体型の色変換フィルタを作製した。
【００６９】
透明基板としてのコーニングガラス（８４５ｍｍ×６４５ｍｍ×１．１ｍｍ）上に、スピンコート法を用いて黒色色素を含むレジスト樹脂を塗布し、フォトリソグラフ法により、パターニングを実施し、色変調部（副画素）を形成するための開口部を残して膜厚２μｍのブラックマトリックスを形成した。
【００７０】
次に、青色フィルター材料（富士ハントエレクトロニクステクノロジー製：カラーモザイクＣＢ−７００１）をスピンコート法にて塗布後、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、幅０．１４８ｍｍ、ピッチ１．０１６ｍｍ、膜厚６μｍの縦方向に延びるストライプパターンを有する青色フィルタ層を形成して、青色変調部を得た。
【００７１】
次に、蛍光色素としてのクマリン６（０．７重量部）を溶剤のプロピレングリコールモノエチルアセテート（ＰＧＭＥＡ）１２０重量部へ溶解させた。この溶液に対して、光重合性樹脂の［Ｖ２５９ＰＡ／Ｐ５」（新日鐵化成工業株式会社）１００重量部を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を、青色フィルタ層を形成した透明基板上にスピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法により、パターニングを実施し、幅０．１４８ｍｍ、ピッチ１．０１６ｍｍ、膜厚１０μｍの縦方向に延びるストライプパターンを有する緑色変換層を形成して、緑色変調部を得た。
【００７２】
そして、蛍光色素としてのクマリン６（０．６重量部）、ローダミン６Ｇ（０．３重量部）、ベーシックバイオレット１１（０．３重量部）を溶剤のプロピレングリコールモノエチルアセテート（ＰＧＭＥＡ）１２０重量部へ溶解させた。この溶液に対して、光重合性樹脂の「Ｖ２５９ＰＡ／Ｐ５」（商品名、新日鐵化成工業株式会社）１００重量部を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を、上記の各層を形成した透明基板上に、スピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法により、パターニングを実施し、幅０．１４８ｍｍ、ピッチ１．０１６ｍｍ、膜厚１０μｍの縦方向に延びるストライプパターンを有する赤色変換層を形成して、赤色変調部を得た。
【００７３】
以上のようにＲＧＢ各色の色変調部を形成した透明基板上に、ＵＶ硬化型樹脂（エポキシ変性アクリレート）をスピンコート法にて塗布し、高圧水銀灯にて照射し、膜厚５μｍの保護層を形成して、４０インチの色変換フィルタを得た。この時、各色変調部のパターンは変形がなく、かつ保護層上面は平坦であった。
【００７４】
次に、上記で得られた４０インチサイズの色変換フィルタに、２０インチサイズの有機ＥＬ素子を４枚貼り合わせる。最初に、２０インチサイズの有機ＥＬ素子のガラス基板接合面（接合部２７０、２８０に相当する面）を、高精度な貼り合わせが可能なように高精度研磨剤で平滑に研磨仕上げした。高精度研磨剤としては、酸化セリウムまたは酸化ジルコニウムを添加した酸化セリウムを用いることができる。次に、平坦面を有する支持体を用意し、その上に有機ＥＬ素子のガラス基板を載置し、位置合わせを行い、紫外線硬化樹脂であるＡＶＲ２００（スリーボンド社製、屈折率１．５６）を用いて４枚の２０インチサイズの有機ＥＬ素子の接合面を接合した。次いで、４０インチサイズの色変換フィルタに粘性の低いアクリル系接着剤を均一に塗布した後にアライメント位置を確認しながら、上記で得られる２０インチサイズのＥＬ素子４枚からなる接合体を配置し、紫外線を照射して樹脂を硬化させた。
【００７５】
最後に、上記の組合せにより得られた色変換フィルタ／有機ＥＬ発光素子積層体の有機ＥＬ発光素子側（すなわち、両電極および有機ＥＬ層の積層体側）を、グローブボックス内の乾燥窒素雰囲気（酸素および水分濃度ともに１０ｐｐｍ以下）下において、封止缶（ガラス製または金属製のものを用いることができる）を用いて封止した。
【００７６】
得られた４０インチディスプレイは、１６〜３０Ｖの駆動電圧を印加することにより１００〜３００ｃｄ／ｍ２の輝度で発光した。
【００７７】
（実施例２）
４枚の２０インチサイズの有機ＥＬ素子からなる接合体の形成を、有機ＥＬ素子のガラス基板接合面間にポリエステルのフィルム状樹脂を挟み込んで、接着剤による接合を行うこと以外は、実施例１と同様の手順を用いて、２０インチサイズの有機ＥＬ素子４枚および４０インチサイズの色変換フィルタを用いた４０インチディスプレイを形成した。用いたポリエステルのフィルム状樹脂の厚さを２５μｍ以下とすることによって、接着剤の充填不良による有機ＥＬ素子接合端面での乱反射を防止し、有機ＥＬ素子の接合端面が視覚的に認識されるのを防止する効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本発明の表示装置を示す斜視図である。
【図２】従来技術の小型有機ＥＬパネルを用いた表示装置を示す斜視図である。
【図３】従来技術の小型有機ＥＬパネルの構造を示す断面図である。
【図４】本発明の表示装置の構造を示す断面図である。
【図５】本発明の表示装置における有機ＥＬ素子の接合部を示す上面図である。
【図６】本発明の別の態様における有機ＥＬ素子の接合部を示す上面図である。
【図７】本発明の別の態様における有機ＥＬ素子の接合部を示す上面図である。
【図８】本発明の別の態様における有機ＥＬ素子の接合部を示す上面図である。
【図９】本発明の別の態様における有機ＥＬ素子の接合部を示す断面図である。
【符号の説明】
【００７９】
１ 色変換フィルタ
２（ａ〜ｄ） 有機ＥＬ発光素子
５ 小型有機ＥＬパネル
６ ＴＦＴ
５２、２１０ 基板
５４、２２０ スイッチング素子
５６、２３０ 第１電極
５８（Ｒ，Ｇ，Ｂ） 有機ＥＬ層
６０ 分離壁
６２、２５０ 第２電極
６４ 保護層
６６ 透明シール
１１０ 透明基板
１２０（Ｒ，Ｇ，Ｂ） 色変調部（副画素）
