近接場光ヘッド及び情報記録再生装置
【課題】 本発明の目的は、小型化を図りながら近接場光を効率良く発生させることができると共に、より強力かつ高効率の磁界を発生させることである。
【解決手段】 磁気記録媒体の表面に対向するスライダの対向面上に形成され、前記対向面と一定の角度を有しながら接している複数の側面を持つと共に近接場光を発生させる近接場光発生素子と、前記近接場光発生素子の前記側面の少なくとも一側面上に形成された少なくとも一本の下部配線と、前記下部配線を覆う位置に配置された薄膜状の磁極と、前記磁極の両側のうち、前記下部配線が配置されている側とは逆側に配置された少なくとも一本の上部配線と、前記下部配線及び前記上部配線をつなぐ少なくとも1本の側面配線と前記下部配線、前記磁極及び前記上部配線のそれぞれを絶縁する絶縁層と、前記下部配線と前記上部配線とが前記側面配線で交互に直列に接続されることにより前記磁極の周囲に巻回されたコイルとを備える。
【解決手段】 磁気記録媒体の表面に対向するスライダの対向面上に形成され、前記対向面と一定の角度を有しながら接している複数の側面を持つと共に近接場光を発生させる近接場光発生素子と、前記近接場光発生素子の前記側面の少なくとも一側面上に形成された少なくとも一本の下部配線と、前記下部配線を覆う位置に配置された薄膜状の磁極と、前記磁極の両側のうち、前記下部配線が配置されている側とは逆側に配置された少なくとも一本の上部配線と、前記下部配線及び前記上部配線をつなぐ少なくとも1本の側面配線と前記下部配線、前記磁極及び前記上部配線のそれぞれを絶縁する絶縁層と、前記下部配線と前記上部配線とが前記側面配線で交互に直列に接続されることにより前記磁極の周囲に巻回されたコイルとを備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近接場光を利用して磁気記録媒体に各種の情報を超高密度で記録することが
できる近接場光ヘッド及び該近接場光ヘッドを有する情報記録再生装置に関するものであ
る。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータ機器におけるハードディスク等の容量増加に伴い、単一記録面内に
おける情報の記録密度が増加している。例えば、磁気ディスクの一枚当たりの記録容量を多くするためには、面記録密度を高くする必要がある。ところが、記録密度が高くなるにつれて、記録媒体上で１ビット当たりの占める記録面積が小さくなっている。このビットサイズが小さくなると、１ビットの情報が記録された状態のポテンシャルエネルギーが、室温の熱エネルギーに近くなり、記録した情報が熱揺らぎ等のために反転したり、消えてしまったりする等の熱減磁の問題が生じてしまう。
【０００３】
一般的に用いられてきた面内記録方式では、磁化の方向が記録媒体の面内方向に向くように磁気を記録する方式であるが、この方式では上述した熱減磁による記録情報の消失等
が起こり易い。そこで、このような不具合を解消するために、記録媒体に対して垂直な方
向に磁化信号を記録する垂直記録方式に移行しつつある。この方式は、記録媒体に対して、
単磁極を近づける原理で磁気情報を記録する方式である。この方式によれば、記録磁界が記録膜に対してほぼ垂直な方向を向く。垂直な磁界で記録された情報は、記録膜面内においてＮ極とＳ極とがループを作り難いため、エネルギー的に安定を保ち易い。そのため、この垂直記録方式は、面内記録方式に対して熱減磁に強くなっている。
【０００４】
しかしながら、近年の記録媒体は、より大量且つ高密度情報の記録再生を行いたい等の
ニーズを受けて、さらなる高密度化が求められている。そのため、隣り合う磁区同士の影
響や、熱揺らぎを最小限に抑えるために、保磁力の強いものが記録媒体として採用され始
めている。そのため、上述した垂直記録方式であっても、記録媒体に情報を記録すること
が困難になっていた。
【０００５】
そこで、この不具合を解消するために、近接場光により磁区を局所的に加熱して一時的
に保磁力を低下させ、その間に書き込みを行うハイブリッド磁気記録方式（近接場光アシ
スト磁気記録方式）が提案されている。このハイブリッド磁気記録方式は、微小領域と、近接場光ヘッドに形成された光の波長以下のサイズに形成された光学的開口との相互作用
により発生する近接場光を利用する方式である。このように、光の回折限界を超えた微小
な光学的開口、即ち、近接場光発生素子を有する近接場光ヘッドを利用することで、従来
の光学系において限界とされていた光の波長以下となる領域における領域を加熱すること
が可能となる。よって、従来の光情報記録再生装置等を超える記録ビットの高密度化を図
ることができる。
【０００６】
なお、近接場光発生素子は、上述した光学的微小開口によるものだけでなく、例えば、
ナノメートルサイズに形成された突起部により構成しても構わない。この突起部によって
も、光学的微小開口と同様に近接場光を発生させることができる。
【０００７】
上述したハイブリッド磁気記録方式による記録ヘッドとしては、各種のものが提供され
ているが、その１つとして、光スポットのサイズを縮小して記録密度の増大化を図った磁
気記録ヘッドが知られている（例えば、特許文献１及び２参照）。
【０００８】
この磁気記録ヘッドは、主に主磁極と、補助磁極と、同一平面上で螺旋状に設けられ、その螺旋の中心軸を前記主磁極が通るような構造の導体パターンが絶縁体の内部に形成されたコイル巻線と、照射されたレーザ光から近接場光を発生させる金属散乱体と、金属散乱体に向けてレーザ光を照射する平面レーザ光源と、照射されたレーザ光を集束させるレンズとを備えている。これら各構成品は、ビームの先端に固定されたスライダの先端面に取り付けられている。
【０００９】
主磁極は、一端側が記録媒体に対向した面となっており、他端側が補助磁極に接続され
ている。つまり、主磁極及び補助磁極は、１本の磁極（単磁極）を垂直方向に配置した単
磁極型垂直ヘッドを構成している。また、コイル巻線は、主磁極と補助磁極との間を一部が通過するように補助磁極に固定されている。これら主磁極、補助磁極及びコイル巻線は、全体として電磁石を構成している。
【００１０】
主磁極の先端には、金等からなる上記金属散乱体が取り付けられている。また、金属散
乱体から離間した位置に上記平面レーザ光源が配置されると共に、該平面レーザ光源と金
属散乱体との間に上記レンズが配置されている。
【００１１】
上述した各構成品は、スライダの先端面側から、補助磁極、コイル巻線、主磁極、金属
散乱体、レンズ、平面レーザ光源の順に取り付けられている。
【００１２】
このように構成された磁気記録ヘッドを利用する場合には、近接場光を発生させると同
時に記録磁界を印加することで、記録媒体に各種の情報を記録している。
【００１３】
即ち、平面レーザ光源からレーザ光を照射させる。このレーザ光は、レンズによって集
束され、金属散乱体に照射される。すると金属散乱体は、内部の自由電子がレーザ光の電
場によって一様に振動させられるのでプラズモンが励起されて先端部分に近接場光を発生
させる。その結果、記録媒体の磁気記録層は、近接場光によって局所的に加熱され、一時
的に保磁力が低下する。
【００１４】
また、上記レーザ光の照射と同時に、コイル巻線の導体パターンに駆動電流を供給する
ことで、主磁極に近接する記録媒体の磁気記録層に対して記録磁界を局所的に印加する。これにより、保磁力が一時的に低下した磁気記録層に各種の情報を記録することができる。つまり、近接場光と磁場との協働により、記録媒体への記録を行うことができる。
【００１５】
更に、上述した磁気記録ヘッドに対して、さらに予熱機構を組み合わせた磁気記録ヘッ
ドも知られている（例えば、特許文献３参照）。
【００１６】
この磁気記録ヘッドは、上述した主磁極と補助磁極との間に、予熱機構である抵抗ヒー
タを備えている。この抵抗ヒータは、主磁極及び金属散乱体に比べて先端面積が大きいの
で、加熱する対象領域が広く温度勾配が低い。そのため、抵抗ヒータは、記録媒体の磁気
記録層に対して、予め予熱する程度の熱しか加えることができないようになっている。
【００１７】
このように構成された磁気記録ヘッドによれば、予め抵抗ヒータによって磁気記録層を
予熱できるので、近接場光を発生させる金属散乱体における発熱を低減することができる。よって、温度上昇による金属散乱体の劣化や、損傷の可能性等を低下させることがで
き、耐久性の向上化を図ることができる。
【特許文献１】特開２００４−１５８０６７号公報
【特許文献２】特開２００５−４９０１号公報
【特許文献３】特開２００５―７８６８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
しかしながら、上述した従来の磁気記録ヘッドには、まだ以下の課題が残されていた。
即ち、上記特許文献１及び２に記載されている磁気記録ヘッドでは、平面レーザ光源から金属散乱体にレーザ光を照射することで近接場光を発生させているが、該近接場光を効率良く発生させるためには、できるだけ金属散乱体の先端にレーザ光を照射する必要がある。
【００１９】
その一方、レーザ光、レンズや平面レーザ光源を、記録媒体に対して干渉しないように配置する必要がある。
【００２０】
そのため、特許文献１に記載されている磁気記録ヘッドは、平面レーザ光源から金属散
乱体に向けて斜めにレーザ光を照射すると共に半円形状のレンズを使用することで、上述
した条件を満足させている。
【００２１】
ところが、この条件を満足させるために、金属散乱体に対してレーザ光の光軸が斜めに
なると共に半円形状のレンズを使用せざるを得なかった。そのため、効率良く近接場光を
発生させることが難しくなってしまい、レーザ光の出力を上げざるを得なかった。その結
果、レーザ平面光源や金属散乱体が過度に発熱する恐れがあり、信頼性に劣るものであっ
た。
【００２２】
また、主磁極に対して所定の間隔を空けた状態で、レンズ及びレーザ平面光源を平行に
配置する必要があるが、実際上スライダの先端にこのような配置で作りこむことは困難であり、仮に作りこめたとしてもコンパクトにまとめることができず、小型化を図ることが難しいものであった。
【００２３】
なお、平面レーザ光源やレンズに代えて光導波路を使用したり、ミラーを利用したりすることでレーザ光を金属散乱体に向けて直線で照射させたりすることも考えられるが、より構成が複雑化してしまいやはり小型化を図ることが難しいものであった。
【００２４】
更に、金属散乱体は、走査方向の最後端に位置するように主磁極の外側に設けられているので、磁気記録層に情報を記録する際に、記録磁界を印加している位置に対して効率良く加熱を行うことが困難なものであった。つまり、記録媒体の回転に伴って磁気記録層は、補助磁極、磁極、金属散乱体の順に移動するので、近接場光で加熱される前に記録磁界が印加されてしまう。そのため、記録磁界が印加された領域外に、近接場光による加熱温度のピーク位置がきてしまい、書き込みの信頼性が劣るものであった。
【００２５】
特に、近接場光による温度勾配は、記録媒体の走査方向に対して遅れる傾向にあるので、加熱温度のピーク位置が金属散乱体の真下からずれてしまうと考えられる。この点を考慮すると、実際には加熱温度のピーク位置が記録磁界の印加領域からさらに外れる方向にずれてしまい、正確な書き込みを行えない可能性が高かった。
【００２６】
一方、特許文献３に記載されている磁気記録ヘッドは、主磁極と補助磁極との間に抵抗ヒータ等の予熱機構を備えているので、上述した近接場光を発生させる効率性の問題点、書き込みの信頼性の問題点を解消する構成にはなっているが、その反面、構成品としてさらに予熱機構が加わるので、構成がさらに煩雑になり大型化してしまう不都合があった。
【００２７】
ところで、特許文献１と２と３に記載されている磁気記録ヘッドは、同一平面上に導体を螺旋状に巻いたコイル巻線構造を有する。そのコイルの中心軸上で発生する磁界強度は、以下の式(1)で説明することができる。Hは磁界、iはコイルに流れる電流、ｒはコイルの中心軸から巻線までの距離である。
H＝i/２r (１)
磁界強度Ｈはｒに反比例するので、ｒが大きければ大きいほどＨは小さくなり、コイル中心軸から近い巻線と遠い巻線の発生する磁界強度の差が大きい。そのため、流す電流iに対する発生磁界の損失が大きく、磁界発生効率が比較的に悪い。特に、特許文献１〜３では、記録媒体と向い合う磁極の先端部分とコイルとが互いに離れて配置されているため、コイルの発生磁界が磁極の先端部分に到達するまでに大きく低減することがあり、書き込むみの信頼性を向上させることができないことがあった。
【００２８】
そこで、本発明は以上の点に鑑みてなされたものであり、小型化を図りながら近接場光を効率良く発生させることができると共に、より強力かつ高効率の磁界を発生させることができる近接場光ヘッドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２９】
