基板（４２）を製造するための精密装置（１０）は、精密製造装置（１２）と、ペデスタル体（１４）と、緩衝系（１６）とを備える。精密製造装置（１２）は、基板（４２）を製造する。ペデスタル体（１４）は、製造装置（１２）の少なくとも一部を支持する。緩衝系（１６）は、前記搭載ベース（２０）と前記ペデスタル体（１４）との間での動きの伝達を抑制する。緩衝系（１６）は、（１）搭載ベース（２０）及びペデスタル体（１４）に接続され、搭載ベース（２０）及びペデスタル体（１４）の少なくとも１つに枢動可能に接続された第１ブーム材（３８０）と、（２）搭載ベース（２０）と第１ブーム材（３８０）及びペデスタル体（１４）の少なくとも１つとの間で接続された第１弾性体（３８２）と、を含むことができる。第１弾性体（３８２）は、弾性体（３８２）の作動範囲においてゼロ長スプリングと同様に機能できる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は、２００８年９月４日に出願された米国仮出願６１／０９４，１８２号、２００８年９月１８日に出願された米国仮出願６１／０９８，００９号、２００８年９月１８日に出願された米国仮出願６１／０９８，０１６号、２００８年９月１８日に出願された米国仮出願６１／０９８，０２９号、２００８年９月１８日に出願された米国仮出願６１／０９８，０３９号、２００８年９月１８日に出願された米国仮出願６１／０９８，０４７号、２００８年９月１８日に出願された米国仮出願６１／０９８，０５７号、２００８年９月１８日に出願された米国仮出願６１／２３４，７３４号、及び２００９年８月２７日に出願された米国出願１２／５４８，８９５号に基づく優先権を主張し、それらのすべてが本出願に援用される。
【背景技術】
【０００２】
一般に、半導体処理において、レチクルの像を半導体ウエハに転写するために半導体処理用の露光装置が使用される。通常、露光装置は、（１）照明源及び照明光学装置を含む照明系、（２）レチクルを位置付けるレチクルステージ装置、（３）投影光学機器、及び（４）半導体ウエハを位置付けるウエハステージ装置を有する。この構成において、照明系は、ウエハに像を転写するためにレチクルを照明する。高密度ウエハ用に、これらの機器を正確に位置決めかつ機能させる必要がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
残念ながら、地震においては露光装置の機器の配置が変化しかつ装置損傷を受ける可能性がある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、基板を製造するための精密装置に関する。一実施形態において、精密装置は、精密製造機、ペデスタル体（pedestal assembly）、及び緩衝系を含む。精密製造機は、基板を製造するように構成される。ペデスタル体は、製造機の少なくとも一部を支持する。緩衝系は、搭載ベースとペデスタル体との間での動きの伝達を抑制する。一実施形態において、緩衝系は、（１）搭載ベース及びペデスタル体につながった第１ブーム材（boom）であって、搭載ベース及びペデスタル体の少なくとも１つに枢動可能につながった前記第１ブーム材と、（２）第１ブーム材及びペデスタル体の少なくとも１つと搭載ベースとの間につながった第１弾性体と、を備える。
【０００５】
ここで、第１弾性体は、弾性体の作動範囲においてゼロ長スプリングと同様に機能できる。例えば、第１弾性体は、ゼロ長スプリングにできる。代替的に、第１弾性体は、ピストンシリンダと、ピストンシリンダに対して移動可能なピストンとを含むことができる。
【０００６】
一実施形態において、緩衝系は、（１）前記搭載ベース及び前記ペデスタル体につながった第２ブーム材であり、前記搭載ベース及び前記ペデスタル体の少なくとも１つに枢動可能につながった前記第２ブーム材と、（２）前記第２ブーム材及び前記ペデスタル体の少なくとも１つと搭載ベースとの間につながった第２弾性体と、も含む。この実施形態において、各弾性材は、作動範囲にわたり、ゼロ長スプリングと同様に機能できる。
【０００７】
別の実施形態において、緩衝系は、負の剛性を有する。この実施形態において、緩衝系は、前記第１弾性体を前記搭載ベースに移動可能につなぐ移動マウントと、前記ブームを前記搭載ベースに枢動可能につなぐブームコネクタと、前記移動マウントを前記ブームコネクタから離した状態に維持するマウント弾性体と、を含むことができる。
【０００８】
代替的に、緩衝系は、実質的なゼロ剛性を有することができる。ここで、ゼロ剛性メカニズムは位置や動きにかからず、一定の力を発揮するメカニズムを意味する。
【０００９】
本発明は、また、緩衝系システムに関し、それは（１）第１物体が搭載されるペデスタル体と、（２）ペデスタル体を前記第２物体に接続し、実質的ゼロ剛性で前記ペデスタルを支持する緩衝体とを含む。この実施形態において、前記緩衝体は、正剛性の弾性メカニズムと負剛性の弾性メカニズムを含むことができる。
【００１０】
本発明は、また、サスペンションに関し、それは、第１マウント、第２マウント、第１補材、及び第２補材を含む。前記第１マウントは前記第１物体に取り付けられ、前記第２マウントは前記第２物体に取り付けられる。前記第１補材及び前記第２補材は、前記第１マウントの動きが前記第２マウントに伝わるのを抑制する。第１補材は、前記第１マウントから枢動可能に張り出した第１ブーム材と、前記第１マウントと前記第１ブーム材と間で接続された第１弾性材とを含むことができる。同様に、前記第２補材は、前記マウントの１つから枢動可能に張り出した第２ブーム材と、前記マウントの１つと前記第２ブーム材との間でつながった第２弾性材とを含む。マウントを共有したマルチなシステムの利用は、コンパクト、ゼロ剛性、モジュール、露光装置を含む多くの異なる精密装置に容易に組み込むことができるサスペンションを可能とする。
【００１１】
一実施形態において、第２ブーム材は、第１マウントに枢動可能に接続され、第２弾性材は、第１マウントと第２ブーム材と間で接続される。この実施形態において、第１及び第２補材は、平行配置されたラコスト型システムである。別の実施形態において、（１）第２ブーム材は、第２マウントに枢動可能に接続され、（２）第２弾性材は、第２マウントと第２ブーム材との間に接続され、第１ブームコネクタを用いて、第１ブーム材の先端部が第２ブーム材の先端部に機械的に接続される。この実施形態において、第１及び第２補材は、平行配置されたラコスト型システムである。
【００１２】
また、本発明は第１物体と第２物体との間の動きの伝達を抑制する弾性メカニズムである。一実施形態において、サスペンションは、第１マウント、第１支持部、及び第１緩衝体を含む。第１マウントは第１物体に取り付けられ、第１支持部は第２物体に取り付けられる。第１緩衝体は、第１マウントを第１支持部に接続し、第１弾性体は、第１軸に沿ったかつ第２軸に沿った動きの伝達を抑制する。いくつかの実施形態において、平行配置された、第１緩衝体は、第１ラコスト型システム及び第１ガーデンゲート型構造を規定する。
【００１３】
ここで、ラコスト型システムとは、実質的にゼロ剛性を有し、動きにかかわらず、実質的に一定の力を発揮する緩衝系を意味する。
【００１４】
また、ガーデンゲート型構造は、ゲートのようにヒンジ動作可能に枢動するシステムを意味する。
【００１５】
一実施形態において、ラコスト型システムは、第１マウントに取り付けられ、ガーデンゲート型構造は、ラコスト型システムと第１支持部との間で延びかつそれらをヒンジ動作可能に接続する。
【００１６】
本発明は、また、弾性メカニズムに関し、それはブームコネクタ、ブーム材、移動マウント、及び第１ブーム弾性体を含む。ブームコネクタは、第１物体に固定される。ブーム材は、ブームコネクタから枢動可能に張り出し、ブーム材のブーム先端部は、第２物体に接続される。移動マウントは、ブームコネクタ及び第１物体に対して移動可能である。第１ブーム弾性体は、移動マウントとブームとの間で接続される。この構成において、弾性メカニズムは、作動範囲全体にわたって完全にリニアな負剛性を有し、弾性メカニズムは、大振幅の外乱に対する防振に用いることができる。
【００１７】
ここで、「負剛性」は、以下のような位置依存性の力特性を意味する：ゼロ位置で力がゼロであり、ゼロ位置から離れるに従って直線的に力の規模が増え、ゼロ位置でない場合の力の方向がゼロ位置から離れる向きである。
【００１８】
いくつかの実施形態において、負剛性の弾性メカニズムは、精密製造機を隔離するための１以上の正剛性のサスペンションを含む緩衝系の一部として利用できる。この構成において、負の剛性の弾性メカニズムは、１以上の正剛性サスペンションにおける正剛性に対抗し、緩衝系の全体的な剛性を低減する。
【００１９】
負剛性の弾性メカニズムは、一定の同じ力を維持しながら、固有の正剛性を減らす又は取り除くべき用途に適用できる。弾性メカニズムは、広い動作範囲にわたって一定の力が必要とされ、負の剛性によってシステムに対する固有の剛性を解消又は低減する必要があれば、どのような用途にも使用可能である。
【００２０】
一実施形態において、第１ブーム弾性体は、第１ブーム弾性体の作動範囲においてゼロ長スプリングと実質的に同様に機能する。また、弾性メカニズムは、移動マウントをブームコネクタから離間した状態に維持するマウント弾性体を含むことができる。また、移動マウントは、移動軸に沿って、ブームコネクタに対して移動可能である。
【００２１】
ここで、弾性メカニズムは、第１物体とブームとの間で接続される第２ブーム弾性体も含むことができる。この実施形態において、各ブーム弾性体は、作動範囲にわたり、ゼロ長スプリングと実質的同様に機能できる。また、この実施形態において、（１）軸心軸の周りをブームが枢動する、（２）第１ブーム弾性体によって、第１回転方向の軸心軸周りにブームを枢動させる、（３）第２ブーム弾性体によって、第１回転方向と反対の第２回転方向の軸心軸周りにブームを枢動させる。
【００２２】
また、いくつかの実施形態において、（１）ほぼゼロ、（２）正、又は（３）負の予荷重を弾性メカニズムが有するように、マウント弾性体の剛性、第１ブーム弾性体の剛性、及び第２ブーム弾性体の剛性を選択できる。換言すると、いくつかの実施形態において、弾性メカニズムは、負の剛性の供給に加えて、正、負、又はゼロに調整可能な一定のプリセット予荷重を供給するように構成できる。
【００２３】
ここで、正の予荷重とは、第１方向に沿った実質的に一定の力を意味し、その力はメカニズムの位置とは無関係であり、負剛性の位置依存性の力に追加的である。負の予荷重とは、第１方向に対向する第２方向に沿った実質的に一定の力を意味し、その力はメカニズムの位置とは無関係であり、負剛性の位置依存性の力に追加的である。ゼロ予荷重とは、負剛性の位置依存性の力以外の力が実質的に無いことを意味する。
【００２４】
本発明は、さらに精密装置に関し、それは、基板を製造するための精密製造機と、製造機の少なくとも一部を支持するペデスタル体と、搭載ベースとペデスタル体との間での動きの伝わりを抑制する隔離システムとを含む。ここで、ペデスタル体は、第１ペデスタルと、離間した第２ペデスタルとを含む。一実施形態において、精密製造機は、第１ペデスタルに固定された少なくとも１つの第１部品と、第２ペデスタルに固定された少なくとも１つの第２部品とを含む。隔離システムは以下を含む：（１）搭載ベースと第１ペデスタルとの間でつながり、搭載ベースと第１ペデスタルとの間での動きの伝達を抑制する第１隔離体、及び（２）搭載ベースと第２ペデスタルとの間につながり、搭載ベースと第２ペデスタルとの間での動きの伝達を抑制する第２隔離体。この構成において、隔離システムは、精密製造装置の標準的な操作中において、ペデスタル間の振動の伝達を抑制する。
【００２５】
いくつかの実施形態において、第１ペデスタルの振動の第１モードが第２ペデスタルの振動の第１モードとほぼ等しくなるように、１つ又は双方の隔離体の剛性が調整される。追加的又は代替的に、精密装置は、地震性擾乱中に、第１ペデスタルを第２ペデスタルと実質的に一緒に移動させるペデスタル同期システムを備えることができる。この構成は、地震性擾乱中に、ペデスタル及びペデスタルの部品が互いにノッキングするのを抑制する。また、この構成は、地震性擾乱中において、ペデスタル上の部品間で、物理的なつながりが張りつめた又はシビアになるのを抑制する。また、これは振動擾乱中における部品の相対移動を原因とした精密製造機の部品の損傷及び位置ずれの可能性を抑える。
【００２６】
一実施形態において、ペデスタル同期システムは、地震性擾乱に先立って、第１ペデスタルを第２ペデスタルに選択的にロックするペデスタルロック体を有する。追加的又は代替的に、ペデスタル同期システムは、振動発生中に、第１ペデスタルを第２ペデスタルと実質的に一緒に（トラック及びフロー）移動させるペデスタル移動装置を含むことができる。例えば、ペデスタル移動装置は、ペデスタル間に直接的に接続される１以上の移動体、及び／又はペデスタルの１つと搭載ベースとの間に直接的に接続される１以上の移動体を含むことができる。
【００２７】
追加的に、精密装置は、ペデスタルの少なくとも１つの位置に関する位置情報を供給するペデスタル計測システムと、位置情報に基づいて、ペデスタル移動装置を制御して、ペデスタルの１つ又は双方の位置を調整するペデスタル制御システムとを含むことができる。
【００２８】
本発明の特徴は、発明内容はもちろん、その構成及び動作のいずれも、同種の特徴が同種の部分として言及された、添付の図面及び以下の説明から最良に理解される。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】図１は、本発明の特徴を有する、精密装置の一実施形態の簡略化した模式図である。
【図２Ａ】図２Ａは、本発明の特徴を有する、精密装置の別の実施形態の簡略化した模式図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、本発明の特徴を有する、精密装置の別の実施形態の簡略化した模式図である。
【図３Ａ】図３Ａは、本発明の特徴を有する、サスペンションの斜視図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、図３Ａのサスペンションの上面図である。
【図３Ｃ】図３Ｃは、図３Ａのサスペンションの一部を拡大した斜視図である。
【図３Ｄ】図３Ｄは、図３Ａのサスペンションの一部断面を示す斜視図である。
【図３Ｅ】図３Ｅは、図３Ａのサスペンションの一部について異なる状況を示す側面図である。
【図３Ｆ】図３Ｆは、図３Ａのサスペンションの一部について異なる状況を示す側面図である。
【図３Ｇ】図３Ｇは、図３Ａのサスペンションの一部について異なる状況を示す側面図である。
【図３Ｈ】図３Ｈは、ラコスト型サスペンションの模式図である。
【図４】図４は、本発明の特徴を有する、サスペンションの別の実施形態の上面図である。
【図５】図５は、本発明の特徴を有する、サスペンションの別の実施形態の上面図である。
【図６】図６は、本発明の特徴を有する、サスペンションの別の実施形態の上面図である。
【図７】図７は、本発明の特徴を有する、サスペンションの別の実施形態の上面図である。
【図８】図８は、本発明の特徴を有する、サスペンションの別の実施形態の上面図である。
【図９】図９は、本発明の特徴を有する、サスペンションの別の実施形態の斜視図である。
【図１０】図１０は、本発明の特徴を有する、精密装置の簡略化した模式図である。
【図１１】図１１は、本発明の特徴を有する、サスペンションの斜視図である。
【図１２】図１２は、図１１のメカニズムの模式的な上面図である。
【図１３Ａ】図１３Ａは、複数の緩衝体を含むメカニズムの模式的な上面図である。
【図１３Ｂ】図１３Ｂは、図１３Ａのメカニズムの斜視図である。
【図１３Ｃ】図１３Ｃは、図１３Ａのメカニズムの別の斜視図である。
【図１４Ａ】図１４Ａは、本発明の特徴を有するメカニズムの別の実施形態の模式図である。
【図１４Ｂ】図１４Ｂは、図１４Ａのメカニズムの一部の斜視図である。
【図１４Ｃ】図１４Ｃは、図１４Ａのメカニズムの一部の別の斜視図である。
【図１５Ａ】図１５Ａは、複数の緩衝体を有するセルの模式的な上面図である。
【図１５Ｂ】図１５Ｂは、図１５Ａの複数のセルを有するラティスの模式的な上面図である。
【図１６Ａ】図１６Ａは、複数のユニットを有するセルのさらに別の実施形態を示す模式的な上面図である。
【図１６Ｂ】図１６Ｂは、図１６Ａの複数のセルを含むラティスの模式的な上面図である。
【図１７Ａ】図１７Ａは、複数のユニットを有するセルのさらに別の実施形態を示す模式的な上面図である。
【図１７Ｂ】図１７Ｂは、図１７Ａの複数のセルを含むラティスの模式的な上面図である。
【図１８】図１８は、図１７Ａの複数のセルを含む別のラティスの模式的な上面図である。
【図１９】図１９は、図１７Ａの複数のセルを含むさらに別のラティスの模式的な上面図である。
【図２０Ａ】図２０Ａは、複数の緩衝体を有するセルのさらに別の実施形態を示す模式的な上面図である。
【図２０Ｂ】図２０Ｂは、図２０Ａの複数のセルを含むラティスの模式的な上面図である。
【図２１Ａ】図２１Ａは、複数の緩衝体を有するセルのさらに別の実施形態を示す模式的な上面図である。
【図２１Ｂ】図２１Ｂは、図２１Ａの複数のセルを含むラティスの模式的な上面図である。
【図２２Ａ】図２２Ａは、本発明の特徴を有するメカニズムの別の実施形態を示す斜視図である。
【図２２Ｂ】図２２Ｂは、図２２Ａの複数のユニットを有するセルの斜視図である。
【図２２Ｃ】図２２Ｃは、図２２Ｂの複数のセルを含むラティスの斜視図である。