１２２（Ｒ，Ｇ，Ｂ） カラーフィルタ層
１２４（Ｒ，Ｇ，Ｂ） 色変換層
１３０ ブラックマトリクス
１４０ 保護層
１７０（Ｒ，Ｇ，Ｂ） 小型副画素
２４０ 有機ＥＬ層
２７０ 横方向接合部
２８０ 縦方向接合部
２９０ 発光部
３００ 反射防止材料
５００ 接合領域
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数種の副画素から形成される画素、および前記複数種の副画素の間および前記画素の周囲に設けられるブラックマトリクスが整列されている色変換フィルタと、複数の有機ＥＬ素子とを含み、前記複数種の副画素は複数種の色変調部から形成され、前記複数の有機ＥＬ素子のそれぞれは前記複数種の副画素に対応する複数の発光部を有し、前記複数の有機ＥＬ素子が貼り合せられて１つの表示素子を形成していることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記色変換フィルタは、一体の構造を有することを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記有機ＥＬ素子の貼り合わせによる接合部が、前記色変換フィルタのブラックマトリクスに相当する位置にあることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記画素は赤色、青色および緑色の３種の副画素から構成され、前記有機ＥＬ素子の横方向の接合部に隣接する副画素が、赤色および青色からなる群から選択される表示色を有することを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記有機ＥＬ素子の横方向の接合部に隣接する副画素が、その他の副画素よりも小さい寸法を有することを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項６】
前記画素は赤色、青色および緑色の３種の副画素から構成され、前記緑色の副画素は前記青色および赤色の副画素よりも小さい寸法を有し、および前記緑色の副画素に隣接するブラックマトリクスの領域に前記有機ＥＬ素子の横方向の接合部が配置されていることを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項７】
前記複数種の副画素のそれぞれは、前記複数の発光部のそれぞれよりも小さい寸法を有することを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項８】
前記有機ＥＬ素子の横方向の接合部端面に反射防止材料を設けたことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項１】
複数種の副画素から形成される画素、および前記複数種の副画素の間および前記画素の周囲に設けられるブラックマトリクスが整列されている色変換フィルタと、複数の有機ＥＬ素子とを含み、前記複数種の副画素は複数種の色変調部から形成され、前記複数の有機ＥＬ素子のそれぞれは前記複数種の副画素に対応する複数の発光部を有し、前記複数の有機ＥＬ素子が貼り合せられて１つの表示素子を形成していることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記色変換フィルタは、一体の構造を有することを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記有機ＥＬ素子の貼り合わせによる接合部が、前記色変換フィルタのブラックマトリクスに相当する位置にあることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記画素は赤色、青色および緑色の３種の副画素から構成され、前記有機ＥＬ素子の横方向の接合部に隣接する副画素が、赤色および青色からなる群から選択される表示色を有することを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記有機ＥＬ素子の横方向の接合部に隣接する副画素が、その他の副画素よりも小さい寸法を有することを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項６】
前記画素は赤色、青色および緑色の３種の副画素から構成され、前記緑色の副画素は前記青色および赤色の副画素よりも小さい寸法を有し、および前記緑色の副画素に隣接するブラックマトリクスの領域に前記有機ＥＬ素子の横方向の接合部が配置されていることを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項７】
前記複数種の副画素のそれぞれは、前記複数の発光部のそれぞれよりも小さい寸法を有することを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項８】
前記有機ＥＬ素子の横方向の接合部端面に反射防止材料を設けたことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２００６−１６４６１８（Ｐ２００６−１６４６１８Ａ）
【公開日】平成１８年６月２２日（２００６．６．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−３５１５２５（Ｐ２００４−３５１５２５）
【出願日】平成１６年１２月３日（２００４．１２．３）
【出願人】（０００００５２３４）富士電機ホールディングス株式会社 (3,146)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年６月２２日（２００６．６．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年１２月３日（２００４．１２．３）
【出願人】（０００００５２３４）富士電機ホールディングス株式会社 (3,146)
【Ｆターム（参考）】
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