導入された光束から近接場光を発生させて、一定方向に回転する磁気記録媒体を加熱すると共に、該磁気記録媒体に磁界を与えて磁化反転を生じさせ情報を記録させる近接場光ヘッドであって、前記磁気記録媒体の表面から所定距離だけ浮上した状態で配置され、前記磁気記録媒体の表面に対向する対向面を有するスライダと、前記対向面上に形成され、前記対向面と一定の角度を有しながら接している複数の側面を持つと共に前記近接場光を発生させる近接場光発生素子と、前記近接場光発生素子の前記側面の少なくとも一側面上に形成された少なくとも一本の下部配線と、前記下部配線を覆う位置に配置された薄膜状の磁極と、前記磁極の両側のうち、前記下部配線が配置されている側とは逆側に配置された少なくとも一本の上部配線と、前記下部配線及び前記上部配線をつなぐ少なくとも1本の側面配線と前記下部配線、前記磁極及び前記上部配線のそれぞれを絶縁する絶縁層と、前記下部配線と前記上部配線とが前記側面配線で交互に直列に接続されることにより前記磁極の周囲に巻回されたコイルとを備えることを特徴とするものである。
【００３０】
また本発明は、前記近接場光発生素子が、前記近接場光を発生させる開口を有し、前記磁極は、前記開口を囲む縁部分の一部を構成すると共に、互いに向い合わせに配置された第１の磁極及び第２の磁極を備え、前記第１の磁極及び前記第２の磁極のいずれかの周囲に前記コイルが巻回されていることを特徴とするものである。
【００３１】
また本発明は、前記近接場光発生素子が、前記近接場光を発生させる開口を有し、前記磁極は、前記開口を囲む縁部分の一部を構成すると共に、互いに向い合わせに配置された第１の磁極及び第２の磁極を備え、前記第１の磁極及び前記第２の磁極の双方の周囲に前記コイルが巻回されていることを特徴とするものである。
【００３２】
また本発明は、前記近接場光発生素子が、前記近接場光を発生させる開口を有し、前記磁極は、前記開口を囲む縁部分の一部を構成する第１の磁極と、前記スライダの前記対向面上に配置された第２の磁極とを備え、前記第１の磁極の周囲に前記コイルが巻回されていることを特徴とするものである。
【００３３】
また本発明は、前記第１の磁極と前記第２の磁極が、薄膜状の磁性体からなる回路によって接続され、前記第１の磁極、前記第２の磁極及び前記外部配線が磁気回路構造を形成することを特徴とするものである。
【００３４】
また本発明は、前記近接場光発生素子が錐体あるいは錐台であり、該錐体あるいは錐台の底面の輪郭の内、前記入射光の偏光に対して略垂直である部分が1カ所のみであることを特徴とするものである。
【００３５】
また本発明は、前記開口の輪郭の内、前記入射光の偏光に対して略垂直である部分が前記第1の磁極と接していることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００３６】
本発明によれば、小型化を図りながら近接場光を効率良く発生させることができると共に、より強力かつ高効率の磁界を発生させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
（実施の形態１）
以下、本発明に係る近接場光ヘッド及び情報記録再生装置の第１実施形態を、図１から図６を参照して説明する。なお、本実施形態の情報記録再生装置１は、磁気記録層ｄ３を有するディスク（磁気記録媒体）Ｄに対して、面内記録方式で書き込みを行う場合を例に
挙げて説明する。
【００３８】
図１に本実施形態の情報記録再生装置１の概略を示す。情報記録再生装置１は、近接場光ヘッド２と、ディスクDの表面（磁気記録媒体の表面）に平行なＸＹ方向に移動可能とされ、ディスクＤの表面に平行で且つ互いに直交する２軸（Ｘ軸、Ｙ軸）回りに回動自在な状態で近接場光ヘッド２を先端側で支持するビーム３と、光導波路４の基端側から該光導波路４に対して光束Ｌ（図２にしめす）を入射させる光信号コントローラ（光源）５と、ビーム３の基端側を支持すると共に、該ビーム３をディスクＤの表面に平行なＸＹ方向に向けてスキャン移動させるアクチュエータ６と、ディスクＤを一定方向に回転させるスピンドルモータ（回転駆動部）７と、情報に応じて変調した電流を後述するコイル２１に対して供給すると共に、光信号コントローラ５の作動を制御する制御部８と、これら各構成品を内部に収容するハウジング９とを備えている。
【００３９】
ハウジング９は、アルミニウム等の金属材料により、上面視四角形状に形成されていると共に、内側に各構成品を収容する凹部９ａが形成されている。また、このハウジング９には、凹部９ａの開口を塞ぐように図示しない蓋が着脱可能に固定されるようになっている。凹部９ａの略中心には、上記スピンドルモータ７が取り付けられており、該スピンドルモータ７に中心孔を嵌め込むことでディスクＤが着脱自在に固定される。凹部９ａの隅角部には、上記アクチュエータ６が取り付けられている。このアクチュエータ６には、軸受１０を介してキャリッジ１１が取り付けられており、該キャリッジ１１の先端にビーム３が取り付けられている。そして、キャリッジ１１及びビーム３は、アクチュエータ６の駆動によって共に上記ＸＹ方向に移動可能とされている。なお、キャリッジ１１及びビーム３は、ディスクＤの回転停止時にアクチュエータ６の駆動によって、ディスクＤ上から退避するようになっている。また、近接場光ヘッド２とビーム３とで、サスペンション１２を構成している。また、光信号コントローラ５は、アクチュエータ６に隣接するように凹部９ａ内に取り付けられている。そして、このアクチュエータ６に隣接して、上記制御部８が取り付けられている。
【００４０】
図２（ａ）には上記近接場光ヘッド２とディスクＤの断面図を、図２（ｂ）には図２（ａ）のコア１６とその近傍の拡大図を示し、近接場光ヘッド２の詳細な構造を説明する。
【００４１】
上記近接場光ヘッド２は、導入された光束Ｌから近接場光Ｒを発生させてディスクＤを加熱すると共に、ディスクＤに磁界を与えて磁化反転を生じさせ情報を記録させるものである。即ち、近接場光ヘッド２は、ディスク面Ｄ１から所定距離Ｈだけ浮上した状態で配置され、ディスク面Ｄ１に対向する対向面１５ａを有するスライダ１５と、該スライダ１５に固定され、近接場光Ｒを発生させるコア１６と、コア１６内に光束Ｌを導入させる光導波路４及びレンズ２６と、コア１６に形成された第１の磁極１８及び第２の磁極１９と、磁極１８に磁界を発生させる磁気コイル２０を備えている。
【００４２】
スライダ１５は、石英ガラス等の光透過性材料によって、略直方体状に形成されている。
このスライダ１５は、対向面１５ａをディスクＤに対向させた状態で、ジンバル部２５を介してビーム３の先端にぶら下がるように支持されている。このジンバル部２５は、ディスク面Ｄ１に垂直なＺ方向、Ｘ軸回り及びＹ軸回りにのみ変位するように動きが規制された部品である。これによりスライダ１５は、上述したようにディスク面Ｄ１に平行で且つ互いに直交する２軸（Ｘ軸、Ｙ軸）回りに回動自在とされている。
【００４３】
スライダ１５の対向面１５aには、回転するディスクＤによって生じた空気流の粘性から、浮上するための圧力を発生させる凸状部１５ｂが形成されている。本実施形態では、レール状に並ぶように、長手方向に沿って延びた凸状部１５ｂを２つ形成している場合を例にしている。但し、この場合に限定されるものではなく、スライダ１５をディスク面Ｄ１から離そうとする正圧とスライダ１５をディスク面Ｄ１に引き付けようとする負圧とを調整して、スライダ１５を最適な状態で浮上させるように設計されていれば、どのような凹凸形状でも構わない。なお、この凸状部１５ｂの表面はＡＢＳ（Air Bearing Surface）と呼ばれる。
スライダ１５は、この２つの凸状部１５ｂによってディスク面Ｄ１から浮上する力を受けていると共に、ビーム３によってディスク面Ｄ１側に押さえ付けられる力を受けている。スライダ１５は、この両者の力のバランスによって、上述したようにディスク面Ｄ１から所定距離Ｈだけ離間した状態で浮上する。
【００４４】
更に、コア１６の端面１６ｂは、光束Ｌが内部に導入されたときに近接場光Ｒを発生さ
せるサイズに形成されている。即ち、コア１６の端面１６ｂの開口サイズは、光束Ｌの波
長よりも遥かに微細なサイズ（例えば、一辺が数十ｎｍ程度のサイズ）となるように設計
されており、通常の伝播光を透過させることがないが、近接場光Ｒを近傍に漏れ出させる
ことを可能にしている。
【００４５】
また、スライダ１５の上面には、コア１６の真上に当たる位置にレンズ２６が形成され
ている。このレンズ２６は、例えば、グレースケールマスクを用いたエッチングによって
形成される非球面のマイクロレンズである。更に、スライダ１５の上面には、光ファイバ
ー等の光導波路４が取り付けられている。この光導波路４は、先端が略４５度にカットされたミラー面４ａとなっており、該ミラー面４ａがレンズ２６の真上に位置するように取
り付け位置が調整されている。そして、光導波路４は、ビーム３及びキャリッジ１１等を
介して光信号コントローラ５に引き出されて接続されている。
【００４６】
これにより光導波路４は、光信号コントローラ５から入射された光束Ｌを先端側まで導
き、ミラー面４ａで反射させて向きを変えた後、レンズ２６に出射することができるよう
になっている。また、出射された光束Ｌは、レンズ２６によって集束した後、スライダ１
５を透過してコア１６の底面１６ａに導入されるようになっている。
【００４７】
また、スライダ１５の先端面１５ｃには、図２及び図３に示すように、ディスクＤの磁気記録層ｄ３から漏れ出ている磁界の大きさに応じて電気抵抗が変換する磁気抵抗効果膜２７が形成されている。この磁気抵抗効果膜２７は、コア１６の端面１６ｂと略同じ幅で形成されている。また、この磁気抵抗効果膜２７には、図示しないリード膜等を介して制御部８からバイアス電流が供給されている。これにより制御部８は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することでき、この電圧の変化から信号の再生を行っている。即ち、磁気抵抗効果膜２７は、再生素子として機能している。
【００４８】
また、本実施形態のディスクＤは、図２に示すように、基板ｄ１上に下地層ｄ２、磁気
記録層ｄ３、保護層ｄ４及び潤滑層ｄ５が順に成膜されたものである。基板ｄ１としては、例えば、アルミ基板やガラス基板等である。下地層ｄ２は、磁気記録層ｄ３が薄くても良好な磁気特性をだすためのもので、例えばＣｒ合金系が使用される。磁気記録層ｄ３は、保磁力を高めるため、例えばＣｏＣｒＰｔＴａやＣｏＣｒＰｔＢ等のＣｏＣｒ系合金が使用される。保護層ｄ４は、磁気記録層ｄ３を保護するためのもので、例えばＤＬＣ（ダイヤモンド・ライク・カーボン）膜が使用される。潤滑層ｄ５は、例えば、フッ素系の液体潤滑材が使用される。
【００４９】
図３には、近接場光ヘッド２の対向面１５上の構造を示す。また、図４にはコア１６の拡大図であり、図４（a）には磁極１８にコイル２０が巻回する構造を、図４（ｂ）は磁極１９にコイル２０が巻回する構造を示す。
【００５０】
図３及び図４に示すように、コア１６に形成された４つの側面１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆのうち、ディスクＤの移動方向に沿うように並んだ互いに向い合う２つの側面１６ｃと１６ｄ上には、上記第１の磁極１８及び第２の磁極１９が形成されている。両磁極１８、１９は、例えば、磁性体材料を蒸着等の薄膜成膜技術によって側面１６ｃと１６ｄ上に形成されたものである。このように、第１の磁極１８及び第２の磁極１９が開口を介して互いに向い合わせに配置されることにより、近接場光がディスクＤに照射される領域と磁極からの漏れ磁束がディスクＤに照射される領域とをより一致させることができるため、近接場光及び磁界の広がりを抑制して書き込みの信頼性を向上することができる。
上記コア１６は、スライダ１５と同様に石英ガラス等の光透過性材料で形成されており、図４に示すように、底面１６ａと端面１６ｂと４つの側面（複数の側面）１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆとを有する四角錐台状に形成されている。具体的には、長方形の底面１６ａと、該底面１６ａより小さな面積で同一形状（平面視長方形状）に形成され、底面１６ａから所定距離離間した位置に配された端面１６ｂと、底面１６ａ及び端面１６ｂの頂点をそれぞれ結んで形成された４つの側面１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆを有するように加工されている。
但し、コア１６としては、４つの側面１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆを有する場合に限定されるものではなく、平面視多角形状（例えば、６角形状や８角形状）の底面及び端面と、これら底面及び端面のそれぞれの頂点を結ぶ複数の側面（例えば、底面及び端面が６角形状の場合には６面）とを有するコアとしても構わない。即ち、底面及び端面が平面視多角形状に形成された角錐台状のコアであれば構わない。なお、底面及び端面は、共に同じ形状でなくても構わない。また、コア１６が該錐台構造だけではなく、少なくもと一側面を持つ構造、例えば、対向面１５aから突出している段構造や凹み構造でも構わない。