【図２３】図２３は、本発明の特徴を有する精密装置の概略的な模式図である。
【図２４】図２４は、本発明の特徴を有する弾性メカニズムの一実施形態を示す斜視図である。
【図２５Ａ】図２５Ａは、第１位置における図２４の弾性メカニズムの側面図である。
【図２５Ｂ】図２５Ｂは、第２位置における図２４の弾性メカニズムの側面図である。
【図２５Ｃ】図２５Ｃは、第３位置における図２４の弾性メカニズムの側面図である。
【図２６Ａ】図２６Ａは、図２４の弾性メカニズムの概略的な模式図である。
【図２６Ｂ】図２６Ｂは、図２４の弾性メカニズムの概略的な模式図である。
【図２６Ｃ】図２６Ｃは、図２４の弾性メカニズムの概略的な模式図である。
【図２６Ｄ】図２６Ｄは、図２４の弾性メカニズムの概略的な模式図である。
【図２６Ｅ】図２６Ｅは、図２４の弾性メカニズムの概略的な模式図である。
【図２６Ｆ】図２６Ｆは、図２４の弾性メカニズムの概略的な模式図である。
【図２７】図２７は、本発明の特徴を有する弾性メカニズムの別の実施形態を示す斜視図である。
【図２８】図２８は、図２７の弾性メカニズムを含む精密装置の模式図である。
【図２９】図２９は、本発明の特徴を有する精密装置の概略的な模式図である。
【図３０】図３０は、本発明の特徴を有する、精密装置の一実施形態を示す概略的な模式図である。
【図３１】図３１は、本発明の特徴を有する、精密装置のさらに別の実施形態を示す概略的な模式図である。
【図３２】図３２は、本発明の特徴を有する、精密装置のさらに別の実施形態を示す概略的な模式図である。
【図３３】図３３は、本発明の特徴を有する、精密装置の別の実施形態を示す概略的な模式図である。
【図３４】図３４は、本発明の特徴を有する、精密装置の別の実施形態を示す概略的な模式図である。
【図３５】図３５は、本発明の特徴を有する隔離機の一実施形態を示す模式的な斜視図である。
【図３６】図３６は、本発明の特徴を有する隔離機の別の実施形態を示す模式的な斜視図である。
【図３７】図３７は、本発明の特徴を有する隔離機の別の実施形態を示す模式的な斜視図である。
【図３８】図３８は、本発明の特徴を有する、隔離システム及びペデスタルの別の実施形態を示す模式図である。
【図３９Ａ】図３９Ａは、ロック状態における本発明の特徴を有するロックの一実施形態を示す模式図である。
【図３９Ｂ】図３９Ｂは、アンロック状態における図３９Ａのロックの模式図である。
【図４０Ａ】図４０Ａは、ロック状態における本発明の特徴を有するロックの別の実施形態を示す模式図である。
【図４０Ｂ】図４０Ｂは、アンロック状態における図４０Ａのロックの模式図である。
【図４１Ａ】図４１Ａは、本発明におけるデバイスを製造するためのプロセスを説明するためのフローチャートである。
【図４１Ｂ】図４１Ｂは、デバイス処理をより詳しく説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
図１は、本発明の特徴を有する精密装置１０の模式図であり、精密製造機１２、精密製造機１２の部品を保持するペデスタル（pedestal、基台）１４（適宜に、プラットフォームと称する）、及び緩衝系１６を含む。全体として、いくつかの実施形態において、精密装置１０は、地震性擾乱中の精密装置１０を防御及び／又は隔離するために独自に設計された１又はそれ以上の部品を含む。例えば、図１に示す実施形態において、緩衝系１６は、地震性擾乱中のペデスタル１４及び精密製造機１２を支持しかつ隔離する１又はそれ以上のラコスト型のサスペンション１６Ａ、１６Ｂを含む。ラコスト型サスペンション１６Ａ、１６Ｂは、実質的にゼロ剛性を有しかつ、ペデスタル１４の動きにかかわらず、実質的に一定の力をペデスタル１４に及ぼすよう構成できる。その結果、精密製造機１２の部品は、地震性擾乱中により良く防御される。これは地震性擾乱中の精密製造機１２の部品の損傷及び位置ずれの可能性を抑える。
【００３１】
一実施形態において、精密製造機１２は、地震性擾乱が生じていないときに、搭載ベース２０に対してペデスタル１４を選択的にロックする１又はそれ以上のロック体１８（図１では箱状に示す）をさらに含む。この構成において、精密製造機１２の通常操作中に、ロック体１８は、精密製造機１２を固定して保持する。また、ロック体１８は、精密製造機１２を守るため、搭載ベース２０からの振動が精密製造機１２に伝わるのを緩衝系１６によって抑制できるように、精密製造機１２を素早く開放できる。適切なロック体１８についてそのいくつかの非排他的な例を後でより詳しく説明する。
【００３２】
複数の図において、Ｘ軸と、Ｘ軸に直交するＹ軸と、Ｘ軸及びＹ軸に直交するＺ軸とが設定された座標系を採用している。なお、これらの軸は、第１、第２、及び第３軸としても参照される。
【００３３】
搭載ベース２０は、地面、土台、建物の床、あるいは他の支持構造物などにできる。
【００３４】
精密製造機１２の構成は、所望の製造工程を達成するために変更できる。例えば、精密製造機１２は、ウエハ、精密部品、及び／又は液晶ディスプレイ、回路基板、ＭＥＭＳ応用を含む応用のためにパターン処理される他の基板の製造に使用できる。非排他的な一実施形態において、精密製造機１２は、露光装置２２及び搬送機構２４を含むことができる。代替的に、例えば、精密製造機１２は、光学テーブルにできる。それらの各構成部品の構成は、ここで提供される技術に従って様々に変更可能である。
【００３５】
一実施形態において、露光装置２２は、装置フレーム２６、照明系（照射装置）２８、投影光学装置３０、レチクルステージ装置３２、ウエハステージ装置３４、計測システム３６、及びリソグラフィック制御システム３８を含む。この構成において、露光装置２２は、集積回路のパターン（不図示）をレチクル４０から半導体ウエハ４２上に転写するリソグラフィック装置として特に有用である。しかしながら、ここで提供される露光装置２２の利用は、半導体製造用のフォトリソグラフィシステムに限定されない。この露光装置２２は、例えば、液晶表示装置のパターンを矩形ガラス基板に露光するＬＣＤフォトリソグラフィシステム、あるいは、薄膜磁気ヘッド製造用のフォトリソグラフィシステムとしても使用可能である。さらに、ここに開示されるサスペンション１６Ａ、１６Ｂは、他のタイプの精密設備の隔離にも利用できる。
【００３６】
装置フレーム２６は、剛体であり、露光装置２２の部品の多くをペデスタル１４に固定する。
【００３７】
照明系２８は、照明源２８Ａと、照明光学装置２８Ｂとを含む。照明源２８Ａは、レチクル４０の異なる部分を選択的に露光しかつウエハ４２を露光するビーム（照射）を発する。図１では、照明源２８Ａは、装置フレーム２６に近いペデスタルに固定されるように示されている。
【００３８】
照明源２８Ａは、ｇ線源（４３６ｎｍ）、ｉ線源（３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、あるいは、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）にできる。代替的に、例えば、照明源２８Ａは、極紫外線、Ｘ線、又はイオンビームのようなビームを発することができる。
【００３９】
照明光学装置２８Ｂは、照明源２８Ａからのビームを、（１）部分的に透明なレチクル４０用にレチクル４０の上方、及び（２）反射レチクル４０用にレチクル４０の下方、のいずれかに導く。
【００４０】
投影光学装置３０は、レチクル４０からの光をウエハ４２に投影及び/又は集束させる。露光装置２２の構成に応じて、投影光学装置３０は、レチクル４０上に照明された像を拡大または縮小できる。また、等倍（１倍）システムにもできる。
【００４１】
レチクルステージ装置３２は、レチクル４０を保持しかつ投影光学装置３０及びウエハ４２に対してそのレチクル４０を位置付ける。レチクルステージ装置３２は、レチクル４０を保持するレチクルステージ３２Ａ、１又はそれ以上の自由度でレチクル４０を移動させるレチクルステージ移動体３２Ｂ、及びレチクルステージ３２Ａを支持するレチクルステージベース３２Ｃを含むことができる。
【００４２】
同様に、ウエハステージ装置３４は、ウエハ４２を保持するとともに、レチクル４０の照明部分の投影像に対してそのウエハ４２を位置づける。ウエハステージ装置３４は、ウエハ４２を保持するウエハステージ３４Ａ、１又はそれ以上の自由度でウエハ３２を移動させるウエハステージ移動体３４Ｂ、及びウエハステージ３４Ａを支持するウエハステージベース３４Ｃを含むことができる。
【００４３】
装置測定システム３６は、光学装置３０又は他の参照物に対するレチクル４０及びウエハ４２の動きをモニターする。例えば、装置測定システム３６は、マルチレーザ干渉計、エンコーダ、及び/又は他の測定器を利用できる。
【００４４】
リソグラフィ制御システム３８は、レチクルステージ装置３２、ウエハステージ装置３４、及び計測システム３６に電気的に接続される。リソグラフィ制御システム３８は、測定システム２２からの情報を受信し、レチクル４０及びウエハ４２を正確に位置付けるようにステージ移動装置３２、３４を制御する。制御システム２４は、１又はそれ以上のプロセッサ及び回路を備えることができる。
【００４５】
追加的に、露光装置２２は、様々な部品を他の部品から隔離するために、１又はそれ以上の隔離装置を含むことができる。例えば、露光装置２２は、（１）第１ペデスタル段部（first pedestal level）１４Ａから装置フレーム２６を隔離する１又はそれ以上のフレーム隔離器（frame isolators）４６Ａと、（２）装置フレーム２６からレチクルステージ装置３２を隔離する１又はそれ以上のレチクルステージ隔離器（reticle stage isolators）４６Ｂと、（３）装置フレーム２６からウエハステージ装置３４を隔離する１又はそれ以上のウエハステージ隔離器（wafer stage isolators）４６Ｃと、（４）装置フレーム２６から投影光学装置３０を隔離する１又はそれ以上のレンズ隔離器（wafer stage isolators）４６Ｄと、を含む。例えば、１又はそれ以上のフレームサスペンション４６Ａ、ステージサスペンション４６Ｂ、４６Ｃ、及びレンズサスペンション４６Ｄを、ＡＶＩＳサスペンションシステムと一般に呼ばれるアクティブ振動緩衝系にできる。さらに、ＡＶＩＳシステムは、ラコスト型のサスペンション１６Ａ、又は図２３に示される負剛性機構２３２１を含む構成にできる。
【００４６】
また、露光装置２２は、１又はそれ以上の流体源４８（図１にはその１つのみが箱状に示されている）、及び１又はそれ以上の温度制御系５０（図１にはその１つのみが箱状に示されている）を含むことができる。非排他的な一例として、流体源４８は、（１）レチクルステージベース３２Ｃに対するレチクルステージ３２Ａ、及び（２）ウエハステージベース３４Ｃに対するウエハステージ３４Ａ、を支持する流体ベアリングを形成するように加圧流体を供給できる。また、非排他的な一例として、温度制御系５０は、レチクルステージ移動体３２Ｃ及びウエハステージ移動体３４Ｃの部品の温度を制御するために、それらに冷却流体を供給できる。
【００４７】
搬送機構２４は、レチクル４０及び／又はウエハ４２をロード及びアンロードするのに使用できる。搬送機構２４は、１又はそれ以上のロボットアームを有することができる。
【００４８】
ペデスタル１４は、地震性擾乱から守るべき１又はそれ以上の精密部品を支持する。ペデスタル１４の大きさ、形状、及び構成は、支持する部品に合うように変更可能である。図１において、ペデスタル１４は、露光装置２２及び搬送機構４を支持する。本実施形態において、ペデスタル１４、露光装置２２、及び搬送機構２４を、ここではまとめて漂体（suspended assembly）４４と呼ぶ。ペデスタル１４は剛体であり、ペデスタル１４に適した材料の非排他的ないくつかの例として、スチール、セメント、エポキシ・グラナイト（epoxy granite）、ポリマー・コンクリート（polymer concrete）、又は鋳鉄を含む。
【００４９】
緩衝系１６は、第１物体（例えば、搭載ベース２０）から第２物体（例えば、漂体４４）に伝わる振動を抑制する。こうして、図１において、緩衝系１６は、漂体４４の部品を守るために、地震性擾乱中においてペデスタル１４及び漂体４４を隔離する。換言すると、緩衝系１６は、地震中において搭載ベース２０から漂体４４に伝わる振動を抑制する。その結果、緩衝系１６は、地震中における漂体４４の加速や運動を低減する。
【００５０】
いくつかの実施形態において、地震における鉛直方向の動きを減衰させるために、漂体４４の重量を漂わせる又は浮かべた状態にし、漂体４４に対して搭載ベース２０が動けるようにする必要がある。一実施形態において、緩衝系１６は比較的柔らかく、また、漂体４４は比較的重い。その結果、漂体４４は、比較的低い共振周波数を有するようになる。緩衝系１６の剛性を下げることは、漂体４４に伝わる力を減らし、これにより地震中における漂体４４の加速及び運動を低減する。一実施形態において、緩衝系１６は、実質的ゼロ剛性を有する構成にできる、また、漂体４４の動きに関係なく、一定の鉛直力を漂体４４の重量に与えるように構成できる。
【００５１】
そうしたゼロ剛性の緩衝系１６上に漂体４４が置かれている場合、クリーンルーム内で人が歩いたりあるいはペデスタル１４に乱れを与えたりするときに、漂体４４に大きな動きが生じやすい。この配置において、ロック体１８を使用しなければ、ペデスタル１４上を何かが歩くと、漂体４４が移動しかつ活発化する可能性がある。これは、ウエハ４２に転写される像形状の精度を下げる可能性がある。
【００５２】
緩衝系１６の構成は、漂体４４の共振周波数を所望のレベルにするために、あるいは運動の減衰を所望の方向とするために、変更可能である。一実施形態において、緩衝系１６は、（１）Ｚ軸に沿った、Ｘ軸周り、及びＹ軸周りの搭載ベース２０の動きがペデスタル１４及び漂体４４に伝わるのを抑制する１又はそれ以上の離間した鉛直サスペンション１６Ａと、（２）Ｘ及びＹ軸に沿った、及びＺ軸周りの搭載ベース２０の動きがペデスタル１４及び漂体４４に伝わるのを抑制する１又はそれ以上の離間した水平サスペンション１６Ｂとを含む。この構成において、緩衝系１６は、６自由度の振動を減衰させる。
【００５３】
代替的に、例えば、緩衝系１６は、３自由度のみの振動を減衰するように構成できる。
【００５４】
なお、いくつかの実施形態において、地震時における第１物体から第２物体への振動の伝達を抑制するために、サスペンション１６Ａ、１６Ｂが比較的長いストロークを有する必要がある。非排他的な一例において、ここで開示されたサスペンションは、少なくとも約１０、１５、３０、又は５０ｃｍのストロークを有することができる。適切なサスペンション１６Ａ、１６Ｂについて後で詳しく説明する。
【００５５】
ロック体１８は、精密製造機１２の通常動作中において、搭載ベース２０に対する漂体４４の望まない大きな動きを抑制しかつ阻止する。また、ロック体１８は、ペデスタル１４及び漂体４４を高い剛性で堅固につかみ、そして地震性擾乱の前に又はその間には漂体４４を開放する。一実施形態において、ロック体１８は、（１）Ｚ軸に沿った、Ｘ軸周りの、及びＹ軸周りの搭載ベース２０に対する漂体４４の動きを選択的に、協働して抑制する１又はそれ以上の離間した鉛直ロック（vertical locks）５２Ａ（箱状に図示している）と、（２）Ｘ軸に沿った、Ｙ軸に沿った、及びＺ軸周りの搭載ベース２０に対する漂体４４の動きを協働して抑制する１又はそれ以上の水平ロック（horizontal locks）５２Ｂと、（３）ロック５２Ａ、５２Ｂの動きを制御する制御システム５４とを含む。この構成において、作動中のロック体１８は、漂体４４の６自由度の動きを抑制する。
【００５６】
ロック制御システム５４は、搭載ベース２０に対するペデスタル１４のロック及びアンロックを選択的に行うために、ロック５２Ａ、５２Ｂに電気的に接続されかつそれらを制御する。ロック制御システム５４は、１又はそれ以上のプロセッサ及び回路を備えることができる。
【００５７】
一実施形態において、制御システム５４は、地震性擾乱が搭載ベース２０をまさに乱そうとしていることを示す早期警報通知信号を供給する通知システム５４Ａ（箱状に図示されている）に電気的につながっている。早期警報通知信号の受信に基づき、ロック制御システム５４は、ロック５２Ａ、５２Ｂをアンロックし、地震性擾乱が搭載ベース２０に達する前に、ペデスタル１４及び漂体４４を開放できる。
【００５８】
この通知システム５４Ａの構成は変更可能である。例えば、通知システム５４Ａは、精密装置１０の周囲の約５−１０ｋｍの範囲で精密装置１０を囲む１又はそれ以上の離間した地震センサ（seismic sensor、不図示）を含むことができる。また代替的に、通知システム５４Ａは、１又はそれ以上の地震センサにアクセスする公共施設でもよく、ロック制御システム５４に送信可能な通知信号がその公共施設から供給される。
【００５９】
いくつかの実施形態において、低度の正剛性を望む場合に、機械動特性の調整のために、緩衝系１６とともに、ソフトスプリングシステム（図１では不図示）を用いることができる。
【００６０】
図２Ａは、別の実施形態である精密装置２１０Ａの模式図であり、上記の図１に示した精密装置１０と概ね同様である。一方、図２においては、ペデスタル２１４Ａは、複数のペデスタル部、すなわち第１ペデスタル部２１４ＡＡ、第２ペデスタル部２１４ＡＢ、及び第３ペデスタル２１４ＡＣを含む。本実施形態において、（１）第１ペデスタル部２１４ＡＡは搬送機構２４及び温度制御システム５０を支持し、（２）第２ペデスタル部２１４ＡＢは、流体源４８、照明系２８の一部、及び制御システム３８を支持し、（３）第３ペデスタル部２１４ＡＣは、露光装置２２のその他の部品を支持する。代替的に、ペデスタル２１４Ａは、さらに多くの又は少ないペデスタル部によって構成できる、及び／又は、ペデスタル部上の部品の配置は、図２Ａに示したものと異なってもよい。
【００６１】
追加的に、図２Ａにおいて、緩衝系２１６Ａは、ペデスタル部２１４ＡＡ，２１４ＡＢ、及２１４ＡＣごとに分かれた複数のサスペンション１６Ａを含む。
【００６２】
図２Ｂは、別の実施形態である精密装置２１０Ｂの模式図であり、上記の図１に示した精密装置１０と概ね同様である。一方、図２Ｂにおいては、ペデスタル２１４Ｂは、複数のペデスタル部、すなわち第１ペデスタル上段部２１４ＢＡ、及び第２ペデスタル下段部２１４ＢＢを含み、これらは互いに堅くつながっている。本実施形態において、（１）第２ペデスタル段部２１４ＢＢは、温度制御システム５０、流体源４８、及び制御システム３８を支持し、（２）第１ペデスタル段部２１４ＢＡは、露光装置２２の他の部品を支持する。代替的に、ペデスタル２１４Ａは、さらに多くの又は少ないペデスタル段部によって構成できる、及び／又は、ペデスタル段部上の部品の配置は、図２Ｂに示したものと異なってもよい。
【００６３】
追加的に、図２Ｂにおいて、緩衝系２１６Ｂは、２つのペデスタル段部２１４Ａを浮かせる複数のサスペンション１６Ａを含む。
【００６４】
本実施形態において、１又はそれ以上の電線管、例えばワイヤ及びホース（不図示）が第１ペデスタル段部２１４ＢＡの１又はそれ以上の開口を通って延びてもよく、これにより、第１ペデスタル段部２１４ＢＡに固定された部品と、第２ペデスタル段部２１４４Ｂに固定された部品との間を電気的及び機械的につなぐことが可能になる。また、第１ペデスタル段部２１４ＢＡ上の部品は、クリーンルーム環境内に維持でき、第２ペデスタル段部２１４ＢＢ上の部品は、比較的汚れた環境内としてもよい。
【００６５】
ペデスタル段部２１４ＢＡ、２１４ＢＢが地震性擾乱中に同時に動くことにより、地震性擾乱中の電線管の損傷や位置ずれの可能性が低減される。
【００６６】
サスペンションは、第１物体と第２物体との間の振動の伝達を抑制する。図１、２Ａ、及び２Ｂにおいて、第１物体は、漂体４４又はその一部であり、第２物体は搭載ベース２０である。代替的に、第１物体を搭載ベース２０、第２物体を漂体４４にできる。また、代替的に、ここに開示されたサスペンション１６Ａは、精密装置１０内の他の２つの物体の間の振動伝達の抑制に使用できる。
【００６７】
図３Ａは斜視図、図３Ｂは上面図、図３Ｃは部分分解側面図、及び図３Ｄは斜視図であり、図１、２Ａ、及び２Ｂに示す精密装置１０、２１０Ａ、２１０Ｂ又は別の種類の精密装置における、物体間での動きの伝達を抑えるために使用されるサスペンション２９６を部分的に切り取った様子を示す。本実施形態において、サスペンション２９６は、第１マウント３６４、第２マウント３６６、第１弾性体３６８、第２弾性体１２７０、及び第３弾性体３７２を含む。これらの部品の構成、形状、及び大きさは、精密装置１０の残りの構成要求に合わせて変更可能である。例えば、サスペンション２９６は、３より多い又は少ない弾性体３６８、３７０、３７２を有する構成にできる。
【００６８】
第１マウント３６４は剛体であり、第１物体に固定される。図３Ａ−３Ｄに示す実施形態において、第１マウント３６４は、物体接触部３６４Ａ、第１ガイド３６４Ｂ、及び第１ガイド３６４Ｂから離れた第２ガイド３６４Ｃ、を含む。この実施形態において、物体接触部３６４Ａは第１物体に固定され、第１ガイド３６４Ｂは第２マウント３６６に対する第１マウント３６４の動きを移動軸３７４に沿って案内し、第２ガイド３６４Ｃは第２マウント３６６に対する第１マウント３６４の動きを移動軸３７４に沿って案内する。この構成により、第１マウント３６４が第２マウント３６６を覆って取り付けられるとともに、第２マウント３６６によって移動軸３７４に沿って案内される。
【００６９】
非排他的な一実施形態において、（１）物体接触部３６４Ａは、全体として円板形状であり、（２）第１ガイド３６４Ｂは、全体として円筒形状でありかつ、第２マウント３６６の一部を包んではめ合わされる大きさからなりかつ、物体接触部３６４Ａに固定され、（３）第２ガイド３６４Ｃも、全体として円筒形状からなりかつ第２マウント３６６の一部を包んではめ合わされる大きさからなる。代替的に、例えば、ガイド３６４Ｂ、３６４Ｃを矩形筒形状にでき、及び／又は、ガイド３６４Ｂ、３６４Ｃを一体化して単数の部品にしてもよい。ガイド３６４Ｂ、３６４Ｃは、弾性体３６８、３７０、３７２の一部を第１マウント３６４に枢動自在に取り付けのための、複数の離間した第１マウント支持部３６４Ｄを含むことができる。一実施形態において、各第１マウント支持部３６４Ｄは、支持孔３６４Ｅを有するフランジと、支持孔３６４Ｅ及び弾性体３６８、３７０、３７２に挿入される軸ピン３６４Ｆとを含む。
【００７０】
同様に、第２マウント３６６は剛体であり第２物体２６２に固定される。図３Ａ−３Ｅに示す実施形態において、第２マウント３６６は、移動軸３７４に沿った、第１マウント３６４のガイド３６４Ｂ、３６４Ｃの第２マウント３６６に対する移動を案内する。第２マウント３６６は、ガイド３６４Ｂ、３６４Ｃの形状に合う形状を有する。非排他的な一実施形態において、第２マウント３６６は、第１マウント３６４のチューブ状のガイド３６４Ｂ、３６４Ｃ内に挿入される、全体として円筒状のビーム材３６６Ａを含む。代替的に、例えば、ビーム材３６６Ａは、ガイド３６４Ｂ、３６４Ｃの形状に合うように、全体として矩形状の断面又は別の形状の断面形状を有することができる。
【００７１】
追加的に、第２マウント３６６は、ビーム材３６６Ａに固定的に取り付けられた一対の離間した取り付けリング３６６Ｂを有することができ、これらリング３６６Ｂ間の相対移動はない。各取り付けリング３６６Ｂは、弾性体３６８、３７０、３７２の一部を第２マウント３６６に枢動自在に取り付けるための、複数の離間した第２マウント支持部３６６Ｃを含むことができる。一実施形態において、各第２マウント支持部３６６Ｂは、支持孔３６６Ｃを有するフランジと、支持孔３６６Ｃ及び弾性体３６８、３７０、３７２に挿入される軸ピン３６６Ｄとを含む。
【００７２】
弾性体３６８、３７０、３７２はともにマウント３６４、３６６にフレキシブルにつながり、また、弾性体３６８、３７０、３７２は、第２マウント３６６の動きが第１マウント３６４に伝わるのを抑える。図３Ａ−３Ｅに示す実施形態において、（１）各弾性体３６８、３７０、３７２は、大きさ、形状、及び構成が似ており、（２）弾性体３６８、３７０、３７２は、マウント３６４、３６６の外周周りで等間隔であり（それぞれの間が約１２０°）、（３）弾性体３６８、３７０、３７２は、マウント３６４、３６６から径方向に張り出している。この構成において、マウント３６４、３６６間での動きの伝達を抑えるために、弾性体３６８、３７０、３７２が並列に配置される。代替的に、例えば、１又はそれ以上の弾性体３６８、３７０、３７２が、異なる構成及び／又はわずかなオフセットを含む離間状態でもよい。
【００７３】
一実施形態において、各弾性体３６８、３７０、３７２は、第１補材３７６、第２補材３７８、及びブームコネクタ３７９を含むことができ、これらは移動軸３７４に実質的に平行な一面内に配される。本実施形態において、（１）第１マウント３６４から枢動可能に張り出した第１補材３８０と、（２）第１マウント３６４と第１ブーム材３８０との間につながった第１上部弾性材３８２とを含むことができる。また、第２補材３７８は、（１）第２マウント３６６から枢動可能に張り出した第２下部ブーム材３８４と、（２）第２マウント３６６と第２ブーム材３８４との間につながった第２弾性材３８６とを含むことができる。また、ブームコネクタ３７９は、ブーム材３８０、３８４が同時に動くように、第１ブーム材３８０を第２ブーム材３８４に物理的及び機械的につなげる。このように、３つの弾性体３６８、３７０、３７２を用いる本実施形態において、全部で６つの補材３７６、３７８、６つのブーム材３８０、３８４、６つの弾性材３８２、３８６、及び３つのブームコネクタ３７９がある。
【００７４】
ここで、「第１」及び「第２」とは、弾性体３６８、３７０、３７２における、補材３７６、３７８、ブーム材３８０、３８４、及び弾性材３８２、３８６の説明に便宜的に用いるものである。一方、代替的に、弾性体３６８、３７０、３７２のいずれかの補材３７６、３７８、ブーム材３８０、３８４、及び弾性材３８２、３８６を、「第３」、「第４」、「第５」、又は「第６」の補材、ブーム材、又は弾性材と称することもできる。例えば、第１弾性体３６８の補材、ブーム材、弾性材を、「第１」及び「第２」の補材、ブーム材、弾性材と称し、第２弾性補材１２７０のブーム材、及び弾性材を「第３」及び「第４」の補材、ブーム材、弾性材と称し、第３弾性補材３７２のブーム材、弾性材を、「第５」及び「第６」の補材、ブーム材、及び弾性材と称することができる。
【００７５】
第１ブーム材３８０は、（１）ブーム近位端部３８０Ａ付近のブーム開口を通って延びる枢動ピン３６４Ｆを介して、第１マウント３６４の第１ガイド３６４Ｂに枢動可能につながったブーム近位端部３８０Ａと、（２）ブーム先端部３８０Ｂ付近のブーム開口（不図示）を通って延びるピン３８０Ｃを介して、第１弾性材３８２及びブームコネクタ３７９に枢動可能につながったブーム先端部３８０Ｂとを含む剛ビーム材である。第１弾性材３８２は、（１）枢動ピン３６４Ｆを介して、第１マウント３６４の第２ガイド３６４Ｃに固定された部材近位端部３８２Ａと、ピン３８０Ｃを介して、ブーム先端部３８０Ｂにつながった部材先端部３８２Ｂとを含む。
【００７６】
同様に、第２ブーム材３８４は、（１）ブーム近位端部３８４Ａ付近のブーム開口を通って延びる枢動ピン３６６Ｅを介して、第２マウント３６６の下側取り付けリング３６６Ｂに枢動可能につながったブーム近位端部３８４Ａと、（２）ブーム先端部３８４Ｂ付近のブーム開口３８４Ｃを通って延びるピン３８４Ｃを介して、第２弾性材３８６及びブームコネクタ３７９に枢動可能につながったブーム先端部３８４Ｂとを含む剛ビーム材である。第２弾性材３８６は、（１）ピン３６６Ｅを介して、第２マウント３６６の上側取り付けリング３６６Ａに固定された部材近位端部３８６Ａと、また、ピン３８４Ｃを介して、ブーム先端部３８４Ｂにつながった部材先端部３８６Ｂとを含む。
【００７７】
ブームコネクタ３７９は、ブーム材３８０、３８４の先端部が同時に動くように、第１ブーム材３８０のブーム先端部３８０Ｂを第２ブーム材３８４のブーム先端部３８４Ｂに物理的及び機械的につなげる。また、ブームコネクタ３７９は、（１）第１ブーム材３８０を第２マウント３６６に、また、第２ブーム材３８４を第１マウント３６４に、機械的に接続及び結合する。一実施形態において、ブームコネクタ３７９は、移動軸３７４と実質的平行に延びている。本実施形態において、ブームコネクタ３７９は、ピン３８０Ｃを介して枢動可能に第１ブーム材３８０につながった上端部と、ピン３８４Ｃを介して枢動可能に第２ブーム材３８４につながった先端部と、を含む剛ビーム材である。
【００７８】
代替的な一実施形態において、ここで開示されたコネクタは、モノリシック・フレクシャにできる。
【００７９】
一実施形態において、各弾性材３８２、３８６は、各弾性材３８２、３８６の作動範囲においてゼロ長スプリングと同様に機能する又は同様の特性を有する。例えば、一実施形態において、各弾性材３８２、３８６は、ゼロ長スプリングである。ゼロ長スプリングは、その長さに比例する力を発するスプリングである。換言すると、伸びる量はその全体の長さによって定まる。こうしたスプリングは、仮に弛んだ長さがゼロのときに、ゼロ力を発する。実際には、ゼロ長スプリングは、力が作用していないときにコイルが接触しかつコイルを離す動作の開始に所定の力が必要となるように、予荷重が与えられている（preloaded）スプリングである。予荷重の量は、力の置換曲線をシフトさせるために調整され、その結果、基点での仮想交差を有しかつスプリング長に相当する力を発する。ゼロ長は、負の長さを持ったスプリング（スプリングが弛んだときにコイルが互いに押されている）と、長さを延ばす非弾性材とを組み合わせることにより作成できる。ゼロ長スプリングのサイズは、システムに要求される力を得るために変更可能である。
【００８０】
別の実施形態において、１つまたは両方の弾性材３８２、３８６を流体型ピストン体にできる。
【００８１】
ここで使用される「作動範囲」という用語は、漂体４４を隔離するのに必要な範囲を意味し、地震などの地震性擾乱からの振動振幅に対応する 代替的な非排他的実施形態において、作動範囲は、約１、２、５、１０、１５、２０、又は３０ｃｍにできる。
【００８２】
追加的に、各補材３７６、３７８は、安定化剛ビーム材(rigid stabilization beam)３８８と、マウント支持剛ビーム材（rigid mount support beam）３９０とを含むことができる。本実施形態において、安定化ビーム材３８８は、マウント３６４、３６６の１つとブームコネクタ３７９との間で枢動可能につながっており、また、マウント３６４、３６６とブームコネクタ３７９との間の別の接続も行う。この構成において、安定化ビーム材３８８は、ブームコネクタ３７９を適切な姿勢に維持する。
【００８３】
また、第１補材３７６のマウント支持剛ビーム材３９０は、第１ガイド３６４Ｂと第２ガイド３６４Ｃとの間で延びかつそれらを固定し、また、第２補材３７８の剛マウント支持ビーム材３９０は、第２マウント支持部３６６Ｃ同士の間で延びかつそれらを固定する。
いくつかの実施形態において、補材３７６、３７８のそれぞれに対して、安定化ビーム材３８８、マウント支持ビーム材３９０、ブーム材３８０、３８４、及びブームコネクタ３７９の半分が組み合わさって全体として矩形状の４柱リンクを形成する。また、弾性材３８２、３８６は、その矩形形状の対角に延びる。
【００８４】
一実施形態において、補材３７６、３７８の各々がラコスト型システムを示し、これにより、弾性体３６８、３７０、３７２のそれぞれは、直列的に作動する２つのラコスト型の緩衝系をなし、マウント３６４、３６６間での動きの伝達を抑える。換言すると、本実施形態のサスペンション２９６は、実質的にゼロ剛性を提供する６つのラコスト型サスペンションをなす１つの群である。従って、ラコスト型補材３７６、３７８をそれぞれ含む複数の群２９６を用いて、漂体４４（図１に図示）を同時に支持することができる。サスペンション２９６の１つの群に基づくラコストは、剛性を追加することなく、荷重を支持するための鉛直方向の力を提供し、また、プラットフォーム、ペデスタル、又はクリーンルームフロアに容易に組み込まれる実用的なコンパクトモジュールとなる。換言すると、図３Ａ−３Ｄに示すサスペンション２９６は、ゼロ剛性を有しかつ、ペデスタル１４の動きにかかわらず、減衰したペデスタル１４の重量に相当する一定の鉛直力を発することができる。
【００８５】
図３Ａ、３Ｃ、及び３Ｄに示す実施形態において、第２補材３７８は、第１補材３７６の鏡像（mirror image）をなす。鏡像状態のラコスト型サスペンションは、横方向の寄生運動を取り除くために用いることができる。換言すると、補材３７６、３７８は、径方向外方に向けてその後に径方向内方に向けて直列的に搭載されている。これはラコストサスペンションの径方向の寄生運動を相殺する。
【００８６】
サスペンション２９６の各群は、漂体４４の下に配置可能なモジュール構成である。また、漂体４４（図１に図示）の支持に必要な、緩衝系１６、２１６Ａ、２１６Ｂ（図１、２Ａ、２Ｂに図示）におけるサスペンション２９６の数は、漂体４４の特性及びサスペンション２９６の特性に応じて定めることができる。より重い漂体４４のために、より多くの数のサスペンション２９６の群が使用可能である、あるいは、代替的に、発生する鉛直力を変化させるために、ブーム材３８０、３８４の軸心の高さを変更できる。代替的に、非排他的な実施形態において、緩衝系１６、２１６Ａ、２１６Ｂは、約１０、２０、３０、又は５０の離間したサスペンション２９６を有することができる。
【００８７】
図３Ｅ−３Ｇは、図３Ａのサスペンション２９６の一部について異なる状況を示す側面図である。より具体的には、図３Ｅは、第１状況３９２のサスペンション２９６を示し、図３Ｅは第１状況３９２から縮んだ第２状況３９４のサスペンション２９６を示し、図３Ｇは第１状況３９２から拡張した第３状況３９６のサスペンション２９６を示す。これらの図は、マウント３６４、３６６が互いに相対的に移動可能であり、振動の伝達を抑制するために第１弾性体３６８が動く様子を示す。状況３９２、３９４、３９６のいずれもニュートラル・ポジションとみなすことが可能である。
【００８８】
図３Ｈは、ラコスト型システムの模式図であり、上述の第１補材３７６及び第２補材３７８と機能的に等価である。この構成において、部品要素を、第１補材３７６としている。また、この図において、（１）「ｘ」は弾性材３８２（すなわち、ゼロ長スプリング）の長さを表し、（２）「ｓ」はブーム材３８０及び弾性材３８２用の支持点間の鉛直方向の離間距離（例えば、第１ガイド３６４Ｂと第２ガイド３６４Ｃとの間の距離）、）（３）「Ｆ」はブーム先端部３８０Ｂにおける力、（４）「Ｂ」はブーム材３８０の長さを表し、（５）「ｋ」は弾性材３８２のためのバネ定数、及び（５）「θ」は横軸に対するブーム材３８０の角度である。
【００８９】
式１は、ブーム支持部３６４周りの動きの合計を表す、
【００９０】
【数１】