このように構成されたコア１６は、図２に示すように、底面１６ａをスライダ１５の対向面１５ａに面接触させた状態で固定されている。この際、互いに対向する２つの側面1６ｃと１６ｄが、スライダ１５の長手方向、即ち、ディスクＤの移動方向に沿って並ぶように固定されている。なお、コア１６とスライダ１５とをそれぞれ別々に作製した後、互いを固定しても構わないし、石英ガラス等から一体的に作製しても構わない。特に、一体的に作製することで、製造工程の簡略化、製造時間の短縮化等を図ることができるので、より好ましい。
【００５１】
また、底面１６ａを対向面１５ａに面接触させているので、コア１６の端面１６ｂも同
様にスライダ１５の対向面１５ａ及びディスク面Ｄ１に対して平行状態となっている。こ
の際、端面１６ｂの高さが凸状部１５ｂの高さと同じになるように、コア１６の高さが設
定されている。
【００５２】
ここでコア１６の端面１６ｂは、上述したように底面１６ａよりも小さいサイズで該底
面１６ａと同じ形状に形成されているので、４つの側面１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆは端面１６ｂに向かうにしたがって向い合う側面１６ｃと１６ｄの間隔が漸次狭まる斜面状態となっている。特に、コア１６の端面１６ｂのサイズは、近接場光Ｒを発生させる極微小サイズであるので、端面１６ｂにおける両磁極１８、１９の間隔（磁気ギャップ）Ｇは非常に近接した状態となっている。つまり、微小な磁気ギャップＧとなっている。
【００５３】
また、磁気コイル２０は、磁極１８の一部の周囲を螺旋状に巻回した状態で、形成されている。この際コイル２０は、ショートしないように、隣り合う線材間、磁極１８との間が絶縁状態とされている。また、このコイル２０は、ビーム３やキャリッジ１１を介して制御部８に電気的に接続されており、該制御部８から情報に応じて変調された電流が供給されるようになっている。即ち、磁極１８及びコイル２０は、全体として電磁石を構成している。上記の構造は、コイル２０の電流方向を図４（a）のＩにすると、磁極１８から磁極１９へ磁界Ｍが流れ、磁気記録時に必要とされる漏れ磁束を発生させる仕組みとなっている。この場合は、磁極１８が主磁極、磁極１９が補助磁極となる。
【００５４】
また、補助磁極１９の周囲にコイル２０を形成し、コイル２０内の電流の流れる方向を図４（ｂ）のＩにすることで、主磁極１８から補助磁極１９へ磁界Ｍが流れるようにすることもできる。
【００５５】
図５（a）には、コイル２０が磁極１８に巻回されている詳細な様子を示す。また、図５（ｂ）には図５（a）のＡ−Ａ´での断面図を示す。
【００５６】
コイル２０は、略円筒上に導体を螺旋状に巻いたコイル、いわゆる、ソレノドコイル構造と類似な構造となっている。
【００５７】
このように、従来の構成のように同一平面上においてコイルが螺旋状に巻かれている構成ではなく、コイル２０が磁極１８に巻かれる構成であるため、従来の構造よりもコイル２０の全体の磁界強度を高めることができる。また、漏れ磁束発生部の直ぐ近傍にコイルを形成する構造となっているため、磁界の損失を極端に低減させることが可能である。また、コイル２０の１巻分のコイル（単コイル）を形成することでも、磁気記録に必要とされる十分な磁界を得ることが可能になる。すなわち、従来の磁気記録ヘッドに搭載されている平面上に導体を螺旋状に巻いたコイル構造よりも、コイル２０に流す電流に対する発生磁界の損失が少なくなり、より強力かつ高効率の磁界を発生させることができる。また、磁気発生部の構造が従来よりもシンプルになるため、ヘッドの小型化を図ることが可能になる。
【００５８】
次に、このように構成された情報記録再生装置１により、ディスクＤに各種の情報を記録再生する場合について以下に説明する。
【００５９】
まず、スピンドルモータ７を駆動させてディスクＤを一定方向に回転させる。次いで、アクチュエータ６を作動させて、キャリッジ１１を介してビーム３をＸＹ方向にスキャンさせる。これにより、図１に示すように、ディスクＤ上の所望する位置に近接場光ヘッド２を位置させることができる。この際、近接場光ヘッド２は、スライダ１５の対向面１５ａに形成された２つの凸状部１５ｂによって浮上する力を受けると共に、ビーム３等によってディスクＤ側に所定の力で押さえ付けられる。近接場光ヘッド２は、この両者の力のバランスによって、図２に示すようにディスクＤ上から所定距離Ｈ離間した位置に浮上する。
【００６０】
また、近接場光ヘッド２は、ディスクＤのうねりに起因して発生する風圧を受けたとし
ても、ジンバル部２５によってＺ方向、ＸＹ軸回りに変位することができるようになって
いるので、うねりに起因する風圧を吸収することができる。そのため、近接場光ヘッド２
を安定した状態で浮上させることができる。
【００６１】
ここで、情報の記録を行う場合、制御部８は光信号コントローラ５を作動させると共に、情報に応じて変調した電流をコイル２０に供給する。
【００６２】
光信号コントローラ５は、制御部８からの指示を受けて光束Ｌを光導波路４の基端側から入射させる。入射した光束Ｌは、光導波路４内を先端側に向かって進み、図２に示すようにミラー面４ａで略９０度向きを変えて光導波路４内から出射する。出射した光束Ｌは、レンズ２６によって集束された状態でスライダ１５内部を透過すると共に、レンズ２６の略真下に設けられたコア１６の内部に底面１６ａ側から入射する。つまり、光束Ｌは、光束導入手段１７によってスライダ１５の上面側から一直線にコア１６に向かって導入される。
【００６３】
コア１６の内部に導入された光束Ｌは、底面１６ａ側から端面１６ｂ側に向かって進み、図２（ｂ）に示すように、ディスク面Ｄ１に対向する端面１６ｂから近接場光Ｒとして外部に漏れ出す。つまり、コア１６の端面１６ｂから近接場光Ｒを発生させることができる。
【００６４】
このように、スライダ１５の上面側からコア１６の端面１６ｂに向けて略一直線に光束Ｌを導入できるので、従来の光の入れ方とは異なり光束Ｌをスライダ１５の上面から容易に導入できると共に、効率良く近接場光Ｒを発生させることができる。この近接場光Ｒによって、ディスクＤの磁気記録層ｄ３は局所的に加熱されて一時的に保磁力が低下する。
【００６５】
なお、コア１６の側面１６ｃに形成された両磁極１８、１９を光非透過性の材料から形成することが好ましい。こうすることで、両磁極１８、１９が形成された側面１６ｃからコア１６の外部に光束Ｌが漏れてしまうことを防止でき、光束Ｌを端面１６ｂにより集光させて、近接場光Ｒを効率良く発生させることができる。
【００６６】
一方、制御部８によってコイル２０に電流が供給されると、電磁石の原理により電流磁界が磁極１８内に磁束を発生させるので、磁極１８から磁極１９へ磁界が流れる。これにより、両磁極１８、１９間の磁気ギャップＧには、図２（ｂ）に示すようにディスクＤに向けて磁界が漏れ出す。この際、上述したように磁気ギャップＧは、コア１６の側面１６ｃに両磁極１８、１９が形成されていることで、微小な隙間となっている。そのため、磁気ギャップＧに発生した漏れ磁界は、ディスクＤの磁気記録層ｄ３に対して局所的に作用する。
【００６７】
これにより、近接場光Ｒによって保磁力が低下した磁気記録層ｄ３の局所的な位置に対して、ピンポイントで漏れ磁束を作用させることができる。なお、この漏れ磁束は、記録する情報に応じて向きが反転する。
【００６８】
そして、ディスクＤの磁気記録層ｄ３は、漏れ磁束を受けると、漏れ磁束の向きに応じ
て磁化の方向が反転する。その結果、ディスクＤに情報の記録を行うことができる。つまり、近接場光Ｒと両磁極１８、１９で発生した漏れ磁束とを協働させた、近接場光アシスト磁気記録方式により情報の記録を行うことができる。
【００６９】
次に、ディスクＤに記録された情報を再生する場合には、スライダ１５の先端面１５ｃに形成されている磁気抵抗効果膜２７が、ディスクＤの磁気記録層ｄ３から漏れ出ている磁界を受けて、その大きさに応じて電気抵抗が変化する。よって、磁気抵抗効果膜２７の電圧が変化する。これにより制御部８は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することができる。そして制御部８は、この電圧の変化から信号の再生を行うことで、情報の再生を行うことができる。
【００７０】
また、近接場光Ｒを発生させるコア１６は、底面１６ａ及び端面１６ｂがディスク面Ｄ１やスライダ１５の対向面１５ａと平行になるように設けられているので、光束導入手段１７はスライダ１５の上面から光束Ｌを容易且つ確実に導入することができる。
【００７１】
また、スライダ１５の対向面１５ａにコア１６を固定すると共に、コア１６の側面１６ｃに両磁極１８、１９を形成するだけで、近接場光Ｒの発生と漏れ磁界の発生とを同時に達成することができるので、従来のように複雑な構成にすることなく、シンプルな構造にすることができる。よって、構成を簡略化することができ、小型化を図ることができる。また、コア１６の底面１６ａ側から導入された光束Ｌは、安定的に端面１６ｂに向かうので効率良く近接場光Ｒを発生させることができる。よって、近接場光Ｒと漏れ磁界とをより効率良く協働させることができる。
【００７２】
更に、従来とは異なり、両磁極１８、１９の間で近接場光Ｒを発生させることができる
ので、漏れ磁界が作用する範囲内に、近接場光Ｒによる加熱温度のピーク位置を入れることができる。特に、漏れ磁界のピーク位置に対して、近接場光Ｒによる加熱の温度勾配のピーク位置がずれるとしても、加熱温度のピーク位置を漏れ磁界の範囲内に留めておくことができる。従って、ディスクＤの局所的な位置に対して確実に記録を行うことができ、信頼性の向上及びディスクのさらなる高記録密度化を図ることができる。また、第１の磁極１８及び第２の磁極１９がディスクＤの移動方向に沿って並んでいるので、両磁極１８、１９を確実にディスクＤのトラック上に位置させることができる。従って、隣接するトラックに記録された情報に影響を与えることなく、所望するトラックに対して情報を正確に記録することができる
図６は磁極１８にコイル２０が巻回されている構造の製造方法の概略図（図５のＡ−Ａ´断面）である。
【００７３】
Ｓ１からＳ６の各行は作製ステップを示す。まずステップＳ１で、スライダ１５の対向面１５a上に形成したコア１６の側面１６ｃ上に下部配線２０aを導電性材料、例えば、Ａｕなどを用い形成する。下部配線２０aの成膜はスパッタリングや真空蒸着などの手段で形成することができる。特に、斜方蒸着手段を用いると、効果的である。下部配線２０aのパターニングは、導電性材料を成膜し、その上にフォトレジストをパターニングした後、ドライエッチング法またはウエットエッチング法を用い、行うことができる。また、下部配線２０aのパターニングの他の手段として、コア１６の側面１６ｃ上にフォトレジストをパターニングし、前記パターニングされたフォトレジスト上に導電性材料を成膜した後、リフトオフする方法もある。
【００７４】
次にステップＳ２において、下部配線２０aと磁極１８の間に配置する下部絶縁層２１aを形成する。下部絶縁層２１aは、例えば、ＳＵ−８のようなフォトレジストなどを用いれば、容易に形成することができる。また、下部絶縁層２１aの形成後、上面２２aを研磨してもしなくても良いが、研磨をした場合は上面２２aが平坦化されることで、常に均一な膜厚を得ることができ、且つパターン精度の良い磁極１８を下部絶縁層２１aの上に形成することができる。
【００７５】
次にステップＳ３において、下部絶縁層２０aの上に磁極１８を、パーマロイなどの磁性材料を用い形成する。その次に、磁極１８と対向する側面１６ｄ上に磁極１９をパーマロイなどの磁性材料を用い形成する。磁極１８と１９の成膜はスパッタリングや真空蒸着などの手段で行う。特に、斜方蒸着手段を用いると、効果的である。磁極１８、１９のパターニングは、磁性材料を成膜し、その上にフォトレジストをパターングした後、ドライエッチング法またはウエットエッチング法を用い、行うことができる。また、磁極１８、１９のパターニングの他の手段として、下部絶縁層２２aの上にフォトレジストをパターニングし、前記パターニングされたフォトレジスト上に磁性材料を成膜した後、リフトオフする方法もある。
【００７６】
次にステップＳ4において、磁極１８と上部配線２０ｃとの絶縁のため、上部絶縁層２１ｂを上記下部絶縁層２１aとほぼ同様な材料と方法で形成する。また、上部絶縁層２１ｂは、その形成後上面２２ｂを研磨してもしなくても良いが、研磨をした場合は上面２２ｂが平坦化されることで、常に均一な膜厚を形成することができ、パターン精度の良い上部配線２０ｃと側面配線２０ｂ（図省略）を上部絶縁層２１ｂの上面と側面に形成することができる。