【００９１】
代数を用いることで式１は式２のように簡素化できる。
【００９２】
【数２】

【００９３】
この構成において、支持点３６４Ｂ、３６４Ｃの間の離間距離ｓは、固定であるものの、異なる荷重に対して調整可能である。力Ｆは、荷重の鉛直位置と無関係であり、よってゼロ剛性である。
【００９４】
図４は、サスペンション４１６の別の実施形態の上面図であり、図３Ａ−３Ｄに示した上記のサスペンション２９６と似ている。一方、本実施形態において、サスペンション４１６は、等間隔（対称的に方向付けられた）な２つのみ、弾性体４６８、４７０を含む。弾性体４６８、４７０は、図３Ａ−３Ｄに示した上記の弾性体３６８、３７０、３７２に似ている。よって、本実施形態において、各弾性体４６８、４７０は、２つの補材３７６、３７８（図４には不図示）を含む。
【００９５】
図５は、サスペンション５１６の別の実施形態の上面図であり、図３Ａ−３Ｄに示した上記のサスペンション２９６と似ている。一方、本実施形態において、サスペンション５１６は、等間隔（対称的に方向付けられた）な４つの弾性体５６８、５７０、５７２、５７４を含む。弾性体５６８、５７０、５７２、５７４は、図３Ａ−３Ｄに示した上記の弾性体３６８、３７０、３７２と似ている。よって、本実施形態において、弾性体５６８、５７０、５７２、５７４は各々が、２つの補材３７６、３７８（図５では不図示）を含む。
【００９６】
図６は、サスペンション６１６の別の実施形態の上面図であり、図３Ａ−３Ｄに示した上記のサスペンション２９６と似ている。一方、本実施形態において、サスペンション６１６は、等間隔（対称的に方向付けられた）な５つの弾性体６６８、６７０、６７２、６７４、６７６を含む。弾性体６６８、６７０、６７２、６７４、６７６は、図３Ａ−３Ｄに示した上記の弾性体３６８、３７０、３７２と似ている。よって、本実施形態において、弾性体６６８、６７０、６７２、６７４、６７６は各々が、２つの補材３７６、３７８（図６では不図示）を含む。
【００９７】
図７は、サスペンション７１６の別の実施形態の上面図であり、図３Ａ−３Ｄに示した上記のサスペンション２９６と似ている。一方、本実施形態において、サスペンション７１６は、等間隔（対称的に方向付けられた）な６つの弾性体７６８、７７０、７７２、７７４、７７６、７７８を含む。弾性体７６８、７７０、７７２、７７４、７７６、７７８は、図３Ａ−３Ｄに示した上記の弾性体３６８、３７０、３７２と似ている。よって、本実施形態において、弾性体７６８、７７０、７７２、７７４、７７６、７７８は各々が、２つの補材３７６、３７８（図７では不図示）を含む。
【００９８】
図８は、サスペンション８１６の別の実施形態の上面図であり、図３Ａ−３Ｄに示した上記のサスペンション２９６と似ている。一方、本実施形態において、サスペンション８１６は、等間隔（対称的に方向付けられた）な７つの弾性体８６８、８７０、８７２、８７４、８７６、８７８、８８０を含む。これらの弾性体８６８、８７０、８７２、８７４、８７６、８７８、８８０は、図３Ａ−３Ｄに示した上記の弾性体３６８、３７０、３７２と似ている。よって、本実施形態において、弾性体８６８、８７０、８７２、８７６、８７８、８８０は各々が、２つの補材３７６、３７８（図８では不図示）を含む。
【００９９】
図９は、別の実施形態におけるサスペンション９１６を示す斜視図であり、サスペンション９１６は離間した３つの弾性体９８９、９７０、９７２を含み、図３Ａ−３Ｄに示した。サスペンション２９６に似ている。より具体的には、本実施形態において、弾性体９６８、９７０、９７２のそれぞれが直列的に作動する２つの補材９７６、９７８をさらに含む。一方、本実施形態において、補材９７６、９７８は、鉛直方向の積み重ねに代わり、実質的に横に隣り合う（互いに隣接する）ように配置されている。本実施形態において、鏡像状態のラコステ補材９７６、９７８は、並列的に並び、これは省スペース、及び実質的に一定の力のサスペンション群９１６における積み重ね高さの低減につながる。
【０１００】
本実施形態において、第１補材９７６は、第１マウント９６４の第１ガイド９６４Ｂ及び第２ガイド９６４Ｃに取り付けられ、また、第２補材９７８は、第２マウント９６６の取り付けリング９６６Ｂに取り付けられる。また、本実施形態において、ブームコネクタ９７９は、補材９７６、９７８を接続する。その結果、補材９７９、９７８は、マウント９６４、９６６間での動きの伝達を抑制する。
【０１０１】
図９において、ブームコネクタ９７９は、一対の環状の接続リング９７９Ａ、９７９Ｂと、複数の接続ビーム９７９Ｃとを含む。より具体的には、本実施形態において、（１）上側接続リング９７９Ａが第１補材９７６の第１ブーム材９８０と第２補材９７８の安定化ビーム材９８８とを機械的につなぎ、（２）下側接続リング９７９Ｂが第２補材９７８の第２ビーム材９８４と第１補材９７６の安定化ビーム材９８８とを機械的につなぎ、（３）接続ビーム９７９Ｃが接続リング９７９Ａと９７９Ｂとを機械的につなぐ。本実施形態において、リング９７９Ａ、９７９Ｂは協働して（１）第１補材９７６の安定化ビーム材９８８を第２補材９７８の安定化ビーム材９８８に直列的に接続し、また（２）第１補材９７６のビーム９８０を第２補材９７８のブーム材９８０に直列的に接続する。
【０１０２】
本実施形態において、サスペンションの直列セットが径方向外方及び径方向内方のペアを構成することができる。しかしながら、多様のペアでなくてもよい。例えば、３つのラコスト補材９７６を、径方向外方に向かう段において直列的に搭載し、その後に３つのラコステ補材９７８を径方向内側に向かう段において直列的に搭載することができる。径方向外方及び径方向内方に向けた直列的なサスペンションのペアは、キネマティックとして、好ましく構成できる。
【０１０３】
上記のすべての実施形態において、ラコスト補材は、マウントの外側に固定され、１つの段において径方向外側に延び、第２段において径方向内側に延びる。代替的な一実施形態において、ラコスト補材は、環状のマウントの内側に固定され、マウントから径方向内側延び、その後に第２段で径方向外側に延びる。
【０１０４】
図１０は、精密装置１０１０の別の実施形態の模式図であり、精密装置１０１０は、精密製造機１０１２、精密製造機１０１２の部品を保持するペデスタル１０１４、及び、ペデスタル１０１４と精密製造機１０１２を支持するメカニズム（適宜、サスペンションと称する）を含む。本実施形態において、精密製造機１０１２は、図１に示した上記の露光装置１０と同様の露光装置１０２２である。また、ペデスタル１０１４は、図１に示した上記のペデスタル１４と同様である。
【０１０５】
本実施形態において、メカニズム１０１６は、ラコステ型システムとガーデンゲート構造との組み合わせを１又はそれ以上含み、地震性擾乱時においてペデスタル１０１４及び精密製造機１０１２を支持しかつ隔離する。メカニズム１０１６は、第１軸、第２軸、及び第３軸に沿って実質的にゼロ剛性を有するように構成でき、ペデスタル１０１４の動きにもかかわらず、実質的に一定の力をペデスタル１０１４に与えることができる。換言すると、メカニズム１０１６は、鉛直方向及び両水平方向における地震の減衰をもたらし、３つの並進自由度のすべてにおいて減衰が達成される。その結果、精密製造機１０１２の部品は、地震性擾乱時において、メカニズム１０１６を介して良好に守られる。これは地震性擾乱中の精密製造機１０１２の部品の損傷及び位置ずれの可能性を抑える。
【０１０６】
追加的に、精密製造機１０１２は、地震性擾乱が生じていないときに、搭載ベース１０２０に対してペデスタル１０１４を選択的にロックする１又はそれ以上のロック体１０１８（図１では箱状に示す）をさらに含む。この構成において、精密製造機１２の通常操作中に、ロック体１０１８は、精密製造機１２を固定して保持する。また、ロック体１８は、精密製造機１２を守るため、搭載ベース２０からの振動が精密製造機１２に伝わるのをメカニズム１６によって抑制できるように、精密製造機１２を素早く開放できる
【０１０７】
また、精密製造機１０１２は、１又はそれ以上のアクチュエータを有する移動装置１０２１（箱状に図示されている）を任意に含むことができ、アクチュエータは、地震性擾乱後において搭載ベース１０２０に対するペデスタル１０１４の位置を選択的にリセットするのに使用できる。
【０１０８】
ここで、本実施形態において、ペデスタル１０１４及び露光装置１０１１をまとめて漂体１０４４と称する。
【０１０９】
メカニズム１０１６は、漂体１０４４の部品を守るために、地震性擾乱中において漂体１０４４を隔離する。換言すると、メカニズム１０１６は、地震中において搭載ベース１０２０から漂体１０４４に伝わる振動を抑制する。このように、メカニズム１０１６、地震中における漂体１０４４の加速や運動を低減する
【０１１０】
いくつかの実施形態において、地震における鉛直方向の動きを減衰させるために、漂体１０４４の重量を漂わせる又は浮かべた状態にし、漂体１０４４に対して搭載ベース１０２０が動けるようにする必要がある。一実施形態において、メカニズム１０１６は比較的柔らかく、また、漂体１０４４は比較的重い。その結果、漂体１０４４は、比較的低い共振周波数を有するようになる。一実施形態において、メカニズム１０１６は、実質的ゼロ剛性を有する構成にできる、また、漂体１０４４の動きに関係なく、一定の鉛直力を漂体１０４４の重量に与えるように構成できる。
【０１１１】
図１０において、メカニズム１０１６は、Ｚ軸に沿った、Ｘ軸に沿った、及びＹ軸に沿った、搭載ベース１０２０の動きがペデスタル１０１４及び漂体１０４４に伝わるのを抑制する。この構成において、メカニズム１６は３自由度の振動を減衰する。適切なメカニズム１６について後で詳しく説明する。
【０１１２】
いくつかの実施形態において、低度の正剛性を望む場合に、機械動特性の調整のために、メカニズム１０１６とともに、ソフトスプリングシステム（図１では不図示）を用いることができる。
【０１１３】
メカニズム１０１６は、他の構成にも使用可能である。例えば、メカニズム１０１６は、サスペンション１６Ａの代わりに多数のペデスタル２１４Ａを配置した構成（図２Ａに図示）、あるいは、サスペンション１６Ａの代わりに統合したレベル及び統合したペデスタル２１４Ｂを配置した構成（図２Ｂに図示）に用いることができる。
【０１１４】
図１１は、メカニズム１０１６（図１０に図示）又はその一部として使用できる一実施形態におけるユニット１１１６の斜視図である。本実施形態において、ユニット１１１６は、マウント１１５０、支持部１１５２、及び緩衝体１１５４を含み、これらは協働して図１０、２Ａ、２Ｂに示す精密装置１０１０、２１０Ａ、２１０Ｂ又は他の種類の精密装置における物体間の運動の伝達を抑制する。これらの部品の構成、形状、及び大きさは、精密装置１０１０の残りの構成要求に合わせて変更可能である。
【０１１５】
マウント１１５０は剛体であり、第１物体に固定される（例えば、図１０に示す搭載ベース１０２０）。図１１において、マウント１１５０は第１物体に固定された搭載ベース１１５０Ａと、Ｚ軸に沿って延在しかつ搭載ベース１１５０から上方に張り出した搭載ビーム１１５０Ｂとを含む。例えば、搭載ベース１１５０Ａは、全体として円板状にでき、搭載ビーム１１５０は全体としてシリンダ状のビーム形状にできる。代替的に、これらの部品は図１に示したものと異なる形態を有することができる。
【０１１６】
支持部１１５２は、剛体であり、第２物体（例えば、図１０に示すペデスタル１０１４）に固定された先端部を含む。図１１において、支持部１１５２は全体としてシリンダー状のビーム形状である。代替的に、支持部１１５２は、図１１に示したものと異なる形態を有することができる。
【０１１７】
緩衝機１１５４は、マウント１１５０と支持部１１５２との間で延び、緩衝機１１５４は、少なくとも１つのラコスト型システム１１５６及び少なくとも１つのガーデンゲート型構造１１５８をなす。図１１に示す実施形態において、緩衝機１１５４は、単数のラコスト型システム１１５６と一対のガーデンゲート型構造１１５８とを規定する。本実施形態において、（１）ラコスト型システム１１５６は第１軸（例えば図１１のＺ軸に沿った上向き及び下向き）に沿って実質的にゼロ剛性を有し、実質的に一定の鉛直力をペデスタルに及ぼし、（２）ガーデンゲート型構造１１５８は、第２軸に沿って（例えば、図１１のＸ軸に沿って）及び第３軸に沿って（例えば、図１１のＹ軸に沿って）実質的にゼロ剛性を有し、ペデスタル１０１４と搭載ベース１０２０との間において無制限の相対的な水平運動を許容する。ラコスト型システム１１５６とガーデンゲート型構造１１５８の１つとが直列的に接続され、これにより、ガーデンゲート型構造１１５８は、ラコスト型システム１１５６の鉛直力をペデスタル１０１４に伝える。
【０１１８】
図１１において、緩衝機１１５４は、（１）ブーム取付部１１６０、（２）ブーム取付部１１６０から上方に離れて位置するビーム取付部１１６２、（３）サスペンションブーム材１１６４、（４）弾性体１１６６、（５）安定化ビーム材１１６８、（６）接続体１１７０、（７）ゲートフレーム１１７２、及び（８）ゲート取付部１１７４を含む。代替的に、緩衝機１１５４は、図１１に示すものより多くの又は少ない部品で構成できる。
【０１１９】
ブーム取付部１１６０は、サスペンションビーム材１１６４をマウント１１５０に枢動可能に取り付ける。ビーム取付部１１６２は、安定化ビーム材１１６８をマウント１１５０に枢動可能に取り付ける。本実施形態において、（１）ブーム取付部１１６０は、全体として筒状からなり搭載ビーム材１１５０Ｂを囲む取付リング１１６０Ａと、リング１１６０Ａ及びブーム材１１６４の開口（不図示）を通して延びかつ機械的及び枢動可能にブーム材１１６４を搭載ビーム材１１５０Ｂにつなぐピン１１６０Ｂとを有し、（２）ビーム取付部１１６２は、全体として筒状からなり搭載ビーム材１１５０Ｂを囲む取付リング１１６２Ａと、リング１１６２Ａ及びビーム材１１６８の開口（不図示）を通して延びかつ機械的及び枢動可能に安定化ビーム材１１６８を搭載ビーム材１１５０Ｂにつなぐピン１１６２Ｂとを含む。この構成において、（１）ブーム取付部１１６０は、マウント１１５０に対してブーム材１１６４がＸ軸周りに枢動自在であるとともに、マウント１１５０から張り出しているときに、ブーム材１１６４をマウント１１５０に接続し、（２）ビーム取付部１１６２は、マウント１１５０に対してＸ軸周りにビーム１１６８が枢動可能であるとともに、マウント１１５０から張り出しているときに、ビーム材１１６８をマウント１１５０に接続する。
【０１２０】
取付リング１１６０Ａ、１１６２Ａは、搭載ビーム材１１５０Ｂと合うような形状からなる。図１１において、搭載ビーム１１５０Ｂは全体としてシリンダ形状からなり、各取付リング１１６０Ａ、１１６２Ａは全体として円環状からなる。
【０１２１】
追加的に、ブーム取付部１１６０及びビーム取付部１１６２を、マウント１１５０にそれぞれ回転自在に取り付けることができる。この構成において、取付部１１６０、１１６２、ブーム材１１６４、及びビーム材１１６８をマウント１１５０に対して相対的にＺ軸周りに回転させることができる。その結果、ブーム材１１６４及びビーム材１１６８を、ガーデンゲート型構造１１５８として機能させることができる。
【０１２２】
サスペンションブーム材１１６４は、枢動可能かつマウント１１５０から張り出した剛体ビームである。サスペンションブーム１１６４は、（１）ブーム取付部１１６０に枢動可能につながったブーム近位端部１１６４Ａと、（２）接続体１１７０及び弾性体１１６６に枢動可能につながったブーム先端部１１６４Ｂとを有する。
【０１２３】
弾性体１１６６は、ブーム材１１６４にフレキシブルに接続し、マウント１１５０の動きが支持部１１５２に伝わるのを抑制する。図１１において、弾性体１１６６はピン１１６２Ｂを介してビーム取付部１１６２に固定された部材近位端部１１６６Ａとブーム先端部１１６４Ｂに接続された部材先端部１１６６Ｂとを有する弾性材である。
【０１２４】
一実施形態において、弾性材１１６６は、弾性材のそれぞれの作動範囲においてゼロ長スプリングと同様に機能する又は同様の特性を有する。例えば、一実施形態において、弾性材１１６６は、ゼロ長スプリングである。ゼロ長スプリングは、その長さに比例する力を発するスプリングである。換言すると、伸びる量はその全体の長さによって定まる。こうしたスプリングは、仮に弛んだ長さがゼロのときに、ゼロ力を発する。実際には、ゼロ長スプリングは、力が作用していないときにコイルが接触しかつコイルを離す動作の開始に所定の力が必要となるように、予荷重が与えられている（preloaded）スプリングである。予荷重の量は、始点での仮想交差を有しかつスプリング長と等しい力を発するように、力の置換曲線をシフトさせるために調整される。ゼロ長は、負の長さを持ったスプリング（スプリングが弛んだときにコイルが互いに押されている）と、長さを延ばす非弾性材とを組み合わせることにより作ることができる。ゼロ長スプリングのサイズは、システムに要求される力を達成するために変更可能である。
【０１２５】
別の実施形態において、弾性材を流体型ピストン体（不図示）にできる。
【０１２６】
ここで使用される「作動範囲」という用語は、漂体１０４４（図１０に示す）を隔離するのに必要な範囲を意味し、地震などの地震性擾乱からの振動振幅に対応する。代替的な非排他的実施形態において、作動範囲は、約１、２、５、１０、１５、２０、又は３０ｃｍにできる。
【０１２７】
安定化ビーム材１１６８は、枢同可能かつマウント１１５０から張り出した剛体ビームであり、マウント１１５０と接続体１１７０との間で延び、また、マウント１１５０と接続体１１７０との間の別の接続も行う。この構成において、安定化ビーム材１１６８は、接続体１１７０を適切な姿勢に維持する。図１１において、安定化ビーム材１１６８は、（１）ビーム取付部１１６２に枢動可能につながったビーム近位端部１１６８Ａと、（２）接続体１１７０に枢動可能につながったビーム先端部１１６８Ｂとを有する。
【０１２８】
いくつかの実施形態において、マウント１１５０、サスペンションブーム材１１６４、接続体１１７０、及び安定化ビーム材１１６８は協働して全体として矩形状の４柱リンクを形成する。また、弾性材１１６６は、その矩形形状の対角に延びる。
【０１２９】
接続体１１７０は、（Ｚ軸周りに）ヒンジ動作可能にブーム材１１６４及びビーム材１１６８をゲートフレーム１１７２に接続する。一実施形態において、接続体１１７０は、接続ビーム材１１７０Ａ、ブームコネクタ１１７０Ｂ、ビームコネクタ１１７０Ｃ、及びブームコネクタ１１７０Ｂとビームコネクタ１１７０Ｃとの間に配置されたゲートコネクタ１１７０Ｄを有する。本実施形態において、（１）接続ビーム材１１７０Ａは、円柱ロッドであり、（２）ブームコネクタ１１７０Ｂは接続ビーム材１１７０Ａの底に固定され、（３）ビームコネクタ１１７０Ｃはコネクタビーム材１１７０Ｂの頂部に固定され、また（４）ゲートコネクタ１１７０Ｄは筒状であり、接続ビーム材１１７０Ａを覆う位置にあり、Ｚ軸周りに接続ビーム材１１７０Ａに対して回転する。
【０１３０】
ブームコネクタ１１７０Ｂは、ブーム材１１６４を接続体１１７０に枢動可能に接続するブームピン１１７０Ｅと、ビーム材１１６８を接続体１１７０に枢動可能に接続するビームピン１１７０Ｆと、を有する。この構成において、接続体１１７０をマウント１１５０に対して相対的にＺ軸に沿って上下に移動させることができる。また、ゲートコネクタ１１７０Ｄは、ゲートフレーム１１７２に固定され、ラコスト型システム１１５６に対してゲートフレーム１１７２をＺ軸周りに枢動可能にする。
【０１３１】
ゲートフレーム１１７２は、剛体であり、接続体１１７０と支持部１１５２との間で延び、ラコスト型システム１１５６を支持部１１５２に機械的に接続する。非排他的一実施形態において、ゲートフレーム１１７２は、上部部材１１７２Ａ、下部部材１１７２Ｂ、及び上部部材１１７２Ａと下部部材１１７２Ｂとの間で対角に延びた一対の交差部材１１７２Ｃとを含む。一実施形態において、部材１１７２Ａ−１１７２Ｃの近位端部がゲートコネクタ１１７０Ｄに固定され、部材１１７２Ａ−１１７２Ｃの先端部がゲート取付部１１７４に固定される。
【０１３２】
ゲート取付部１１７４は、ゲートフレーム１１７２の先端部を枢動可能に支持部１１５２に取り付ける。一実施形態において、ゲート取付部１１７４は、下部取付リング１１７４Ａと、ゲートフレーム１１７２の先端部に固定され、支持部１１５２を囲む、離間した上部取付リング１１７４Ｂとを含む。この構成において、ゲート取付部１１７４は、ゲートフレーム１１７２を支持部１１５２に対して相対的にＺ軸周りに回転させることができる。
【０１３３】
なお、ラコスト型システム１１５６及びガーデンゲート型構造１１５８の順序を反対にしてもよい。
【０１３４】
図１２は、マウント１５０、支持部１１５２、及び緩衝体１１５４を含むユニット１１１６を示す模式的な上面図であり、緩衝体１１５４はラコスト型システム１１５６、ガーデンゲート型構造１１５８、及び接続体１１７０を有する。本実施形態において、（１）緩衝体１１５４はマウント１１５０に対してＺ軸周りに枢動する、（２）ラコスト型システム１１５６及びガーデンゲート型構造１１５８は、他に対してＺ軸周りに枢動する、また（３）緩衝体１１５４は支持部１１５２に対してＺ軸周りに枢動する。
【０１３５】
図１３Ａは、結合してメカニズム１３７０をなす複数のユニット１２９６を示す模式的な上面図である。メカニズム１３７０はここではセルと称する。本実施形態において、各ユニット１２９６は、１つのラコスト型システム１３５６と２つのガーデンゲート構造１３５８を有する緩衝体１３５４を含み、各セル１３７０は、互いに接続された複数のユニット１２９６を含む。換言すると、各セル１３７０は、共有するマウント１３５０を持つ複数の緩衝体１３５４を含み、コンパクト、ゼロ剛性、モジュール、多くの異なる精密装置１０１０（図１０に示す）に容易に組み込むことができるメカニズムを可能とする。代替的に、セル１３７０は共通の支持部１３５２を共有するように構成できる。
【０１３６】
図１３Ａに示す実施形態において、セル１３７０は、（１）単数の共通マウント１３５０、（２）６つの等間隔（対称的に方向付けられた）で共通マウント１３５０から張り出した緩衝体１３５４、及び（３）６つの離間した支持部１３５２、を含む。このように、図１３Ａのセル１３７０は、６つのラコスト型システム１３５６及び１２のガーデンゲート型構造１３５８を含む。この実施形態を六角セルと称する。本実施形態において、共通マウント１３５０は第１物体（図１３Ａでは不図示）に接続でき、複数の離間した支持部１３５２は第２物体（図１３Ａでは不図示）に接続でき、緩衝体１３５４のそれぞれは支持部１３５２の１つを共通マウント１３５０に接続する。また、この構成において、マルチな緩衝体１３５４が並列的である。
【０１３７】
追加的に、本実施形態において、マウント１３５０、各支持部１３５２、及び各緩衝体１３５４は、図１１に示した上記の対応する部品と同様にできる。
【０１３８】
ここで、（１）マルチマウント１３５０（図１４Ａ参照）を用いた実施形態のために、マウント１３５０のいずれかを「第１」、「第２」、「第３」、「第４」、「第５」、又は「第６」マウント１３５０と称することができる；（２）マルチ支持部１３５２を用いた実施形態のために、支持部１３５２のいずれかを「第１」、「第２」、「第３」、「第４」、「第５」、又は「第６」支持部１３５２と称することができる；（３）マルチ緩衝体１３５４を用いた実施形態のために、緩衝体１３５４のいずれかを「第１」、「第２」、「第３」、「第４」、「第５」、又は「第６」緩衝体１３５４と称することができる；（４）マルチラコスト型システムを用いた実施形態のために、ラコスト型システム１３５６のいずれかを「第１」、「第２」、「第３」、「第４」、「第５」、又は「第６」ラコスト型システム１３５６と称することができる；及び／又は（５）マルチガーデンゲート型構造１３５８を用いた実施形態のために、「第１」、「第２」、「第３」、「第４」、「第５」、「第６」、…「第１２」ガーデンゲート型構造１３５８と称することができる。
【０１３９】
図１３及び１３Ｃは、図１３Ａの六角セル１３７０の代替的な斜視図であり、支持部１３５２（図１３Ａに示す）がない。これらの図に示される６つのユニット１２９６において、６つのラコスト型システム１３５６が鉛直方向に積み重ねられるとともに、Ｚ軸に沿って互いにオフセットしており、これにより、共通マウント１３５０に対してユニット１２９６がＺ軸周りに回転するときに、それらが互いに干渉しない。
【０１４０】
図１４Ａは、結合してメカニズム１４７２をなす複数のセル１４７０を示す模式的な上面図である。メカニズム１４７２はここではラティスと称する。本実施形態において、各セル１４７０は６つのユニット１４１６を有する六角セル（図１３Ａに示したように）であり、複数のセル１４７０が互いに接続してラティス１４７２を形成している。換言すると、各ラティス１４７２は、共有する支持部１４５２を持つ複数のセル１４７０を含み、コンパクト、ゼロ剛性、モジュール、多くの異なる精密装置１０１０（図１０に示す）に容易に組み込むことができるメカニズムを可能とする。本実施形態において、六角セル１４７０はラティス１４７２において結合され、ペデスタル１０１４（図１０に示す）の下で使用できる。
【０１４１】
図１４Ａに示す非排他的な実施形態において、ラティス１４７２は結合した１０のセル１４７０を含む。代替的に、ラティス１４７２は、１０より多くの又は少ない結合したセル１４７０を用いて構成できる。
【０１４２】
本実施形態において、各セル１４７０のマウント１４５０は第１物体（図１４Ａでは不図示）に接続でき、複数の離間した支持部１４５２は第２物体（図１４Ａでは不図示）に接続でき、緩衝体１４５４のそれぞれは支持部１４５２の１つをマウント１４５２に接続する。また、この構成において、マルチな緩衝体１４５４が並列的である。
【０１４３】
本実施形態において、ラティス１４７２は完全一致ラティス（perfect matching lattice）である。完全一致ラティス１４７２は、隣接するセル１４７０からの支持部１４５２のすべてが１つの支持部につながることを意味する。よって、各支持部１４５２は、ラティス１４７２の周囲から離れて配置され、少なくとも２つのセル１４７０に接続される。換言すると、完全一致ラティスにおいて、ラティス１４７２の中央において、２未満のセル１４７０と接続する支持部１４５２はない。
【０１４４】
追加的に、本実施形態において、マウント１４５０、各支持部１４５２２、及び各緩衝体１４５４は、図１１に示した上記の対応する部品と同様にできる。
【０１４５】
ラティス１４７２におけるセル１４７０のサイズ、形状、数は、ペデスタル１０１４のフットプリントの下に合うように調整可能である。通常、重い荷重はより多くのユニットと大きいラティス１４７２を必要とする。荷重点の集中に応じて、ペデスタル１４についてラティス１４７２のフットプリントを完全に含む必要はないかもしれない。
【０１４６】
図１４Ｂ及び１４Ｃは、図１４Ａのラティス１４７２又はその一部の代替的な斜視図である。セル１４７０の積み重ねは、ラティスレベルにおいて、緩衝体１４５４が互いに干渉しないように行われる。より具体的には、緩衝体１４５４は、マウント１４５０及び支持部１４５２に接続され、鉛直方向に積み重ねられ、Ｚ軸に沿ってオフセットしており、これにより、ラティスの動作中において緩衝体１４５４が互いに干渉しない。
【０１４７】
本実施形態において、各支持部１４５２は、接続する緩衝体１４５４が３を超えない。
【０１４８】
ここで、他のセルやラティス構造も可能である。例えば、図１５Ａは、３つのユニット１５１６を有するセル１５７０の簡易的な上面図であり、互いに結合されて三角セル１５７０を形成する。本実施形態において、ユニット１５１６の各々は図１１に示した上記のユニット１１１６と同様である。
【０１４９】
図１５Ｂは、ラティス１５７２の簡易的な上面図であり、互いに結合されてラティス１５７２を形成する複数の三角セル１５７０を含む。
【０１５０】
図１６Ａは、４つのユニット１６１６を有するセル１６７０の簡易的な上面図であり、互いに結合されて四角セル１６７０を形成する。本実施形態において、ユニット１６１６の各々は図１１に示した上記のユニット１６１６と同様である。
【０１５１】
図１６Ｂは、ラティス１６７２の簡易的な上面図であり、互いに結合されてラティス１６７２を形成する複数の四角セル１６７０を含む。本実施形態において、ラティス１６７２は完全一致ラティス（perfect matching lattice）である。
【０１５２】
図１７Ａは、５つのユニット１７１６を有するセル１７７０の簡易的な上面図であり、互いに結合されて五角セル１７７０を形成する。本実施形態において、ユニット１７１６の各々は図１１に示した上記のユニット１１１６と同様である。
【０１５３】
図１７Ｂは、ラティス１７７２の簡易的な上面図であり、互いに結合されてラティス１７７２を形成する複数の五角セル１７７０を含む。本実施形態において、ラティス１７７２は完全一致ラティスではない。本実施形態において、隣接するセル１７７０の荷重に対し、１つの接続支持部につながる接続部がすべてとはならない。しかしながら、マルチのサスペンションの間で荷重のバランスが取れていれば、完全一致ラティスを必要としない。
【０１５４】
図１８は、ラティス１８７２の簡易的な上面図であり、互いに結合されてラティス１８７２を形成する複数の五角セル１７７０を含む。本実施形態において、ラティス１８７２は完全一致ラティスではない。
【０１５５】
図１９は、ラティス１９７２の簡易的な上面図であり、互いに結合されてラティス１９７２を形成する複数の五角セル１７７０を含む。本実施形態において、ラティス１９７２は完全一致ラティスではない。また、本実施形態において、ラティス１９７２は、五角セル８７０による円形パターンを構成する。
【０１５６】
異なる数のユニットからなる他のセル配置も可能である。例えば、図２０Ａは、７つのユニット２０１６を有するセル２０７０の簡易的な上面図であり、互いに結合されて７セル（a seven cell）２０７０を形成する。本実施形態において、ユニット２０１６の各々は図１１に示した上記のユニット１１１６と同様である。
【０１５７】
図２０Ｂは、ラティス２０７２の簡易的な上面図であり、互いに結合されてラティス２０７２を形成する複数の７セル２０７０を含む。本実施形態において、ラティス２０７２は完全一致ラティスではない。
【０１５８】
図２１Ａは、８つのユニット２１１６を有するセル２１７０の簡易的な上面図であり、互いに結合されて８セル（an eight cell）２１７０を形成する。本実施形態において、ユニット２１１６の各々は図１１に示した上記のユニット１１１６と同様である。
【０１５９】
図２１Ｂは、ラティス２１７２の簡易的な上面図であり、互いに結合されてラティス２１７２を形成する複数の８セル２１７０を含む。本実施形態において、ラティス２１７２は完全一致ラティスではない。
【０１６０】
いくつかの実施形態において、完全一致ラティスは、ペデスタルのピッチ及びロールに対してより安定したサスペンションかもしれない。より重いペデスタルに対して、より多くの数のユニットが使用される、あるいは代替的に、発生する鉛直力を変化させるために、ラコスト型サスペンションの各々の軸心の高さを変更できる。
【０１６１】
図２２Ａは、メカニズム１０１６（図１０に図示）又はその一部として使用できる別の実施形態におけるユニット２２１６の斜視図である。本実施形態において、ユニット２２１６は、マウント２２５０、支持部２２５２、及び緩衝体２２５４を含み、これらは協働して物体間の運動の伝達を抑制する。本実施形態において、マウント２２５０及び支持部２２５２は、図１１に示した上記の対応する部品と同様である。緩衝機２２５４は、マウント２２５０と支持部２２５２との間で延び、緩衝機２２５４は、少なくとも１つのラコスト型システム２２５６及び少なくとも１つのガーデンゲート型構造２２５８を規定する。緩衝体２２５４は、緩衝体２２５４を支持部２２５２に枢動可能に取り付ける取付リング２２７４を１つのみゲート取付部２２７４が有する点を除き、上述した対応する部品と同様である。
【０１６２】
図２２Ｂは、６つのユニット２２１６（図２２Ａ参照）を有するセル２２７０を示す模式的な上方斜視図であり、互いに結合されて６セル（a six cell）２２７０を形成する。
【０１６３】
図２２Ｃは、ラティス２２７２の簡易的な上面図であり、互いに結合されてラティス２２７２を形成する複数の６セル２２７０を含む。本実施形態において、ラティス２２７２は完全一致ラティス（perfect matching lattice）である。
【０１６４】
この構成において、漂体１０４４（図１０に示す）を同時に支持するのにマルチのラコスト型システム及びマルチのガーデンゲート型構造が使用可能である。
【０１６５】
図２３は、精密装置２３１０の模式図であり、精密製造機２２９２、精密製造機２２９２の部品を保持するペデスタル２２９４、及び緩衝系２２９６を含む。全体として、いくつかの実施形態において、緩衝系２２９６は、負の剛性を有する１又はそれ以上の弾性メカニズム２３２１、及び協働して搭載ベース２３２０に対してペデスタル２２９４を支持する１又はそれ以上の正の剛性のサスペンション２２９９を有し、地震性擾乱中にペデスタル２２９４及精密製造機２２９２を隔離する。