【００７７】
次にステップＳ５において、上部配線２０ｃを下部配線２０aと同様な材料と方法で形成する。上部配線２０ｃと側面配線２０ｂは、一つのフォトレジストを用い同時に形成することもできるし、または、先に側面配線２０ｂのみフォトレジストパターニングを行い形成した後、次に上部配線２０ｃを形成しても良い。
【００７８】
最後にステップＳ６において、上記まで作製した構造（下部配線２０a、下部絶縁層２１a、磁極１８、上部絶縁層２１ｂ、上部配線２０ｃ、側面配線２０ｂ）を全部覆うような外部絶縁層２１ｃを、上記の上下部絶縁層２１aと２１ｃの形成に用いた同様な材料と方法で形成する。
【００７９】
上述したように本実施形態の近接場光ヘッド２によれば、小型化を図りながら近接場光Ｒを効率良く発生させることができると共に、より強力かつ高効率の磁界を発生させることができ、書き込みの信頼性を向上することができる。
【００８０】
また、本実施形態の情報記録再生装置１によれば、上述した近接場光ヘッド２を備えて
いるので、該情報記録再生装置１自体の小型化も図ることができ、また、書き込みの信頼
性が高まって高品質化を図ることができる。
【００８１】
また、近接場光ヘッド２のコア１６は、側面１６ｃ、１６ｄと両磁極１８、１９との間にそれぞれ金属膜が形成されてもよく、両磁極１８、１９が形成された側面１６ｃ、１６ｄ以外の側面１６ｅ、１６ｆ上に金属膜が形成されていても良い。側面１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆ上に形成された金属膜表面から表面プラズモンが励起され、光強度の強い近接場光Ｒとなって外部に漏れ出す。コア１６の内部に導入された光束Ｌは端面１６ｂに向かう途中でコア１６の外部に漏れることがない。従って、光束Ｌを無駄なく端面１６ｂに集光することができ、より効率良く光強度の強い近接場光Ｒを発生することができる。その結果、ディスクＤをより効率良く加熱することができ、情報の記録をさらに容易に行うことができる。
【００８２】
また、上記各実施形態では、面内記録方式で記録を行う場合を例にして説明したが、この記録方式に限られず、垂直記録方式にも適用可能なものである。
（実施の形態２）
次に、本発明に係る近接場光ヘッドの第２実施形態について、図７の(ａ)、（ｂ）、（ｃ）を参照して説明する。図７（ａ）は磁極１８と１９双方の周囲にコイル２０と２０´が巻回する構造であり、図７の（ｂ）は図７の（ａ）の上面図、図７の（ｃ）は図７の（ｂ）のＡ−Ａ´の断面図を示す。なお、第２実施形態において第１実施形態と同一の構成については、同一の符号を付しその説明を省略する。
【００８３】
図４と図５には磁極１８あるいは１９のいずれかにコイルが巻回している構造を示しているが、図７には磁極１８と１９双方にコイルが巻回され、磁極１８とコイル２０のみではなく、磁極１９とコイル２０´も全体として電磁石を構成している。
【００８４】
図４と図５に示している構造に比べ、磁極１８と１９双方にコイル２０と２０´を巻回することで、より強力な漏れ磁界Ｍを発生させることができると共に、確実に主磁極１８から補助磁極１９へ磁界Ｍを流すことができ、より安定的な磁気記録が可能になる。
【００８５】
また、磁極１８と１９に巻回するコイルの本数を単数にしても、磁気記録に必要とされる十分な磁界Ｍを得ることができる。
【００８６】
また、製造方法においても、図４と図５に示す構造の作製時に用いるフォトマスクに、複数のコイルや絶縁層の作製パターンを設けることだけで、作製工程が増えることなく、図４と図５に示す構造の作製方法とほぼ同一方法で、図７に示す構造を効率よく作製することができる。
（実施の形態３）
次に、本発明に係る近接場光ヘッドの第３実施形態について、図８の（ａ）と（ｂ）を参照して説明する。図８の（ａ）はコア１６が四角錐台であり、図８の（ｂ）はコア１６が三角錐台である場合の一例である。なお、第３実施形態において第１実施形態と第２実施形態と同一の構成については、同一の符号を付しその説明を省略する。
【００８７】
図４と図５あるいは図７には、コア１６の側面１６ｃと１６ｄの両側面上に磁極１８と１９が形成されている構造を示しているが、図８（ａ）と（ｂ）に示す構造にはコア１６の側面１６ｃ上のみ主磁極としての磁極１８が形成され、コイルが磁極１８の周囲を巻回している、いわゆるシングルポール構造となっている。補助磁極の機能をする磁極１９´は、コア１６が配置する対向面１５ａ上に設けられており、その位置は、ディスクＤの移動方向の略逆方向に、漏れ磁界Ｍ（図省略）が磁極１８から磁極１９´へ流れるようにする位置であれば、対向面１５ａ上のどの位置であっても構わない。
【００８８】
図８の（ａ）と（ｂ）に示す構造は、磁気記録方式が垂直磁気記録の場合に限定される構造であるが、近接場光発生素子が少なくとも一側面を持つ突出構造あるいは凹み構造であれば使用が可能になり、スライダ１５の構造に応じた近接場光発生素子や磁極１８、１９及び１９´などの設計自由度が高い。
【００８９】
また、製造方法においては、磁極１９の形成を除いて図４と図５あるいは図７に示す構造を作製した後、磁極１９´を別途に設けても良いし、磁極１８の形成時に用いるフォトマスクに磁極１９´のパターンを入れ、磁極１８の形成時に磁極１９´を同時に形成しても良い。
【００９０】
また、図８（ｂ）には、コア３６として三角錐台を用いた構造を示しており、コア３６の端面３６ｄの輪郭の内、入射光Ｌの偏光方向Ｐに対して略垂直である輪郭が1カ所のみである場合の一例を示す。図８（ｂ）に示す構造には、入射光Ｌの偏光方向Ｐが端面３６ｄの輪郭３６ｇに対して略垂直になるように制御される。また、該輪郭３６ｇと磁極３８は接している。
【００９１】
そうなると、図４と図５あるいは図７に示す構造に比べ、磁極３８の近傍に更に局在化した高エネルギーを持つ、近接場光Ｒを発生させることが可能になるので、極微細な領域の熱アシストが可能で、情報の超高密度記録に適している。
（実施の形態４）
次に、本発明に係る近接場光ヘッドの第３実施形態について、図９を参照して説明する。なお、第４実施形態において第１実施形態、第２実施形態及び第３実施形態と同一の構成については、同一の符号を付しその説明を省略する。
【００９２】
図９に示す構造は、図４、図７及び図８に示す構造の磁極１８と１９または磁極１８と１９´が薄膜状の回路２３によって接続されている構造の一例を示す。回路２３は磁極１８と１９または磁極１８と１９´と同様な磁性材料を用いる。
【００９３】
図９（ａ）に示す構造は、図４（ａ）に示す構造の磁極１８と１９が回路２３によって接続されており、図９（ｂ）に示す構造は、図８（ａ）に示す構造の磁極１８と１９´が回路２３によって接続されている。図９の構造は、磁極と回路２３とが完全な磁気回路構造を形成することで、磁界Ｍを効率よく磁極１８から磁極１９または１９´へ伝搬させることが可能である。
【００９４】
回路２３の作製方法は、磁極１８と１９または磁極１８と１９´のパターニングの際用いるフォトマスクに、回路２３のパターンを入れることで、磁極１８と１９または磁極１８と１９´の形成時に、同時かつ簡便に作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９５】
【図１】本発明に係る近接場光ヘッドを有する情報記録再生装置の第１実施形態を示す構成図である。
【図２】図１に示す近接場光ヘッドの拡大断面図と、コアを中心とした拡大断面図である。
【図３】図２に示す近接場光ヘッドを、ディスク面側から見た図である。
【図４】図３に示す近接場光ヘッドのコアを端面側から見た拡大斜視図である。
【図５】図３に示す近接場光ヘッドの磁気記録部の詳細な拡大上面図と、コアとコイル構造の断面を示す断面図である。
【図６】図５に示すコイル構造の製造方法を示す断面図である。
【図７】本発明に係る近接場光ヘッドの第２実施形態を示す、磁気記録部のディスク面側から見た拡大斜視図と断面図である。
【図８】本発明に係る近接場光ヘッドの第３実施形態を示す、磁気記録部のディスク面側から見た拡大斜視図である。
【図９】本発明に係る近接場光ヘッドの第４実施形態を示す、磁気記録部のディスク面側から見た拡大斜視図である。
【符号の説明】
【００９６】
Ｄ ディスク（磁気記録媒体）
Ｄ１ ディスク面（磁気記録媒体の表面）
Ｌ 光束
Ｒ 近接場光
Ｇ ギャップ
I 電流方向
Ｍ 磁界方向
Ｐ 偏光方向
１ 情報記録再生装置
２ 近接場光ヘッド
３ ビーム
５ 光信号コントローラ（光源）
６ アクチュエータ
７ スピンドルモータ（回転駆動部）
８ 制御部
１５ スライダ
１５ａ 対向面
１６、３６ コア
１６ａ、３６ａ コアの底面
１６ｂ、３６ｂ コアの端面
１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ、１６ｆ、３６ｃ、３６ｅ、３６ｆ コアの側面
３６ｇ コア端面の一辺
１８、３８ 第１の磁極
１９、１９´ 第２の磁極
２０、２０´、３０ コイル
２０ａ、２０ａ´ 下部配線
２０ｂ、２０ｂ´ 上部配線
２０ｃ、２０ｃ´ 側面配線
２１、２１´ 絶縁層
２１ａ、２１ａ´ 下部絶縁層
２１ｂ、２１ｂ´ 上部絶縁層
２１ｅ、２１ｅ´ 外部絶縁層
２３ 磁性材回路
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近接場光を利用して磁気記録媒体に各種の情報を超高密度で記録することが
できる近接場光ヘッド及び該近接場光ヘッドを有する情報記録再生装置に関するものであ
る。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータ機器におけるハードディスク等の容量増加に伴い、単一記録面内に
おける情報の記録密度が増加している。例えば、磁気ディスクの一枚当たりの記録容量を多くするためには、面記録密度を高くする必要がある。ところが、記録密度が高くなるにつれて、記録媒体上で１ビット当たりの占める記録面積が小さくなっている。このビットサイズが小さくなると、１ビットの情報が記録された状態のポテンシャルエネルギーが、室温の熱エネルギーに近くなり、記録した情報が熱揺らぎ等のために反転したり、消えてしまったりする等の熱減磁の問題が生じてしまう。
【０００３】
一般的に用いられてきた面内記録方式では、磁化の方向が記録媒体の面内方向に向くように磁気を記録する方式であるが、この方式では上述した熱減磁による記録情報の消失等
が起こり易い。そこで、このような不具合を解消するために、記録媒体に対して垂直な方
向に磁化信号を記録する垂直記録方式に移行しつつある。この方式は、記録媒体に対して、
単磁極を近づける原理で磁気情報を記録する方式である。この方式によれば、記録磁界が記録膜に対してほぼ垂直な方向を向く。垂直な磁界で記録された情報は、記録膜面内においてＮ極とＳ極とがループを作り難いため、エネルギー的に安定を保ち易い。そのため、この垂直記録方式は、面内記録方式に対して熱減磁に強くなっている。
【０００４】
しかしながら、近年の記録媒体は、より大量且つ高密度情報の記録再生を行いたい等の
ニーズを受けて、さらなる高密度化が求められている。そのため、隣り合う磁区同士の影
響や、熱揺らぎを最小限に抑えるために、保磁力の強いものが記録媒体として採用され始
めている。そのため、上述した垂直記録方式であっても、記録媒体に情報を記録すること
が困難になっていた。
【０００５】
そこで、この不具合を解消するために、近接場光により磁区を局所的に加熱して一時的
に保磁力を低下させ、その間に書き込みを行うハイブリッド磁気記録方式（近接場光アシ
スト磁気記録方式）が提案されている。このハイブリッド磁気記録方式は、微小領域と、近接場光ヘッドに形成された光の波長以下のサイズに形成された光学的開口との相互作用
により発生する近接場光を利用する方式である。このように、光の回折限界を超えた微小
な光学的開口、即ち、近接場光発生素子を有する近接場光ヘッドを利用することで、従来
の光学系において限界とされていた光の波長以下となる領域における領域を加熱すること
が可能となる。よって、従来の光情報記録再生装置等を超える記録ビットの高密度化を図
ることができる。
【０００６】
なお、近接場光発生素子は、上述した光学的微小開口によるものだけでなく、例えば、
ナノメートルサイズに形成された突起部により構成しても構わない。この突起部によって
も、光学的微小開口と同様に近接場光を発生させることができる。
【０００７】
上述したハイブリッド磁気記録方式による記録ヘッドとしては、各種のものが提供され
ているが、その１つとして、光スポットのサイズを縮小して記録密度の増大化を図った磁
気記録ヘッドが知られている（例えば、特許文献１及び２参照）。
【０００８】