【０１６６】
この構成において、負の剛性の弾性メカニズム２３２１は正剛性のサスペンション２２９９の剛性を打ち消すのに利用され、緩衝系２２９６の全体的な剛性を低減する。このメカニズム２３２１の負の剛性は、これらの構造体の荷重積載能力を落とすことなく、緩衝系２２９６の剛性を低減するために既存のサスペンション２２９９と並行して使用できる。
【０１６７】
代替的に、例えば、正の剛性のサスペンション２２９９を省いたシステムとしてもよい。この構成において、精密装置２３１０のケーブルやホースの剛性によって生じる正の剛性を打ち消すために負の剛性の緩衝系２２９６が用いられる。
【０１６８】
弾性メカニズム２３２１の負の剛性は、緩衝系２２９６の共振周波数を低下させ、緩衝系２２９６の性能を改善するのに利用できる。換言すると、負剛性メカニズム２３２１は、既存の緩衝系２２９６に追加することができ、これにより、緩衝系２２９６の剛性を下げ、ゼロ剛性に近づけ、ペデスタル２２９４の動きにかかわらず、ペデスタル２２９４に実質的に一定の力が作用するようにできる。その結果、精密製造機２２９２の部品は、地震性擾乱時において、緩衝系２２９６を介して良好に守られる。これは地震性擾乱中の精密製造機２２９２の部品の損傷及び位置ずれの可能性を抑える。
【０１６９】
図２３において、精密製造機２３１２は、図１に示した上記の露光装置１０と同様の露光装置２３２２である。また、ペデスタル２３１４は、図１に示した上記のペデスタル１４と同様である。本実施形態において、ペデスタル２３１４及び露光装置２３２２をまとめて漂体２３４４と称する。
【０１７０】
いくつかの実施形態において、低度の正剛性を望む場合に、機械動特性の調整のために、緩衝系２３１６とともに、ソフトスプリングシステム（図２３では不図示）を用いることができる。
【０１７１】
弾性メカニズム２３２１は、他の構成にも使用可能である。例えば、メカニズム２３２１は、多数のペデスタル２１４Ａを配置した構成（図２Ａに図示）、あるいは、統合したマルチレベル及び統合したペデスタル２１４Ｂを配置した構成（図２Ｂに図示）に用いることができる。
【０１７２】
また、負の剛性の弾性メカニズム２３２１は、実質的に一定の力を同じに維持しながら、固有の正剛性を減らす又は取り除くべき用途に好ましく適用できる。基本的に、本発明は、広い動作範囲にわたって実質的に一定の力が必要とされ、負の剛性によってシステムに対する固有の剛性を解消又は低減する必要があれば、どのような用途にも使用可能である。例えば、弾性メカニズム２３２１は、振動検知機器や設備について前例のないレベルでの実行を可能にするのに使用できる。例えば、弾性メカニズム２３２１は、顕微鏡、微小テスタ、他の振動検知機器及び設備に使用できる。
【０１７３】
負の剛性の供給に加えて、いくつかの実施形態において、弾性メカニズム２３２１によって、正、負、又はゼロに調整可能な一定のプリセット予荷重を供給する構成にできる。いくつかの実施形態において、負の剛性は作動範囲全体にわたって完全に直線であり、大振幅擾乱に対する防振に用いることができる。
【０１７４】
一実施形態において、精密装置２３１０は、地震性擾乱が生じていないときに、搭載ベース２３２０に対してペデスタル２３１４を選択的にロックする１又はそれ以上のロック体２３１８（図１では箱状に示す）をさらに含む。この構成において、精密製造機２３１２の通常操作中に、ロック体２３１８は、精密製造機２３１２を固定して保持する。また、ロック体２３１８は、精密製造機２３１２を守るため、搭載ベース２３２０からの振動が精密製造機２３１２に伝わるのを緩衝系２３１６によって抑制できるように、精密製造機２３１２を素早く開放できる。
【０１７５】
緩衝系２３１６は、漂体２３４４の部品を守るために、地震性擾乱中においてペデスタル２３１４及び漂体２３４４を隔離する。図２３において、緩衝系２３１６は、Ｚ軸に沿った、搭載ベース２３２０の動きがペデスタル２３１４及び漂体２３４４に伝わるのを抑制する。この構成において、緩衝系２３１６は、１自由度の振動を減衰させる。代替的に、例えば、緩衝系２３１６は、１自由度より多くでき、例えば３自由度の振動を減衰するように構成できる。
【０１７６】
図２３において、緩衝系２３１６は、負の剛性を有する１又はそれ以上の弾性メカニズム２３２１、及び協働して搭載ベース２３２０に対してペデスタル２３１４を支持する並列に配置された１又はそれ以上の正の剛性のサスペンション２３１９を有し、地震性擾乱中にペデスタル２３１４及精密製造機２３１２を隔離する。
【０１７７】
正剛性のサスペンション２３１９は、弾性スプリング、流体ピストン、弾性材、振動隔離システム（例えば、ＡＶＩＳシステム）、又は別のタイプの隔離機にできる。図２３において、負の剛性の弾性メカニズム２３２１は、正の剛性のサスペンション２３１９から離間して描かれている。代替的に、例えば、負の剛性メカニズム２３２１及び正の剛性メカニズム２３１９が互いに接近していてもよい。例えば、ＡＶＩＳシステムは、負の剛性メカニズム２３２１及び正の剛性メカニズム２３１９の両方を組み込む構成にできる。
【０１７８】
また、システムの正の剛性が生じる原因は、製造装置２３１２における部品をつなぐケーブル及びホース、又は漂体２３４４上の他の部品である。
【０１７９】
図２４は、弾性メカニズム２４２１の一実施形態の斜視図であり、図１、２、３に示した緩衝系１６、２１６、２９６、又は別の種類のシステムを隔離するのに使用できる。例えば、弾性メカニズム２４２１は、第１物体（図２４では不図示）及び第２物体（図２４では不図示）の間での動きの伝達を抑制するのに使用できる。いくつかの実施形態において、負の剛性の供給に加えて、弾性メカニズム２４２１によって、正、負、又はゼロに調整可能な一定のプリセット予荷重を供給することができる。
【０１８０】
弾性メカニズム２４２１の負の剛性は、振動隔離機の共振周波数を下げ、その性能を改善するのに使用できる。弾性メカニズム２４２１は直線的な負の剛性を有し、大振幅擾乱の振動隔離に用いることができる。弾性メカニズム２４２１の負の剛性は、圧力制御及び他の流体アプリケーションに使用されるベローズの正の剛性を解消するのに使用できる。同時に、弾性メカニズム２４２１のプリセット予荷重を、ベローズを用いてプリセット圧力の維持に使用できる。このメカニズム２４２１の負の剛性は、既存の支持構造と並行して使用でき、それら構造の荷重積載能力を落とすことなく、それらの剛性を低減し、また、支持荷重の共振周波数を低減できる。
【０１８１】
弾性メカニズム２４２１のサイズ、形状、及び構成は、メカニズム２４２１の構成要求を達成するために変更可能である。一実施形態において、弾性メカニズム２４２１は、機構フレーム２４５４、ブーム材２４５６、移動マウント２４５８、マウント弾性体２４６０、第１ブーム弾性体２４６２、及び第２ブーム弾性体２４６４を含む。
【０１８２】
機構フレーム２４５４は、弾性メカニズム２４２１の部品を支持する。また、機構フレーム２４５４を、第１物体と見なすことができる。例えば、機構フレーム２４５４を、搭載ベース２３２０に固定された剛体ビーム材にできる。非排他的な一実施形態において、ビーム材は直線状、固体、全体として円柱ロッドであり、搭載ベース２３２０から延在して離れた上方先端部２４５４Ａ、搭載ベース２３２０に固定された下方近位端部２４５４Ｂ、ブームコネクタ２４５４Ｃ、固定マウント２４５４Ｄ、及びガイド領域２４５４Ｅを含む。
【０１８３】
図２４において、（１）ブームコネクタ２４５４Ｃが筒状のリングであり、ロッドにおける先端部２４５４Ａと近位端部２４５４Ｂとの中間に固定されている、また（２）固定マウント２４５４Ｄが筒状のリングであり、ロッドにおける近位端部２４５４Ｂの付近に固定されている。また、本実施形態において、ブームコネクタ２４５４Ｃは、ロッドから張り出しかつブームコネクタ２４５４Ｃに対してブーム材２４５６を枢動可能に固定するためのピン２４６７を受け入れる一対の枢動フランジ２４６６を追加的に含む。同様に、固定マウント２４５４Ｄは、ロッドから張り出しかつ機構フレーム２４５４に第２ブーム弾性材２４６４の近位端部２４６４Ａを取り付けるための一対の離間した搭載フランジ２４６８を含む。
【０１８４】
代替的な一実施形態において、ブームコネクタ２４５４Ｃは、ブーム材２４５６をブームコネクタ２４５４Ｃに枢動可能に取り付けるモノリシック・フレクシャにできる。この実施形態において、フレクシャ２４５４Ｃは多少の剛性を有する可能性がある。フレクシャ２４５４Ｃの剛性や弾性メカニズム２４２１の残りの部品の構成に応じて、弾性メカニズム２４２１は以下を有するように構成できる；（１）負の剛性：フレクシャ２４５４Ｃの剛性が小さいとき（残りのメカニズム２４２１によって生じる負の剛性よりもフレクシャ２４５４Ｃの剛性が小さい）、（２）約ゼロ剛性：フレクシャ２４５４Ｃの剛性が残りのメカニズム２４２１によって生じる負の剛性とほぼ等しいとき、（３）正の剛性：フレクシャ２４５４Ｃの剛性が残りのメカニズム２４２１によって生じる負の剛性よりも大きいとき。
【０１８５】
ガイド領域２４５４Ｅは、移動軸２４７０に沿った移動マウント２４５８の移動を案内する。ガイド領域２４５４Ｅの構成は、移動マウント２４５８の構成に応じて変更できる。例えば、図２４において、ガイド領域２４５４Ｅは、全体として円柱状の領域２４５４ＥＡと、移動軸２４７０に沿って延びる矩形状の案内レール２４５４ＥＢとを有する。この実施形態において、移動マウント２４５８は、円柱領域２４５４ＥＡに沿ってスライドし、案内レール２４５４ＥＢは、軸２４７０（すなわちＺ軸）周りに移動マウント２４５８が回転するのを抑制する。代替的に、例えば、移動マウント２４５８は、１又はそれ以上のローラ２４８０（図２６Ａに示す）を含むことができ、ガイド領域２４５４Ｅは、１又はそれ以上のローラ２６８０を案内する１又はそれ以上のトラック２６８２（図２６Ａに示す）を含むことができる。
【０１８６】
一実施形態において、ブーム材２４５６は、（１）機構フレーム２４５４に枢動可能に接続されかつヒンジされたブーム近位端部２４５６Ａと、（２）ペデスタル２２９４（図２３に示す）又は別の物体に回転可能に接続されたブーム先端部２４５６Ｂとを有する剛体ビームである。この構成において、ブーム材２４５６は、ブーム軸心軸２４５６Ｃ周りに枢動する。
【０１８７】
移動マウント２４５８は、移動軸２４７０に沿ってブームコネクタ２４５４Ｃに対して移動する（例えば、図２４のＺ軸に沿って上下する）。一実施形態において、移動マウント２４５８は、円柱領域２４５４ＥＡを囲みかつそれに沿ってスライドする筒状のリングである。また、移動マウント２４５８は、移動マウント２４５８の回転を抑制するための案内レール２４５４ＥＢを受け入れるスロット２４５８Ａを含むことができる。代替的に、例えば、移動マウント２４５８は、１つ又はそれ以上のローラ２６８０（図２６Ａに示す）を含むことができる。
【０１８８】
マウント弾性体２４６０は、移動マウント２４５８をブームコネクタ２４５４Ｃから移動軸２４７０に沿って離すように作用し、また、マウント弾性体２４６０は、移動マウント２４５８がブームコネクタ２４５４Ｃ及びブーム材２４５６に対して移動軸２４７０に沿って移動するのを可能にする。非排他的な一実施形態において、マウント弾性体２４６０は、ガイド領域２４５４Ｅを囲み、移動マウント２４５８とブームコネクタ２４５４Ｃとの間に直接位置する標準的なスプリングである。この実施形態において、スプリングの近位端部４２６０Ａは、移動マウントと物理的に直接接し、スプリングの先端部２４６０Ｂはブームコネクタ２４５４Ｃと物理的に直接接する。代替的に、マウント弾性体２４６０を、別の種類の弾性体にしてもよい。
【０１８９】
弾性体２４２１の特性は、マウント弾性体２４６９の特性に応じて調整できる。例えば、下により詳細に示すように、弾性メカニズム２４２１が正、負、又はゼロの一定のプリセット予荷重を有するようにマウント弾性体２４６０のバネ定数Ｋｙが選択される。なお、ｋ１又はｋ２を変えるなどの、予荷重を変更するための他の方法もある。
【０１９０】
第１ブーム弾性体２４６２は、移動マウント２４５８に取り付けられる近位端部２４６２Ａと、ブーム先端部２４５６Ｂに取り付けられる先端部２４６２Ｂとを有する。この構成において、第１ブーム弾性体２４６２は、移動マウント２４５８とブーム材２４５６との間で対角に延びる。また、この構成において、マウント弾性体２４６０、第１ブーム弾性体２４６２、及びブーム材２４５６は協働的に、全体として三角形状を有する。
【０１９１】
いくつかの実施形態において、漂体２３４４がニュートラル位置に支持されているときにブーム材２４５６が実質的に横向きに維持される。代替的に、漂体２３４４がニュートラル位置に支持されているときに、ブーム材２４５６を水平に対して角度を付けた状態に維持できる。
【０１９２】
一実施形態において、第１ブーム弾性体２４６２は、第１ブーム弾性体２４６２の作動範囲においてゼロ長スプリングと同様に機能する又は同様の特性を有する。例えば、一実施形態において、第１ブーム弾性体２４６２は、ゼロ長スプリングである。ゼロ長スプリングのサイズは、システムに要求される力を達成するために変更可能である。
【０１９３】
別の実施形態において、第１ブーム弾性体２４６２を、ゼロ長スプリングとほぼ同様に作動するように構成された流体式ピストン構造（不図示）にできる。
【０１９４】
第２ブーム弾性体２４６４は、第１マウント２４５４Ｄに取り付けられた近位端部２４６４Ａとブーム先端部２４５６Ｂに取り付けられた先端部２４６４Ｂとを有する。この構成において、第２ブーム弾性体２４６４は、固定マウント２４５４Ｄとブーム材２４５６との間で対角に延びる。また、この構成において、機構フレーム２４５４の一部（ブームコネクタ２４５４Ｃと固定マウント２４５４Ｄとの間）、第２ブーム弾性体２４６２、及びブーム材２４５６は協働的に、全体として三角形状を有する。
【０１９５】
一実施形態において、第２ブーム弾性体２４６４は、上記の第１ブーム弾性体２４６２と同様に機能しかつその構成も同様である。例えば、一実施形態において、第２ブーム弾性体２４６４は、ゼロ長スプリングである。
【０１９６】
この構成において、第１ブーム弾性体２４６２は、ブーム軸心軸２４５６Ｃ周りの第１回転方向２４５６Ｄにブーム材２４５６が枢動するように作用し、第２ブーム弾性体２４６４は、ブーム軸心軸２４５６Ｃ周りで第１回転方向２４５６Ｄとは逆の第２回転方向４２５６Ｅにブーム材２４５６が枢動するように作用する。
【０１９７】
また、下により詳細に示すように、弾性メカニズム２４２１が正（図２５におけるＺ軸に沿って上向き）、負（図２４におけるＺ軸に沿って下向き）、又はゼロの一定のプリセット予荷重を有するように、第１ブーム弾性体４２６２のバネ定数ｋ１及び／又は第２ブーム弾性体２４６４のバネ定数ｋ２が選択される。
【０１９８】
なお、負の剛性、弾性メカニズム２４２１の構成は変更可能である。例えば、（１）又は（２）に位置する鉛直方向のスプリングを用いて、ブームコネクタ２４５４Ｃがガイド領域２４５４Ｅに沿ってスライドする間における、移動マウント２４５８を固定できる；（１）移動マウント２４５８とブームコネクタ２４５４Ｃとの間：圧縮状態のスプリングで荷重が下がるとき、又は（２）ブームコネクタ２４５４Ｃと固定マウント２４５４Ｄとの間：引張状態のスプリングで荷重が下がるとき。代替的に、上の枢軸を固定し下の枢軸が上下スライドし、鉛直スプリングを下の枢軸とブームコネクタとの間にすることで、メカニズム２４２１を上下逆にしてもよい。
【０１９９】
図２５Ａは、第１ニュートラル状況２５６１における弾性体２４２１の模式的な側面図であり、図２５Ｂは、第２後退状況２５６３における弾性体２４２１の側面図であり、図２５Ｃは、第３拡張状況２５６５における弾性体２４２１の別の側面図である。状況２５６１、２５６２、２５６３のいずれもニュートラル・ポジションとみなすことが可能である。これらの図はブームコネクタ２４５４Ｃに対して移動マウント２４５８がどのように移動するかをさらに示す。
【０２００】
図２６Ａ−２６Ｆは、図２４の弾性メカニズム２４２１の簡素化した模式図である。これらの図は、弾性メカニズム２４２１によって負の剛性がどのように達成されるかを説明するのに役立つ。これらの例において、移動マウント２４５８は、トラック２６８２によって案内される複数のローラ２６８０を含む。
【０２０１】
まず、図２６Ａ−２６Ｂを参照し、ブームコネクタ２４５４Ｃについて移動の合計は以下のように表すことができる：
【０２０２】
【数３】

【０２０３】
ここでの式において、（１）ｓ１はブームコネクタ２４５４Ｃと移動マウント２４５８との間の距離、（２）ｓ２はブームコネクタ２４５４Ｃと固定マウント２４５４Ｄとの間の距離、（３）ｘ１は第１ブーム弾性体２４６２の長さ、（４）ｘ２は第２ブーム弾性体２４６４の長さ、（５）ｋ１は第１ブーム弾性体２４６２のバネ定数、（６）ｋ２は第２ブーム弾性体２４６４のバネ定数、（７）ｋｙはマウント弾性体２４６０のバネ定数、（８）Ｂはブーム材２４５６の長さ、（９）θは水平軸に対するブーム材２４５６の角度（１０）Ｆは力、である。
【０２０４】
また、ブーム先端部２４５６Ｂに作用する力Ｆは以下の式で表すことができる：
【０２０５】
【数４】

【０２０６】
なお、ブームコネクタ２４５４Ｃに対して移動マウント２４５８が上下移動するのでｓ１は変化できる。したがって、力Ｆは一定ではない。実際には、ｓ１はＦの関数として以下のように表すことができる：
【０２０７】
【数５】

【０２０８】
図２６Ｃ及び図２６Ｄを参照して、１つの方向（例えば、実施形態における鉛直方向）において、移動マウント４５８における力の合計は以下で表すことができる：
【０２０９】
【数６】

【０２１０】
この式において、ｓ０は弾性体４６０における伸びのない長さである。式５を用いて、式６を以下のように書き換えることができる：
【０２１１】
【数７】

【０２１２】
代数を用いて、式７は以下のように表すことができる：
【０２１３】
【数８】

【０２１４】
図２４に示した実施形態において、（１）約ゼロ、（２）正、又は（３）負の予荷重を弾性メカニズム２４２１が有するように、マウント弾性体２４６０の剛性（例えば、バネ定数ｋｙ）、第１ブーム弾性体２４６２の剛性（例えば、バネ定数ｋ１）、及び第２ブーム弾性体２４６４の剛性（例えば、バネ定数ｋ２）を選択できる。換言すると、いくつかの実施形態において、弾性メカニズム２４２１は、負の剛性の供給に加えて、正、負、又はゼロに調整可能な一定のプリセット予荷重を供給するように構成できる。
【０２１５】
より具体的には、ゼロの予荷重を得るために、弾性メカニズム２４２１は、式９に示すように構成される：
【０２１６】
【数９】

【０２１７】
この構成において、力は以下の式で算出できる：
【０２１８】
【数１０】

【０２１９】
この例において、弾性メカニズム２４２１は、ゼロ予荷重での作動範囲の全体を通して、鉛直方向又は図２４のＺ軸に沿った完全にリニアな負の剛性を供給できる。
【０２２０】
代替的に、弾性メカニズム２４２１は、負の剛性と組み合わせて一定の正の予荷重を供給するように構成できる。これは弾性メカニズム２４２１を以下のように構成することで達成できる：
【０２２１】
【数１１】

【０２２２】
さらに代替的に、弾性メカニズム２４２１は、以下のとき、負の剛性と組み合わせて一定の負の予荷重を供給するように構成できる：
【０２２３】
【数１２】

【０２２４】
なお、弾性メカニズム２４２１の所望の作動範囲においてマウント弾性体２４６０が底割れしないように（ｓ１＞０）、弾性メカニズム２４２１を構成すべきである。
【０２２５】
所望の作動範囲ｙを関数としてキネマティックのｓ１は、以下のように表すことができる：
【０２２６】
【数１３】

【０２２７】
代数を用いて、これは以下のように書き換えることができる：
【０２２８】
【数１４】

【０２２９】
ブーム材２４５６に作用する、ブーム材に沿った力、Ｆ、ＦＢについて、常に一定であるとともに、ブーム材２４５６が座屈、塑性変形、又は破壊しないことを確実にするために、大荷重の適用を考慮する必要がある。図２６Ｅ及び２６Ｆを参照して、ブーム材に作用する力ＦＢは、ブーム２４５６に沿った力の合計を取ることにより以下のように算出できる：
【０２３０】
【数１５】

【０２３１】
式４を用いて、式１５を以下のように書き換えることができる：
【０２３２】
【数１６】

【０２３３】
式１６は以下のようにさらに簡略化できる：
【０２３４】
【数１７】

【０２３５】
図２７は、本発明の特徴を有する、負の剛性の弾性メカニズム２７２１の別の実施形態の斜視図である。弾性メカニズム２７２１は、振動隔離機の共振周波数を下げ、その性能を改善するのに使用できる。例えば、弾性メカニズム２７２１は、精密装置２３１０（図２３に示す）又は別の精密システムに使用できる。
【０２３６】
図２７に示す実施形態において、弾性メカニズム２７２１は、ブーム材２７５６、移動マウント２７５８、マウント弾性体２７６０、及び第１ブーム弾性体２７６２、を含み、これらは図２４に示した対応する部品の構成と同様である。ただし、本実施形態では、機構フレーム２７５４が固定マウント２４５４Ｄを含まず、弾性メカニズム２７２１は第２弾性体２４６４を含まない。
【０２３７】
ここで、図２７の弾性メカニズム２７２１は、負の剛性に組み合わされた一定の正の予荷重を必要とする応用のみに使用できる。次の式１８のように、図２４に示す弾性メカニズム２４２１の代わりに、次のように弾性メカニズム２４１８を構成することにより達成可能である。
【０２３８】
【数１８】