この磁気記録ヘッドは、主に主磁極と、補助磁極と、同一平面上で螺旋状に設けられ、その螺旋の中心軸を前記主磁極が通るような構造の導体パターンが絶縁体の内部に形成されたコイル巻線と、照射されたレーザ光から近接場光を発生させる金属散乱体と、金属散乱体に向けてレーザ光を照射する平面レーザ光源と、照射されたレーザ光を集束させるレンズとを備えている。これら各構成品は、ビームの先端に固定されたスライダの先端面に取り付けられている。
【０００９】
主磁極は、一端側が記録媒体に対向した面となっており、他端側が補助磁極に接続され
ている。つまり、主磁極及び補助磁極は、１本の磁極（単磁極）を垂直方向に配置した単
磁極型垂直ヘッドを構成している。また、コイル巻線は、主磁極と補助磁極との間を一部が通過するように補助磁極に固定されている。これら主磁極、補助磁極及びコイル巻線は、全体として電磁石を構成している。
【００１０】
主磁極の先端には、金等からなる上記金属散乱体が取り付けられている。また、金属散
乱体から離間した位置に上記平面レーザ光源が配置されると共に、該平面レーザ光源と金
属散乱体との間に上記レンズが配置されている。
【００１１】
上述した各構成品は、スライダの先端面側から、補助磁極、コイル巻線、主磁極、金属
散乱体、レンズ、平面レーザ光源の順に取り付けられている。
【００１２】
このように構成された磁気記録ヘッドを利用する場合には、近接場光を発生させると同
時に記録磁界を印加することで、記録媒体に各種の情報を記録している。
【００１３】
即ち、平面レーザ光源からレーザ光を照射させる。このレーザ光は、レンズによって集
束され、金属散乱体に照射される。すると金属散乱体は、内部の自由電子がレーザ光の電
場によって一様に振動させられるのでプラズモンが励起されて先端部分に近接場光を発生
させる。その結果、記録媒体の磁気記録層は、近接場光によって局所的に加熱され、一時
的に保磁力が低下する。
【００１４】
また、上記レーザ光の照射と同時に、コイル巻線の導体パターンに駆動電流を供給する
ことで、主磁極に近接する記録媒体の磁気記録層に対して記録磁界を局所的に印加する。これにより、保磁力が一時的に低下した磁気記録層に各種の情報を記録することができる。つまり、近接場光と磁場との協働により、記録媒体への記録を行うことができる。
【００１５】
更に、上述した磁気記録ヘッドに対して、さらに予熱機構を組み合わせた磁気記録ヘッ
ドも知られている（例えば、特許文献３参照）。
【００１６】
この磁気記録ヘッドは、上述した主磁極と補助磁極との間に、予熱機構である抵抗ヒー
タを備えている。この抵抗ヒータは、主磁極及び金属散乱体に比べて先端面積が大きいの
で、加熱する対象領域が広く温度勾配が低い。そのため、抵抗ヒータは、記録媒体の磁気
記録層に対して、予め予熱する程度の熱しか加えることができないようになっている。
【００１７】
このように構成された磁気記録ヘッドによれば、予め抵抗ヒータによって磁気記録層を
予熱できるので、近接場光を発生させる金属散乱体における発熱を低減することができる。よって、温度上昇による金属散乱体の劣化や、損傷の可能性等を低下させることがで
き、耐久性の向上化を図ることができる。
【特許文献１】特開２００４−１５８０６７号公報
【特許文献２】特開２００５−４９０１号公報
【特許文献３】特開２００５―７８６８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
しかしながら、上述した従来の磁気記録ヘッドには、まだ以下の課題が残されていた。
即ち、上記特許文献１及び２に記載されている磁気記録ヘッドでは、平面レーザ光源から金属散乱体にレーザ光を照射することで近接場光を発生させているが、該近接場光を効率良く発生させるためには、できるだけ金属散乱体の先端にレーザ光を照射する必要がある。
【００１９】
その一方、レーザ光、レンズや平面レーザ光源を、記録媒体に対して干渉しないように配置する必要がある。
【００２０】
そのため、特許文献１に記載されている磁気記録ヘッドは、平面レーザ光源から金属散
乱体に向けて斜めにレーザ光を照射すると共に半円形状のレンズを使用することで、上述
した条件を満足させている。
【００２１】
ところが、この条件を満足させるために、金属散乱体に対してレーザ光の光軸が斜めに
なると共に半円形状のレンズを使用せざるを得なかった。そのため、効率良く近接場光を
発生させることが難しくなってしまい、レーザ光の出力を上げざるを得なかった。その結
果、レーザ平面光源や金属散乱体が過度に発熱する恐れがあり、信頼性に劣るものであっ
た。
【００２２】
また、主磁極に対して所定の間隔を空けた状態で、レンズ及びレーザ平面光源を平行に
配置する必要があるが、実際上スライダの先端にこのような配置で作りこむことは困難であり、仮に作りこめたとしてもコンパクトにまとめることができず、小型化を図ることが難しいものであった。
【００２３】
なお、平面レーザ光源やレンズに代えて光導波路を使用したり、ミラーを利用したりすることでレーザ光を金属散乱体に向けて直線で照射させたりすることも考えられるが、より構成が複雑化してしまいやはり小型化を図ることが難しいものであった。
【００２４】
更に、金属散乱体は、走査方向の最後端に位置するように主磁極の外側に設けられているので、磁気記録層に情報を記録する際に、記録磁界を印加している位置に対して効率良く加熱を行うことが困難なものであった。つまり、記録媒体の回転に伴って磁気記録層は、補助磁極、磁極、金属散乱体の順に移動するので、近接場光で加熱される前に記録磁界が印加されてしまう。そのため、記録磁界が印加された領域外に、近接場光による加熱温度のピーク位置がきてしまい、書き込みの信頼性が劣るものであった。
【００２５】
特に、近接場光による温度勾配は、記録媒体の走査方向に対して遅れる傾向にあるので、加熱温度のピーク位置が金属散乱体の真下からずれてしまうと考えられる。この点を考慮すると、実際には加熱温度のピーク位置が記録磁界の印加領域からさらに外れる方向にずれてしまい、正確な書き込みを行えない可能性が高かった。
【００２６】
一方、特許文献３に記載されている磁気記録ヘッドは、主磁極と補助磁極との間に抵抗ヒータ等の予熱機構を備えているので、上述した近接場光を発生させる効率性の問題点、書き込みの信頼性の問題点を解消する構成にはなっているが、その反面、構成品としてさらに予熱機構が加わるので、構成がさらに煩雑になり大型化してしまう不都合があった。
【００２７】
ところで、特許文献１と２と３に記載されている磁気記録ヘッドは、同一平面上に導体を螺旋状に巻いたコイル巻線構造を有する。そのコイルの中心軸上で発生する磁界強度は、以下の式(1)で説明することができる。Hは磁界、iはコイルに流れる電流、ｒはコイルの中心軸から巻線までの距離である。
H＝i/２r (１)
磁界強度Ｈはｒに反比例するので、ｒが大きければ大きいほどＨは小さくなり、コイル中心軸から近い巻線と遠い巻線の発生する磁界強度の差が大きい。そのため、流す電流iに対する発生磁界の損失が大きく、磁界発生効率が比較的に悪い。特に、特許文献１〜３では、記録媒体と向い合う磁極の先端部分とコイルとが互いに離れて配置されているため、コイルの発生磁界が磁極の先端部分に到達するまでに大きく低減することがあり、書き込むみの信頼性を向上させることができないことがあった。
【００２８】
そこで、本発明は以上の点に鑑みてなされたものであり、小型化を図りながら近接場光を効率良く発生させることができると共に、より強力かつ高効率の磁界を発生させることができる近接場光ヘッドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２９】
導入された光束から近接場光を発生させて、一定方向に回転する磁気記録媒体を加熱すると共に、該磁気記録媒体に磁界を与えて磁化反転を生じさせ情報を記録させる近接場光ヘッドであって、前記磁気記録媒体の表面から所定距離だけ浮上した状態で配置され、前記磁気記録媒体の表面に対向する対向面を有するスライダと、前記対向面上に形成され、前記対向面と一定の角度を有しながら接している複数の側面を持つと共に前記近接場光を発生させる近接場光発生素子と、前記近接場光発生素子の前記側面の少なくとも一側面上に形成された少なくとも一本の下部配線と、前記下部配線を覆う位置に配置された薄膜状の磁極と、前記磁極の両側のうち、前記下部配線が配置されている側とは逆側に配置された少なくとも一本の上部配線と、前記下部配線及び前記上部配線をつなぐ少なくとも1本の側面配線と前記下部配線、前記磁極及び前記上部配線のそれぞれを絶縁する絶縁層と、前記下部配線と前記上部配線とが前記側面配線で交互に直列に接続されることにより前記磁極の周囲に巻回されたコイルとを備えることを特徴とするものである。
【００３０】
また本発明は、前記近接場光発生素子が、前記近接場光を発生させる開口を有し、前記磁極は、前記開口を囲む縁部分の一部を構成すると共に、互いに向い合わせに配置された第１の磁極及び第２の磁極を備え、前記第１の磁極及び前記第２の磁極のいずれかの周囲に前記コイルが巻回されていることを特徴とするものである。
【００３１】
また本発明は、前記近接場光発生素子が、前記近接場光を発生させる開口を有し、前記磁極は、前記開口を囲む縁部分の一部を構成すると共に、互いに向い合わせに配置された第１の磁極及び第２の磁極を備え、前記第１の磁極及び前記第２の磁極の双方の周囲に前記コイルが巻回されていることを特徴とするものである。
【００３２】
また本発明は、前記近接場光発生素子が、前記近接場光を発生させる開口を有し、前記磁極は、前記開口を囲む縁部分の一部を構成する第１の磁極と、前記スライダの前記対向面上に配置された第２の磁極とを備え、前記第１の磁極の周囲に前記コイルが巻回されていることを特徴とするものである。
【００３３】
また本発明は、前記第１の磁極と前記第２の磁極が、薄膜状の磁性体からなる回路によって接続され、前記第１の磁極、前記第２の磁極及び前記外部配線が磁気回路構造を形成することを特徴とするものである。
【００３４】
また本発明は、前記近接場光発生素子が錐体あるいは錐台であり、該錐体あるいは錐台の底面の輪郭の内、前記入射光の偏光に対して略垂直である部分が1カ所のみであることを特徴とするものである。
【００３５】
また本発明は、前記開口の輪郭の内、前記入射光の偏光に対して略垂直である部分が前記第1の磁極と接していることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００３６】
本発明によれば、小型化を図りながら近接場光を効率良く発生させることができると共に、より強力かつ高効率の磁界を発生させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
（実施の形態１）
以下、本発明に係る近接場光ヘッド及び情報記録再生装置の第１実施形態を、図１から図６を参照して説明する。なお、本実施形態の情報記録再生装置１は、磁気記録層ｄ３を有するディスク（磁気記録媒体）Ｄに対して、面内記録方式で書き込みを行う場合を例に
挙げて説明する。
【００３８】
図１に本実施形態の情報記録再生装置１の概略を示す。情報記録再生装置１は、近接場光ヘッド２と、ディスクDの表面（磁気記録媒体の表面）に平行なＸＹ方向に移動可能とされ、ディスクＤの表面に平行で且つ互いに直交する２軸（Ｘ軸、Ｙ軸）回りに回動自在な状態で近接場光ヘッド２を先端側で支持するビーム３と、光導波路４の基端側から該光導波路４に対して光束Ｌ（図２にしめす）を入射させる光信号コントローラ（光源）５と、ビーム３の基端側を支持すると共に、該ビーム３をディスクＤの表面に平行なＸＹ方向に向けてスキャン移動させるアクチュエータ６と、ディスクＤを一定方向に回転させるスピンドルモータ（回転駆動部）７と、情報に応じて変調した電流を後述するコイル２１に対して供給すると共に、光信号コントローラ５の作動を制御する制御部８と、これら各構成品を内部に収容するハウジング９とを備えている。
【００３９】
ハウジング９は、アルミニウム等の金属材料により、上面視四角形状に形成されていると共に、内側に各構成品を収容する凹部９ａが形成されている。また、このハウジング９には、凹部９ａの開口を塞ぐように図示しない蓋が着脱可能に固定されるようになっている。凹部９ａの略中心には、上記スピンドルモータ７が取り付けられており、該スピンドルモータ７に中心孔を嵌め込むことでディスクＤが着脱自在に固定される。凹部９ａの隅角部には、上記アクチュエータ６が取り付けられている。このアクチュエータ６には、軸受１０を介してキャリッジ１１が取り付けられており、該キャリッジ１１の先端にビーム３が取り付けられている。そして、キャリッジ１１及びビーム３は、アクチュエータ６の駆動によって共に上記ＸＹ方向に移動可能とされている。なお、キャリッジ１１及びビーム３は、ディスクＤの回転停止時にアクチュエータ６の駆動によって、ディスクＤ上から退避するようになっている。また、近接場光ヘッド２とビーム３とで、サスペンション１２を構成している。また、光信号コントローラ５は、アクチュエータ６に隣接するように凹部９ａ内に取り付けられている。そして、このアクチュエータ６に隣接して、上記制御部８が取り付けられている。
【００４０】
図２（ａ）には上記近接場光ヘッド２とディスクＤの断面図を、図２（ｂ）には図２（ａ）のコア１６とその近傍の拡大図を示し、近接場光ヘッド２の詳細な構造を説明する。
【００４１】
上記近接場光ヘッド２は、導入された光束Ｌから近接場光Ｒを発生させてディスクＤを加熱すると共に、ディスクＤに磁界を与えて磁化反転を生じさせ情報を記録させるものである。即ち、近接場光ヘッド２は、ディスク面Ｄ１から所定距離Ｈだけ浮上した状態で配置され、ディスク面Ｄ１に対向する対向面１５ａを有するスライダ１５と、該スライダ１５に固定され、近接場光Ｒを発生させるコア１６と、コア１６内に光束Ｌを導入させる光導波路４及びレンズ２６と、コア１６に形成された第１の磁極１８及び第２の磁極１９と、磁極１８に磁界を発生させる磁気コイル２０を備えている。
【００４２】
スライダ１５は、石英ガラス等の光透過性材料によって、略直方体状に形成されている。
このスライダ１５は、対向面１５ａをディスクＤに対向させた状態で、ジンバル部２５を介してビーム３の先端にぶら下がるように支持されている。このジンバル部２５は、ディスク面Ｄ１に垂直なＺ方向、Ｘ軸回り及びＹ軸回りにのみ変位するように動きが規制された部品である。これによりスライダ１５は、上述したようにディスク面Ｄ１に平行で且つ互いに直交する２軸（Ｘ軸、Ｙ軸）回りに回動自在とされている。
【００４３】
スライダ１５の対向面１５aには、回転するディスクＤによって生じた空気流の粘性から、浮上するための圧力を発生させる凸状部１５ｂが形成されている。本実施形態では、レール状に並ぶように、長手方向に沿って延びた凸状部１５ｂを２つ形成している場合を例にしている。但し、この場合に限定されるものではなく、スライダ１５をディスク面Ｄ１から離そうとする正圧とスライダ１５をディスク面Ｄ１に引き付けようとする負圧とを調整して、スライダ１５を最適な状態で浮上させるように設計されていれば、どのような凹凸形状でも構わない。なお、この凸状部１５ｂの表面はＡＢＳ（Air Bearing Surface）と呼ばれる。
スライダ１５は、この２つの凸状部１５ｂによってディスク面Ｄ１から浮上する力を受けていると共に、ビーム３によってディスク面Ｄ１側に押さえ付けられる力を受けている。スライダ１５は、この両者の力のバランスによって、上述したようにディスク面Ｄ１から所定距離Ｈだけ離間した状態で浮上する。
【００４４】
更に、コア１６の端面１６ｂは、光束Ｌが内部に導入されたときに近接場光Ｒを発生さ
せるサイズに形成されている。即ち、コア１６の端面１６ｂの開口サイズは、光束Ｌの波
長よりも遥かに微細なサイズ（例えば、一辺が数十ｎｍ程度のサイズ）となるように設計
されており、通常の伝播光を透過させることがないが、近接場光Ｒを近傍に漏れ出させる
ことを可能にしている。
【００４５】
また、スライダ１５の上面には、コア１６の真上に当たる位置にレンズ２６が形成され
ている。このレンズ２６は、例えば、グレースケールマスクを用いたエッチングによって
形成される非球面のマイクロレンズである。更に、スライダ１５の上面には、光ファイバ
ー等の光導波路４が取り付けられている。この光導波路４は、先端が略４５度にカットされたミラー面４ａとなっており、該ミラー面４ａがレンズ２６の真上に位置するように取
り付け位置が調整されている。そして、光導波路４は、ビーム３及びキャリッジ１１等を
介して光信号コントローラ５に引き出されて接続されている。
【００４６】
これにより光導波路４は、光信号コントローラ５から入射された光束Ｌを先端側まで導
き、ミラー面４ａで反射させて向きを変えた後、レンズ２６に出射することができるよう
になっている。また、出射された光束Ｌは、レンズ２６によって集束した後、スライダ１
５を透過してコア１６の底面１６ａに導入されるようになっている。
【００４７】
また、スライダ１５の先端面１５ｃには、図２及び図３に示すように、ディスクＤの磁気記録層ｄ３から漏れ出ている磁界の大きさに応じて電気抵抗が変換する磁気抵抗効果膜２７が形成されている。この磁気抵抗効果膜２７は、コア１６の端面１６ｂと略同じ幅で形成されている。また、この磁気抵抗効果膜２７には、図示しないリード膜等を介して制御部８からバイアス電流が供給されている。これにより制御部８は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することでき、この電圧の変化から信号の再生を行っている。即ち、磁気抵抗効果膜２７は、再生素子として機能している。
【００４８】
また、本実施形態のディスクＤは、図２に示すように、基板ｄ１上に下地層ｄ２、磁気
記録層ｄ３、保護層ｄ４及び潤滑層ｄ５が順に成膜されたものである。基板ｄ１としては、例えば、アルミ基板やガラス基板等である。下地層ｄ２は、磁気記録層ｄ３が薄くても良好な磁気特性をだすためのもので、例えばＣｒ合金系が使用される。磁気記録層ｄ３は、保磁力を高めるため、例えばＣｏＣｒＰｔＴａやＣｏＣｒＰｔＢ等のＣｏＣｒ系合金が使用される。保護層ｄ４は、磁気記録層ｄ３を保護するためのもので、例えばＤＬＣ（ダイヤモンド・ライク・カーボン）膜が使用される。潤滑層ｄ５は、例えば、フッ素系の液体潤滑材が使用される。
【００４９】
図３には、近接場光ヘッド２の対向面１５上の構造を示す。また、図４にはコア１６の拡大図であり、図４（a）には磁極１８にコイル２０が巻回する構造を、図４（ｂ）は磁極１９にコイル２０が巻回する構造を示す。
【００５０】
図３及び図４に示すように、コア１６に形成された４つの側面１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆのうち、ディスクＤの移動方向に沿うように並んだ互いに向い合う２つの側面１６ｃと１６ｄ上には、上記第１の磁極１８及び第２の磁極１９が形成されている。両磁極１８、１９は、例えば、磁性体材料を蒸着等の薄膜成膜技術によって側面１６ｃと１６ｄ上に形成されたものである。このように、第１の磁極１８及び第２の磁極１９が開口を介して互いに向い合わせに配置されることにより、近接場光がディスクＤに照射される領域と磁極からの漏れ磁束がディスクＤに照射される領域とをより一致させることができるため、近接場光及び磁界の広がりを抑制して書き込みの信頼性を向上することができる。
上記コア１６は、スライダ１５と同様に石英ガラス等の光透過性材料で形成されており、図４に示すように、底面１６ａと端面１６ｂと４つの側面（複数の側面）１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆとを有する四角錐台状に形成されている。具体的には、長方形の底面１６ａと、該底面１６ａより小さな面積で同一形状（平面視長方形状）に形成され、底面１６ａから所定距離離間した位置に配された端面１６ｂと、底面１６ａ及び端面１６ｂの頂点をそれぞれ結んで形成された４つの側面１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆを有するように加工されている。
但し、コア１６としては、４つの側面１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆを有する場合に限定されるものではなく、平面視多角形状（例えば、６角形状や８角形状）の底面及び端面と、これら底面及び端面のそれぞれの頂点を結ぶ複数の側面（例えば、底面及び端面が６角形状の場合には６面）とを有するコアとしても構わない。即ち、底面及び端面が平面視多角形状に形成された角錐台状のコアであれば構わない。なお、底面及び端面は、共に同じ形状でなくても構わない。また、コア１６が該錐台構造だけではなく、少なくもと一側面を持つ構造、例えば、対向面１５aから突出している段構造や凹み構造でも構わない。
このように構成されたコア１６は、図２に示すように、底面１６ａをスライダ１５の対向面１５ａに面接触させた状態で固定されている。この際、互いに対向する２つの側面1６ｃと１６ｄが、スライダ１５の長手方向、即ち、ディスクＤの移動方向に沿って並ぶように固定されている。なお、コア１６とスライダ１５とをそれぞれ別々に作製した後、互いを固定しても構わないし、石英ガラス等から一体的に作製しても構わない。特に、一体的に作製することで、製造工程の簡略化、製造時間の短縮化等を図ることができるので、より好ましい。
【００５１】
また、底面１６ａを対向面１５ａに面接触させているので、コア１６の端面１６ｂも同
様にスライダ１５の対向面１５ａ及びディスク面Ｄ１に対して平行状態となっている。こ
の際、端面１６ｂの高さが凸状部１５ｂの高さと同じになるように、コア１６の高さが設
定されている。
【００５２】
ここでコア１６の端面１６ｂは、上述したように底面１６ａよりも小さいサイズで該底
面１６ａと同じ形状に形成されているので、４つの側面１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆは端面１６ｂに向かうにしたがって向い合う側面１６ｃと１６ｄの間隔が漸次狭まる斜面状態となっている。特に、コア１６の端面１６ｂのサイズは、近接場光Ｒを発生させる極微小サイズであるので、端面１６ｂにおける両磁極１８、１９の間隔（磁気ギャップ）Ｇは非常に近接した状態となっている。つまり、微小な磁気ギャップＧとなっている。
【００５３】
また、磁気コイル２０は、磁極１８の一部の周囲を螺旋状に巻回した状態で、形成されている。この際コイル２０は、ショートしないように、隣り合う線材間、磁極１８との間が絶縁状態とされている。また、このコイル２０は、ビーム３やキャリッジ１１を介して制御部８に電気的に接続されており、該制御部８から情報に応じて変調された電流が供給されるようになっている。即ち、磁極１８及びコイル２０は、全体として電磁石を構成している。上記の構造は、コイル２０の電流方向を図４（a）のＩにすると、磁極１８から磁極１９へ磁界Ｍが流れ、磁気記録時に必要とされる漏れ磁束を発生させる仕組みとなっている。この場合は、磁極１８が主磁極、磁極１９が補助磁極となる。
【００５４】
また、補助磁極１９の周囲にコイル２０を形成し、コイル２０内の電流の流れる方向を図４（ｂ）のＩにすることで、主磁極１８から補助磁極１９へ磁界Ｍが流れるようにすることもできる。
【００５５】
図５（a）には、コイル２０が磁極１８に巻回されている詳細な様子を示す。また、図５（ｂ）には図５（a）のＡ−Ａ´での断面図を示す。
【００５６】
コイル２０は、略円筒上に導体を螺旋状に巻いたコイル、いわゆる、ソレノドコイル構造と類似な構造となっている。
【００５７】
このように、従来の構成のように同一平面上においてコイルが螺旋状に巻かれている構成ではなく、コイル２０が磁極１８に巻かれる構成であるため、従来の構造よりもコイル２０の全体の磁界強度を高めることができる。また、漏れ磁束発生部の直ぐ近傍にコイルを形成する構造となっているため、磁界の損失を極端に低減させることが可能である。また、コイル２０の１巻分のコイル（単コイル）を形成することでも、磁気記録に必要とされる十分な磁界を得ることが可能になる。すなわち、従来の磁気記録ヘッドに搭載されている平面上に導体を螺旋状に巻いたコイル構造よりも、コイル２０に流す電流に対する発生磁界の損失が少なくなり、より強力かつ高効率の磁界を発生させることができる。また、磁気発生部の構造が従来よりもシンプルになるため、ヘッドの小型化を図ることが可能になる。
【００５８】
次に、このように構成された情報記録再生装置１により、ディスクＤに各種の情報を記録再生する場合について以下に説明する。
【００５９】
まず、スピンドルモータ７を駆動させてディスクＤを一定方向に回転させる。次いで、アクチュエータ６を作動させて、キャリッジ１１を介してビーム３をＸＹ方向にスキャンさせる。これにより、図１に示すように、ディスクＤ上の所望する位置に近接場光ヘッド２を位置させることができる。この際、近接場光ヘッド２は、スライダ１５の対向面１５ａに形成された２つの凸状部１５ｂによって浮上する力を受けると共に、ビーム３等によってディスクＤ側に所定の力で押さえ付けられる。近接場光ヘッド２は、この両者の力のバランスによって、図２に示すようにディスクＤ上から所定距離Ｈ離間した位置に浮上する。
【００６０】
また、近接場光ヘッド２は、ディスクＤのうねりに起因して発生する風圧を受けたとし
ても、ジンバル部２５によってＺ方向、ＸＹ軸回りに変位することができるようになって
いるので、うねりに起因する風圧を吸収することができる。そのため、近接場光ヘッド２
を安定した状態で浮上させることができる。
【００６１】
ここで、情報の記録を行う場合、制御部８は光信号コントローラ５を作動させると共に、情報に応じて変調した電流をコイル２０に供給する。
【００６２】
光信号コントローラ５は、制御部８からの指示を受けて光束Ｌを光導波路４の基端側から入射させる。入射した光束Ｌは、光導波路４内を先端側に向かって進み、図２に示すようにミラー面４ａで略９０度向きを変えて光導波路４内から出射する。出射した光束Ｌは、レンズ２６によって集束された状態でスライダ１５内部を透過すると共に、レンズ２６の略真下に設けられたコア１６の内部に底面１６ａ側から入射する。つまり、光束Ｌは、光束導入手段１７によってスライダ１５の上面側から一直線にコア１６に向かって導入される。
【００６３】
コア１６の内部に導入された光束Ｌは、底面１６ａ側から端面１６ｂ側に向かって進み、図２（ｂ）に示すように、ディスク面Ｄ１に対向する端面１６ｂから近接場光Ｒとして外部に漏れ出す。つまり、コア１６の端面１６ｂから近接場光Ｒを発生させることができる。
【００６４】
このように、スライダ１５の上面側からコア１６の端面１６ｂに向けて略一直線に光束Ｌを導入できるので、従来の光の入れ方とは異なり光束Ｌをスライダ１５の上面から容易に導入できると共に、効率良く近接場光Ｒを発生させることができる。この近接場光Ｒによって、ディスクＤの磁気記録層ｄ３は局所的に加熱されて一時的に保磁力が低下する。
【００６５】
なお、コア１６の側面１６ｃに形成された両磁極１８、１９を光非透過性の材料から形成することが好ましい。こうすることで、両磁極１８、１９が形成された側面１６ｃからコア１６の外部に光束Ｌが漏れてしまうことを防止でき、光束Ｌを端面１６ｂにより集光させて、近接場光Ｒを効率良く発生させることができる。
【００６６】
一方、制御部８によってコイル２０に電流が供給されると、電磁石の原理により電流磁界が磁極１８内に磁束を発生させるので、磁極１８から磁極１９へ磁界が流れる。これにより、両磁極１８、１９間の磁気ギャップＧには、図２（ｂ）に示すようにディスクＤに向けて磁界が漏れ出す。この際、上述したように磁気ギャップＧは、コア１６の側面１６ｃに両磁極１８、１９が形成されていることで、微小な隙間となっている。そのため、磁気ギャップＧに発生した漏れ磁界は、ディスクＤの磁気記録層ｄ３に対して局所的に作用する。
【００６７】
これにより、近接場光Ｒによって保磁力が低下した磁気記録層ｄ３の局所的な位置に対して、ピンポイントで漏れ磁束を作用させることができる。なお、この漏れ磁束は、記録する情報に応じて向きが反転する。
【００６８】
そして、ディスクＤの磁気記録層ｄ３は、漏れ磁束を受けると、漏れ磁束の向きに応じ
て磁化の方向が反転する。その結果、ディスクＤに情報の記録を行うことができる。つまり、近接場光Ｒと両磁極１８、１９で発生した漏れ磁束とを協働させた、近接場光アシスト磁気記録方式により情報の記録を行うことができる。
【００６９】
次に、ディスクＤに記録された情報を再生する場合には、スライダ１５の先端面１５ｃに形成されている磁気抵抗効果膜２７が、ディスクＤの磁気記録層ｄ３から漏れ出ている磁界を受けて、その大きさに応じて電気抵抗が変化する。よって、磁気抵抗効果膜２７の電圧が変化する。これにより制御部８は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することができる。そして制御部８は、この電圧の変化から信号の再生を行うことで、情報の再生を行うことができる。
【００７０】
また、近接場光Ｒを発生させるコア１６は、底面１６ａ及び端面１６ｂがディスク面Ｄ１やスライダ１５の対向面１５ａと平行になるように設けられているので、光束導入手段１７はスライダ１５の上面から光束Ｌを容易且つ確実に導入することができる。
【００７１】
また、スライダ１５の対向面１５ａにコア１６を固定すると共に、コア１６の側面１６ｃに両磁極１８、１９を形成するだけで、近接場光Ｒの発生と漏れ磁界の発生とを同時に達成することができるので、従来のように複雑な構成にすることなく、シンプルな構造にすることができる。よって、構成を簡略化することができ、小型化を図ることができる。また、コア１６の底面１６ａ側から導入された光束Ｌは、安定的に端面１６ｂに向かうので効率良く近接場光Ｒを発生させることができる。よって、近接場光Ｒと漏れ磁界とをより効率良く協働させることができる。
【００７２】
更に、従来とは異なり、両磁極１８、１９の間で近接場光Ｒを発生させることができる
ので、漏れ磁界が作用する範囲内に、近接場光Ｒによる加熱温度のピーク位置を入れることができる。特に、漏れ磁界のピーク位置に対して、近接場光Ｒによる加熱の温度勾配のピーク位置がずれるとしても、加熱温度のピーク位置を漏れ磁界の範囲内に留めておくことができる。従って、ディスクＤの局所的な位置に対して確実に記録を行うことができ、信頼性の向上及びディスクのさらなる高記録密度化を図ることができる。また、第１の磁極１８及び第２の磁極１９がディスクＤの移動方向に沿って並んでいるので、両磁極１８、１９を確実にディスクＤのトラック上に位置させることができる。従って、隣接するトラックに記録された情報に影響を与えることなく、所望するトラックに対して情報を正確に記録することができる
図６は磁極１８にコイル２０が巻回されている構造の製造方法の概略図（図５のＡ−Ａ´断面）である。
【００７３】
Ｓ１からＳ６の各行は作製ステップを示す。まずステップＳ１で、スライダ１５の対向面１５a上に形成したコア１６の側面１６ｃ上に下部配線２０aを導電性材料、例えば、Ａｕなどを用い形成する。下部配線２０aの成膜はスパッタリングや真空蒸着などの手段で形成することができる。特に、斜方蒸着手段を用いると、効果的である。下部配線２０aのパターニングは、導電性材料を成膜し、その上にフォトレジストをパターニングした後、ドライエッチング法またはウエットエッチング法を用い、行うことができる。また、下部配線２０aのパターニングの他の手段として、コア１６の側面１６ｃ上にフォトレジストをパターニングし、前記パターニングされたフォトレジスト上に導電性材料を成膜した後、リフトオフする方法もある。
【００７４】
次にステップＳ２において、下部配線２０aと磁極１８の間に配置する下部絶縁層２１aを形成する。下部絶縁層２１aは、例えば、ＳＵ−８のようなフォトレジストなどを用いれば、容易に形成することができる。また、下部絶縁層２１aの形成後、上面２２aを研磨してもしなくても良いが、研磨をした場合は上面２２aが平坦化されることで、常に均一な膜厚を得ることができ、且つパターン精度の良い磁極１８を下部絶縁層２１aの上に形成することができる。
【００７５】
次にステップＳ３において、下部絶縁層２０aの上に磁極１８を、パーマロイなどの磁性材料を用い形成する。その次に、磁極１８と対向する側面１６ｄ上に磁極１９をパーマロイなどの磁性材料を用い形成する。磁極１８と１９の成膜はスパッタリングや真空蒸着などの手段で行う。特に、斜方蒸着手段を用いると、効果的である。磁極１８、１９のパターニングは、磁性材料を成膜し、その上にフォトレジストをパターングした後、ドライエッチング法またはウエットエッチング法を用い、行うことができる。また、磁極１８、１９のパターニングの他の手段として、下部絶縁層２２aの上にフォトレジストをパターニングし、前記パターニングされたフォトレジスト上に磁性材料を成膜した後、リフトオフする方法もある。
【００７６】
次にステップＳ4において、磁極１８と上部配線２０ｃとの絶縁のため、上部絶縁層２１ｂを上記下部絶縁層２１aとほぼ同様な材料と方法で形成する。また、上部絶縁層２１ｂは、その形成後上面２２ｂを研磨してもしなくても良いが、研磨をした場合は上面２２ｂが平坦化されることで、常に均一な膜厚を形成することができ、パターン精度の良い上部配線２０ｃと側面配線２０ｂ（図省略）を上部絶縁層２１ｂの上面と側面に形成することができる。
【００７７】
次にステップＳ５において、上部配線２０ｃを下部配線２０aと同様な材料と方法で形成する。上部配線２０ｃと側面配線２０ｂは、一つのフォトレジストを用い同時に形成することもできるし、または、先に側面配線２０ｂのみフォトレジストパターニングを行い形成した後、次に上部配線２０ｃを形成しても良い。
【００７８】
最後にステップＳ６において、上記まで作製した構造（下部配線２０a、下部絶縁層２１a、磁極１８、上部絶縁層２１ｂ、上部配線２０ｃ、側面配線２０ｂ）を全部覆うような外部絶縁層２１ｃを、上記の上下部絶縁層２１aと２１ｃの形成に用いた同様な材料と方法で形成する。
【００７９】
上述したように本実施形態の近接場光ヘッド２によれば、小型化を図りながら近接場光Ｒを効率良く発生させることができると共に、より強力かつ高効率の磁界を発生させることができ、書き込みの信頼性を向上することができる。
【００８０】
また、本実施形態の情報記録再生装置１によれば、上述した近接場光ヘッド２を備えて
いるので、該情報記録再生装置１自体の小型化も図ることができ、また、書き込みの信頼
性が高まって高品質化を図ることができる。
【００８１】
また、近接場光ヘッド２のコア１６は、側面１６ｃ、１６ｄと両磁極１８、１９との間にそれぞれ金属膜が形成されてもよく、両磁極１８、１９が形成された側面１６ｃ、１６ｄ以外の側面１６ｅ、１６ｆ上に金属膜が形成されていても良い。側面１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ及び１６ｆ上に形成された金属膜表面から表面プラズモンが励起され、光強度の強い近接場光Ｒとなって外部に漏れ出す。コア１６の内部に導入された光束Ｌは端面１６ｂに向かう途中でコア１６の外部に漏れることがない。従って、光束Ｌを無駄なく端面１６ｂに集光することができ、より効率良く光強度の強い近接場光Ｒを発生することができる。その結果、ディスクＤをより効率良く加熱することができ、情報の記録をさらに容易に行うことができる。
【００８２】
また、上記各実施形態では、面内記録方式で記録を行う場合を例にして説明したが、この記録方式に限られず、垂直記録方式にも適用可能なものである。
（実施の形態２）
次に、本発明に係る近接場光ヘッドの第２実施形態について、図７の(ａ)、（ｂ）、（ｃ）を参照して説明する。図７（ａ）は磁極１８と１９双方の周囲にコイル２０と２０´が巻回する構造であり、図７の（ｂ）は図７の（ａ）の上面図、図７の（ｃ）は図７の（ｂ）のＡ−Ａ´の断面図を示す。なお、第２実施形態において第１実施形態と同一の構成については、同一の符号を付しその説明を省略する。
【００８３】
図４と図５には磁極１８あるいは１９のいずれかにコイルが巻回している構造を示しているが、図７には磁極１８と１９双方にコイルが巻回され、磁極１８とコイル２０のみではなく、磁極１９とコイル２０´も全体として電磁石を構成している。
【００８４】
図４と図５に示している構造に比べ、磁極１８と１９双方にコイル２０と２０´を巻回することで、より強力な漏れ磁界Ｍを発生させることができると共に、確実に主磁極１８から補助磁極１９へ磁界Ｍを流すことができ、より安定的な磁気記録が可能になる。
【００８５】
また、磁極１８と１９に巻回するコイルの本数を単数にしても、磁気記録に必要とされる十分な磁界Ｍを得ることができる。
【００８６】
また、製造方法においても、図４と図５に示す構造の作製時に用いるフォトマスクに、複数のコイルや絶縁層の作製パターンを設けることだけで、作製工程が増えることなく、図４と図５に示す構造の作製方法とほぼ同一方法で、図７に示す構造を効率よく作製することができる。
（実施の形態３）
次に、本発明に係る近接場光ヘッドの第３実施形態について、図８の（ａ）と（ｂ）を参照して説明する。図８の（ａ）はコア１６が四角錐台であり、図８の（ｂ）はコア１６が三角錐台である場合の一例である。なお、第３実施形態において第１実施形態と第２実施形態と同一の構成については、同一の符号を付しその説明を省略する。
【００８７】
図４と図５あるいは図７には、コア１６の側面１６ｃと１６ｄの両側面上に磁極１８と１９が形成されている構造を示しているが、図８（ａ）と（ｂ）に示す構造にはコア１６の側面１６ｃ上のみ主磁極としての磁極１８が形成され、コイルが磁極１８の周囲を巻回している、いわゆるシングルポール構造となっている。補助磁極の機能をする磁極１９´は、コア１６が配置する対向面１５ａ上に設けられており、その位置は、ディスクＤの移動方向の略逆方向に、漏れ磁界Ｍ（図省略）が磁極１８から磁極１９´へ流れるようにする位置であれば、対向面１５ａ上のどの位置であっても構わない。
【００８８】
図８の（ａ）と（ｂ）に示す構造は、磁気記録方式が垂直磁気記録の場合に限定される構造であるが、近接場光発生素子が少なくとも一側面を持つ突出構造あるいは凹み構造であれば使用が可能になり、スライダ１５の構造に応じた近接場光発生素子や磁極１８、１９及び１９´などの設計自由度が高い。
【００８９】
また、製造方法においては、磁極１９の形成を除いて図４と図５あるいは図７に示す構造を作製した後、磁極１９´を別途に設けても良いし、磁極１８の形成時に用いるフォトマスクに磁極１９´のパターンを入れ、磁極１８の形成時に磁極１９´を同時に形成しても良い。
【００９０】
また、図８（ｂ）には、コア３６として三角錐台を用いた構造を示しており、コア３６の端面３６ｄの輪郭の内、入射光Ｌの偏光方向Ｐに対して略垂直である輪郭が1カ所のみである場合の一例を示す。図８（ｂ）に示す構造には、入射光Ｌの偏光方向Ｐが端面３６ｄの輪郭３６ｇに対して略垂直になるように制御される。また、該輪郭３６ｇと磁極３８は接している。
【００９１】
そうなると、図４と図５あるいは図７に示す構造に比べ、磁極３８の近傍に更に局在化した高エネルギーを持つ、近接場光Ｒを発生させることが可能になるので、極微細な領域の熱アシストが可能で、情報の超高密度記録に適している。
（実施の形態４）
次に、本発明に係る近接場光ヘッドの第３実施形態について、図９を参照して説明する。なお、第４実施形態において第１実施形態、第２実施形態及び第３実施形態と同一の構成については、同一の符号を付しその説明を省略する。
【００９２】
図９に示す構造は、図４、図７及び図８に示す構造の磁極１８と１９または磁極１８と１９´が薄膜状の回路２３によって接続されている構造の一例を示す。回路２３は磁極１８と１９または磁極１８と１９´と同様な磁性材料を用いる。
【００９３】
図９（ａ）に示す構造は、図４（ａ）に示す構造の磁極１８と１９が回路２３によって接続されており、図９（ｂ）に示す構造は、図８（ａ）に示す構造の磁極１８と１９´が回路２３によって接続されている。図９の構造は、磁極と回路２３とが完全な磁気回路構造を形成することで、磁界Ｍを効率よく磁極１８から磁極１９または１９´へ伝搬させることが可能である。
【００９４】
回路２３の作製方法は、磁極１８と１９または磁極１８と１９´のパターニングの際用いるフォトマスクに、回路２３のパターンを入れることで、磁極１８と１９または磁極１８と１９´の形成時に、同時かつ簡便に作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９５】
【図１】本発明に係る近接場光ヘッドを有する情報記録再生装置の第１実施形態を示す構成図である。
【図２】図１に示す近接場光ヘッドの拡大断面図と、コアを中心とした拡大断面図である。
【図３】図２に示す近接場光ヘッドを、ディスク面側から見た図である。
【図４】図３に示す近接場光ヘッドのコアを端面側から見た拡大斜視図である。
【図５】図３に示す近接場光ヘッドの磁気記録部の詳細な拡大上面図と、コアとコイル構造の断面を示す断面図である。
【図６】図５に示すコイル構造の製造方法を示す断面図である。
【図７】本発明に係る近接場光ヘッドの第２実施形態を示す、磁気記録部のディスク面側から見た拡大斜視図と断面図である。
【図８】本発明に係る近接場光ヘッドの第３実施形態を示す、磁気記録部のディスク面側から見た拡大斜視図である。
【図９】本発明に係る近接場光ヘッドの第４実施形態を示す、磁気記録部のディスク面側から見た拡大斜視図である。
【符号の説明】
【００９６】
Ｄ ディスク（磁気記録媒体）
Ｄ１ ディスク面（磁気記録媒体の表面）
Ｌ 光束
Ｒ 近接場光
Ｇ ギャップ
I 電流方向
Ｍ 磁界方向
Ｐ 偏光方向
１ 情報記録再生装置
２ 近接場光ヘッド
３ ビーム
５ 光信号コントローラ（光源）
６ アクチュエータ
７ スピンドルモータ（回転駆動部）
８ 制御部
１５ スライダ
１５ａ 対向面
１６、３６ コア
１６ａ、３６ａ コアの底面
１６ｂ、３６ｂ コアの端面
１６ｃ、１６ｄ、１６ｅ、１６ｆ、３６ｃ、３６ｅ、３６ｆ コアの側面
３６ｇ コア端面の一辺
１８、３８ 第１の磁極
１９、１９´ 第２の磁極
２０、２０´、３０ コイル
２０ａ、２０ａ´ 下部配線
２０ｂ、２０ｂ´ 上部配線
２０ｃ、２０ｃ´ 側面配線
２１、２１´ 絶縁層
２１ａ、２１ａ´ 下部絶縁層
２１ｂ、２１ｂ´ 上部絶縁層
２１ｅ、２１ｅ´ 外部絶縁層
２３ 磁性材回路
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導入された光束から近接場光を発生させて、一定方向に回転する磁気記録媒体を加熱すると共に、該磁気記録媒体に磁界を与えて磁化反転を生じさせ情報を記録させる近接場光ヘッドであって、
前記磁気記録媒体の表面から所定距離だけ浮上した状態で配置され、前記磁気記録媒体の表面に対向する対向面を有するスライダと、
前記対向面上に形成され、前記対向面に対して一定の角度を有しながら前記対向面と接している複数の側面を持つと共に、前記複数の側面の頂部から前記近接場光を発生させる近接場光発生素子と、
前記近接場光発生素子の前記側面の少なくとも一側面上に形成された少なくとも一本の下部配線と、
前記下部配線を覆う位置に配置された薄膜状の磁極と、
前記磁極の両側のうち、前記下部配線が配置されている側とは逆側に配置された少なくとも一本の上部配線と、
前記下部配線及び前記上部配線をつなぐ少なくとも1本の側面配線と
前記下部配線、前記磁極及び前記上部配線のそれぞれを絶縁する絶縁層と、
前記下部配線と前記上部配線とが前記側面配線で交互に直列に接続されることにより前記磁極の周囲に巻回されたコイルとを備えることを特徴とする近接場光ヘッド。
【請求項２】
前記近接場光発生素子が、前記近接場光を発生させる開口を有し、
前記磁極は、前記開口を囲む縁部分の一部を構成すると共に、互いに向い合わせに配置された第１の磁極及び第２の磁極を備え、
前記第１の磁極及び前記第２の磁極のいずれかの周囲に前記コイルが巻回されていることを特徴とする請求項１に記載の近接場光ヘッド。
【請求項３】
前記近接場光発生素子が、前記近接場光を発生させる開口を有し、
前記磁極は、前記開口を囲む縁部分の一部を構成すると共に、互いに向い合わせに配置された第１の磁極及び第２の磁極を備え、
前記第１の磁極及び前記第２の磁極の双方の周囲に前記コイルが巻回されていることを特徴とする請求項１記載の近接場光ヘッド。
【請求項４】
前記近接場光発生素子が、前記近接場光を発生させる開口を有し、
前記磁極は、前記開口を囲む縁部分の一部を構成する第１の磁極と、前記スライダの前記対向面上に配置された第２の磁極とを備え、
前記第１の磁極の周囲に前記コイルが巻回されていることを特徴とする請求項１記載の近接場光ヘッド。
【請求項５】
前記第１の磁極と前記第２の磁極が、薄膜状の磁性体からなる回路によって接続され、前記第１の磁極、前記第２の磁極及び前記外部配線が磁気回路構造を形成することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の近接場光ヘッド。
【請求項６】
前記近接場光発生素子が錐体あるいは錐台であり、該錐体あるいは錐台の上面の開口の輪郭の内、前記入射光の偏光に対して略垂直である部分が1カ所のみであることを特徴とする請求項４に記載の近接場光ヘッド。
【請求項７】
前記開口の輪郭の内、前記入射光の偏光に対して略垂直である部分が前記第1の磁極と接していることを特徴とする請求項６に記載の近接場光ヘッド。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の近接場光ヘッドと、
前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、該磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在な状態で、前記近接場光ヘッドを先端側で支持するビームと、
前記スライダに対して平行に配置された状態で該スライダに固定され、入射された光束を前記近接場発生素子に導く光束導入手段と、
前記光束導入手段に対して前記光束を入射させる光源と、
前記ビームの基端側を支持すると共に、該ビームを前記磁気記録媒体の表面に平行な方
向に向けて移動させるアクチュエータと、
前記磁気記録媒体を前記一定方向に回転させる回転駆動部と、
前記コイルに電流を供給すると共に前記光源の作動を制御する制御部とを備えていることを特徴とする情報記録再生装置。
【請求項１】
導入された光束から近接場光を発生させて、一定方向に回転する磁気記録媒体を加熱すると共に、該磁気記録媒体に磁界を与えて磁化反転を生じさせ情報を記録させる近接場光ヘッドであって、
前記磁気記録媒体の表面から所定距離だけ浮上した状態で配置され、前記磁気記録媒体の表面に対向する対向面を有するスライダと、
前記対向面上に形成され、前記対向面に対して一定の角度を有しながら前記対向面と接している複数の側面を持つと共に、前記複数の側面の頂部から前記近接場光を発生させる近接場光発生素子と、
前記近接場光発生素子の前記側面の少なくとも一側面上に形成された少なくとも一本の下部配線と、
前記下部配線を覆う位置に配置された薄膜状の磁極と、
前記磁極の両側のうち、前記下部配線が配置されている側とは逆側に配置された少なくとも一本の上部配線と、
前記下部配線及び前記上部配線をつなぐ少なくとも1本の側面配線と
前記下部配線、前記磁極及び前記上部配線のそれぞれを絶縁する絶縁層と、
前記下部配線と前記上部配線とが前記側面配線で交互に直列に接続されることにより前記磁極の周囲に巻回されたコイルとを備えることを特徴とする近接場光ヘッド。
【請求項２】
前記近接場光発生素子が、前記近接場光を発生させる開口を有し、
前記磁極は、前記開口を囲む縁部分の一部を構成すると共に、互いに向い合わせに配置された第１の磁極及び第２の磁極を備え、
前記第１の磁極及び前記第２の磁極のいずれかの周囲に前記コイルが巻回されていることを特徴とする請求項１に記載の近接場光ヘッド。
【請求項３】
前記近接場光発生素子が、前記近接場光を発生させる開口を有し、
前記磁極は、前記開口を囲む縁部分の一部を構成すると共に、互いに向い合わせに配置された第１の磁極及び第２の磁極を備え、
前記第１の磁極及び前記第２の磁極の双方の周囲に前記コイルが巻回されていることを特徴とする請求項１記載の近接場光ヘッド。
【請求項４】
前記近接場光発生素子が、前記近接場光を発生させる開口を有し、
前記磁極は、前記開口を囲む縁部分の一部を構成する第１の磁極と、前記スライダの前記対向面上に配置された第２の磁極とを備え、
前記第１の磁極の周囲に前記コイルが巻回されていることを特徴とする請求項１記載の近接場光ヘッド。
【請求項５】
前記第１の磁極と前記第２の磁極が、薄膜状の磁性体からなる回路によって接続され、前記第１の磁極、前記第２の磁極及び前記外部配線が磁気回路構造を形成することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の近接場光ヘッド。
【請求項６】
前記近接場光発生素子が錐体あるいは錐台であり、該錐体あるいは錐台の上面の開口の輪郭の内、前記入射光の偏光に対して略垂直である部分が1カ所のみであることを特徴とする請求項４に記載の近接場光ヘッド。
【請求項７】
前記開口の輪郭の内、前記入射光の偏光に対して略垂直である部分が前記第1の磁極と接していることを特徴とする請求項６に記載の近接場光ヘッド。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の近接場光ヘッドと、
前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、該磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在な状態で、前記近接場光ヘッドを先端側で支持するビームと、
前記スライダに対して平行に配置された状態で該スライダに固定され、入射された光束を前記近接場発生素子に導く光束導入手段と、
前記光束導入手段に対して前記光束を入射させる光源と、
前記ビームの基端側を支持すると共に、該ビームを前記磁気記録媒体の表面に平行な方
向に向けて移動させるアクチュエータと、
前記磁気記録媒体を前記一定方向に回転させる回転駆動部と、
前記コイルに電流を供給すると共に前記光源の作動を制御する制御部とを備えていることを特徴とする情報記録再生装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２００９−４０２４（Ｐ２００９−４０２４Ａ）
【公開日】平成２１年１月８日（２００９．１．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１６３５７２（Ｐ２００７−１６３５７２）
【出願日】平成１９年６月２１日（２００７．６．２１）
【出願人】（０００００２３２５）セイコーインスツル株式会社 (3,629)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１月８日（２００９．１．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年６月２１日（２００７．６．２１）
【出願人】（０００００２３２５）セイコーインスツル株式会社 (3,629)
【Ｆターム（参考）】
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