【０２３９】
図２７の実施形態において、第２マウント弾性体は除かれている。よって、第２マウント弾性体のバネ定数Ｋ２はゼロの値を有する。
【０２４０】
ここで開示された弾性メカニズム２４２１、２７２１は、電源ケーブル、ホース、又は他の荷重に接続されたラインの剛性を解消するような、他の応用例に使用可能である。また、弾性メカニズム２４２１、２７２１における、直線的で大レンジの負の剛性をフレクシャ案内運動を用いた振動隔離装置の性能改善にも使用可能である。高精密応用のための振動隔離機構のいくつかは、固有の剛性を追加し隔離性能を下げることになるフレクシャを採用している。弾性メカニズム２４２１、２７２１は、こうしたフレクシャの剛性の解消及び性能改善に使用できる。
【０２４１】
また、弾性メカニズム２４２１、２７２１における、直線的で大レンジの負の剛性をベローズを用いた圧力制御用途にも使用できる。図２８は、精密装置２８１０の簡略化した斜視図であり、囲いチャンバ２８８４、ベローズセット２８８６、及び図２７の弾性メカニズム２７２１を有する。本実施形態において、ベローズ２８８６は、チャンバ２８８４と流体的につながり、また、ベローズ２８８６はコネクタビーム材２８８８を用いて弾性メカニズム２７２１に機械的に接続されている。この実施形態において、ベローズ２８８６は、チャンバ２８８４内の流体（不図示）の圧力を制御するために伸縮エリアを提供する。
【０２４２】
しかしながら、金属ベローズ２８８６を含む多くのベローズ２８８６が固有の剛性を有し、これがベローズ２８８６の動き方やチャンバ２８８４内の圧力制御に逆に影響を及ぼす可能性がある。この実施形態において、弾性メカニズム２７２１の負の剛性を、圧力制御や他の流体用途に使用されるベローズ２８８６の正の剛性を解消するのに使用できる。このように、ベローズ２８８６の固有の剛性の解消に弾性メカニズム２７２１を使用することで、理想的な一定圧力源を提供することができる。また、負の剛性に加えてプリセット予荷重をベローズに与えることで、チャンバ２８８４内のその時点の圧力が維持されるように、弾性メカニズム２７２１を構成できる。
【０２４３】
換言すると、図２８において、弾性メカニズム２７２１はベローズ２８８６に接続され、一定の引っ張り力と負の剛性をベローズ２８８６に与え、これにより、ベローズ２８８６の剛性が解消されるとともに、ベローズ２８８６が引っ張られることで、外部に対する一定の負の圧力差がチャンバ２８８４内部に与えられる。ベローズ２８８６に対する実質的に一定の力及び負の剛性により、外部に対する一定圧力差が得られる。別の実施形態において、同様のベローズ２８８６を用いた同様の方法で、ベローズ２８８６に対して一定の押圧及び負の剛性を与え、圧力チャンバ２８８４における外部に対する一定の正の圧力差を得るのに、図２４の弾性メカニズム２４２１を使用できる。
【０２４４】
ここで記載したゼロ剛性及び負の剛性メカニズムは、次に示す他の多くの用途に使用できる：（１）ＬＣＤ露光用のマスクのレベリングなどの圧力制御用途、（２）ベローズの剛性の解消、（３）ＡＶＩＳシステム、（４）移動ステージに接続されたチューブやワイヤの剛性の解消、（５）他の精密設備の振動隔離、（６）光学テーブル及び製造設備の振動隔離、（７）フェイルセーフ用途のための機械的トリガー機構、（８）カメラやビデオ録画装置におけるレンズ構造の振動抑制システム（性能改善及び省力化）（例えば、モノリシック、フレクシャベースの近接・近似（a monolithic, flexure-based approximation）がレンズ素子の保持に用いられる）、（９）写真機材における振動隔離三脚又は三脚用付属品、（１０）ツールとしてのカウンター重量用途、及び／又は（１１）カウンター重量用途用に正の剛性を解消する、カウンターバランス式のウエハカセットの昇降機や電気的又は手動での移動が必要な他の重量設備。ただし、これらに限定するものではない。
【０２４５】
ここで開示された負の剛性メカニズムは、共通のマウントに対する複数の負の剛性メカニズムを含むモジュールユニットとして再構成可能である。
【０２４６】
図２９は、本発明の特徴を有する精密装置２９１０の模式図であり、精密製造機２９１２、精密製造機２９１２の部品を保持するペデスタル体２９１４、隔離システム２９１６（箱状に図示する）、及びペデスタル同期システム２９２５を含む。全体として、いくつかの実施形態において、ペデスタル体２９１４は、隔離システム２９１６を用いて搭載ベース２９２０に対して独立的に支持されたマルチなペデスタル（例えば、第１ペデスタル２９１４Ａ及び第２ペデスタル２９１４Ｂ）を含む。また、ペデスタル同期システム２９２５は、例えば所定の許容範囲を超える擾乱発生時などの振動が起きた際に、独立的なペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂを同時に移動させる。非排他的ないくつかの例において、所定の許容範囲は、約５０μｍ、１００μｍ、５００μｍ、又は１ｍｍにできる。
【０２４７】
この構成において、隔離システム２９１６は、精密製造装置２９１２の標準的な操作中において、ペデスタル２９１４Ａ及び２９１４Ｂの間の振動の伝達を抑制できる。また、ペデスタル同期システム２９２５は、激しい振動が起きているときに、ペデスタル２９１４Ａ及び２９１４Ｂを同時に移動させ、それらが互いに突き当たるのを防ぎ、ペデスタル２９１４Ａ及び２９１４Ｂ上の部品の間で物理的な接続が損傷したり切断されたりするのを防ぐ。これは地震性擾乱中における部品の相対移動を原因とした精密製造機２９１２の部品の損傷及び位置ずれの可能性を抑える。
【０２４８】
一実施形態において、搭載ベース２９２０は、第１フロア２９２０Ａを含み、これは精密部品の製造用に制御された環境が維持されたクリーンルーム２９２０Ｃのフロアにできる。例えば、クリーンルーム２９２０Ｃは、環境汚染物質（例えば、塵、化学粒子）を極めて低いレベルに維持できる。また、搭載ベース２９２０は、第２フロア２９２０Ｂを含むことができ、これはクリーンルーム２９２０Ｃに比べて環境汚染物質をより多く含む非クリーンルーム２９２０Ｄの環境である。
【０２４９】
ここでは、精密製造装置２９１２の第１部品２９２１Ａは第１ペデスタル２９１４Ａに取り付けられ、製造装置２９１２の第２部品２９２１Ｂが第２ペデスタル２９１４Ａに取り付けられる。例えば、図２９において、第１部品２９２１Ａが比較的クリーンな動作に対応し、第２部品２９２１Ｂが比較的汚れた動作に対応する。一実施形態において、比較的汚れた動作に対応する部品は、塵（dust）、破片（debris）、熱（heat）、騒音（noise）を発生し、それらがクリーンルーム２９２０Ｃにおける制御された環境に悪影響を及ぼす可能性がある。クリーンルーム２９２０Ｃの外に置かれた汚染部品２９２１Ｂを用いて、クリーンルーム２９２０Ｃを容易に維持し、製造装置２９１２を用いて高品質の製品を製造できる。この実施形態において、第１ペデスタル２９１４Ａはクリーンルーム２９２０Ｃの一部であり、第１ペデスタル２９１４あの底部は非クリーンルーム２９２０Ｄの一部である。
【０２５０】
フロア２９２０Ａ、２９２０Ｂの位置づけは逆でもよい。例えば、クリーンルーム２９２０Ｃが、汚染動作部品２９２１Ｂを含む非クリーンルーム２９２０Ｄの底部に位置してもよい。
【０２５１】
精密製造機２９１２の構成は、所望の製造工程を達成するために変更できる。非排他的な一実施形態において、精密製造機装置２９１２は、露光装置２９２２及び搬送機構２９２４を含むことができ、それらは図１に示した上記の同様の名前の装置と同様の構成である。
【０２５２】
本実施形態において、露光装置２９２２は、１又はそれ以上の流体源２９４８（図２９にはその１つのみが示されている）、１又はそれ以上の温度制御系２９５０（図２９にはその１つのみが示されている）、及び／又は露光装置２９２２の適切な運転に必要な他の部品を含むことができる。一般に、これらの種類の部品は塵（dust）、破片（debris）、及び／又は熱（heat）を発生する。図２９において、流体源２９４８及び温度制御システム２９５０は、装置フレーム２９２６及び非クリーンルーム２９２０Ｄの下方の第２ペデスタル２９１４Ｂに取り付けられているように示されている。
【０２５３】
非排他的な一例として、流体源２９４８は、ステージ装置２９３２、２９３４用の流体ベアリングをつくるための予圧流体を提供できる。流体源２９４８は、流体源２９４８をステージ装置２９３２、２９３４に流体的につなぐための１又はそれ以上の導管２９４８Ａを含むことができる。
【０２５４】
また、非排他的な一例として、温度制御系２９５０は、ステージ装置２９３２、２９３４に冷却流体を供給できる。温度制御システム２９５０は、温度制御システム２９５０をステージ装置２９３２、２９３４に流体的につなぐための１又はそれ以上の温度導管２９５０Ａを含むことができる。
【０２５５】
図２９において、導管２９４８Ａ、２９５０Ａは、第１ペデスタル２９１４Ａ内の１又はそれ以上の開口（図２９には不図示）を通って延びており、（１）流体導管２９４８Ａによって流体源２９４８（非クリーンルーム２９２０Ｄ内）がステージ装置２９３２、２９３４（クリーンルーム２９２０Ｃ内）に流体的につながり、また（２）温度導管２９５０Ａによって温度制御システム２９５０（非クリーンルーム２９２０Ｄ内）がステージ装置２９３２、２９３４（クリーンルーム２０Ｃ内）に流体的につながる。
【０２５６】
ここでは、ペデスタル同期システム２９２５を用いて、ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂを地震性擾乱中に同時に移動させる。これは地震性擾乱中の導管２９４８Ａ、２９５０Ａの損傷及び位置ずれの可能性を抑える。各導管２９４８Ａ、２９５０Ａの外周辺は、クリーンルーム２９２０Ｃの清潔さを維持するために第１ペデスタル２９１４Ａに対してシールされている。
【０２５７】
図２９において、（１）搬送機構２９２４、装置フレーム２９２６、照明光学装置２９２８Ｂ、投影光学装置２９３０、レチクルステージ装置２９３２、ウエハステージ装置２９３４、計測システム２９３６、及びリソグラフィック制御システム２９３８は第１部品２９２１Ａとみなされ、第１ペデスタル２９１４Ａに取り付けられて支持され、また（２）照明源２９２８Ａ、流体源２９４８、及び温度制御システム２９５０は、第２部品２９２１Ｂとみなされ、第２ペデスタル２９１４Ｂに取り付けられて支持されている。他の部品を第１ペデスタル２９１４Ａ又は第２ペデスタル２９１４Ｂに取り付けて支持してもよい。
【０２５８】
また、ここで、本実施形態において、（１）第１ペデスタル２９１４Ａ及び第１部品２９２１Ａを統合して第１漂体２９４４Ａと称し、（２）第２ペデスタル２９１４ｂ及び第２部品２９２１Ｂを統合して第２漂体２９４４Ｂと称する。
【０２５９】
図２９の部品の配置は、単に非排他的な１つの例であり、ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂの部品の他の配置を利用でき、２より多くのペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂを利用できる。
【０２６０】
各ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂの大きさ、形状、及び構成は、支持する部品に合うように変更可能である。図２９において、第１ペデスタル２９１４Ａは、複数の離間したパススルー開口（不図示）を含むことができ、これにより、照明光学装置２９２８Ｂや導管２９４８、２９５０Ａなどの設備が第１ペデスタル２９１４Ａを通って延在し、第２部品２９２１Ｂが第１部品２９２１Ａに接続される。
【０２６１】
隔離システム２９１６は、漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂの部品を守るために、地震性擾乱中においてペデスタル２９４４Ａ及び漂体２９４４Ｂを隔離する。図２９において、隔離システム２９１６は以下を含む：（１）搭載ベース２９２０と第１ペデスタル２９１４Ａとの間につながり、搭載ベース２９２０と第１ペデスタル２９１４Ａとの間での動きの伝達を抑制する第１隔離体２９１６Ａ、及び（２）搭載ベース２９２０と第２ペデスタル２９１４Ｂとの間につながり、搭載ベース２９２０と第２ペデスタル２９１４Ｂとの間での動きの伝達を抑制する第２隔離体２９１６Ｂ。この構成において、隔離システム２９１６は、精密製造装置２９１２の標準的な運転時において、第１ペデスタル２９１４上の第１部品２９２１Ａと第２ペデスタル２９１４Ｂ上の第２部品２９２１Ｂとの間での振動の伝達を抑制する。
【０２６２】
また、この構成において、ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂは離間して支持されており、ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂ及びそれらの部品２９２１Ａ、２９２１Ｂは、異なる振動特性を有する可能性がある。換言すると、漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂのそれぞれは、離間して支持されているので異なる振動特性を有する可能性がある。
【０２６３】
ここで、隔離システム２９１６Ａ、２９１６Ｂのそれぞれは、第１漂体２９４４Ａ（第１ペデスタル２９１４Ａ及び第１部品２９２１Ａを含む）の第１モード振動特性が第２漂体２９４４Ｂ（第２ペデスタル２９１４Ｂ及び第２部品２９２１Ｂを含む）の第１モード振動特性とほぼ等しくなるように、剛性が調整された構成にできる。換言すると、隔離システム２９１６Ａ、２９１６Ｂのそれぞれは、第１漂体２９４４Ａ及び第２漂体２９４４Ｂが実質的に同じ共振周波数を有するように、剛性が調整された構成にできる。
【０２６４】
一実施形態において、支持される想定質量に基づいてスプリングにおける適切な剛性の値を設計し、その後に小さい調整スプリングを用いて共振モードを微調整することにより、剛性を調整できる。調整可能なスプリングは、ブレードの底部のローラを動かして枢動点を変化させることでブレードの長さが変化するブレード・スプリング（blade spring）とすることができる。剛性を変える別の方法において、スクロール式の固定部を有する通常のスプリングを用いて、巻き上げ又は下げることで、スプリングの螺旋部の長さを変化させる。より高い周波数を有する重量／質量をシステムに加えることによっても、共振モードを精密に調整することが可能である。
【０２６５】
代替的に、いくつかの構成において、隔離システム２９１６Ａ、２９１６Ｂの調整を必要としない可能性がある。
【０２６６】
隔離装置２９１６Ａ、２９１６Ｂの構成は、漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂの共振周波数を所望のレベルにするために、あるいは運動の減衰を所望の方向とするために、変更可能である。いくつかの実施形態において、地震における鉛直方向の動きを減衰させるために、漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂの重量を漂わせる又は浮かべた状態にし、漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂに対して搭載ベース２９２０が動けるようにする必要がある。
【０２６７】
一実施形態において、隔離装置２９１６Ａ、２９１６Ｂの各々は以下を含む：（１）Ｚ軸に沿った、Ｘ軸周り、及びＹ軸周りの搭載ベース２９２０の動きがペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂのそれぞれに伝わるのを抑制する１又はそれ以上の離間した鉛直向きの第１隔離機２９５２Ａ（スプリングとして２つのみ図示している）と、（２）Ｘ軸に沿った、Ｙ軸に沿った、及びＺ軸周りの搭載ベース２９２０の動きがペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂのそれぞれに伝わるのを抑制する１又はそれ以上の離間した水平向きの第２隔離機２９５２Ｂ（スプリングとして２つのみ図示している）とを含む。この構成において、隔離装置２９１６Ａ、２９１６Ｂは、６自由度の振動を減衰させる。代替的に、１つ又は両方の隔離装置２９１６Ａ、２９１６Ｂが６より少ない自由度の振動を減衰するように構成できる。
【０２６８】
適切な隔離機２９５２Ａ、２９５２Ｂは、流体ベローズ、流体ピストン、スプリング、ゼロ剛性隔離機（上記）、負剛性の隔離機（上記）、及び／又はアクチュエータを含みかつ組み込むことができる。各ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂ用の、２つの第１隔離機２９５２Ａのみ、及び２つの第２隔離機２９５２Ｂのみが図示されているが、いくつかの構成において、各ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂをそれぞれより多くの隔離機２９５２Ａ、２９５２Ｂで支持することができる。
【０２６９】
ペデスタル同期システム２９２５によって、激しい振動が発生しているときに、ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂが同時に動き、これにより、互いに衝突するのが抑制／防止されるとともに、物理的な接続（例えば、第１部品２９２１Ａと第２部品２９２１Ｂの間の照明光学装置２９２８Ｂ、及び導管２９４８Ａ、２９５０Ａ）が損傷したり切断されたりするのが防止される。これは地震性擾乱中における部品の相対移動を原因とした精密製造機２９１２の部品の損傷及び位置ずれの可能性を抑える。
【０２７０】
ペデスタル同期システム２９２５の構成は、ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂの構成に応じて変更できる。上記したように、隔離システム２９１６Ａ、２９１６Ｂのそれぞれは、第１漂体２９４４Ａ及び第２漂体２９４４Ｂが実質的に同じ共振周波数を有するように、剛性が調整された構成にできる。しかしながら、これらのシステム２９１６Ａ、２９１６Ｂを、普通は完全には調整できない。よって、ペデスタル同期システム２９２５は、激しい振動の発生している間、ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂが同時に動くことの確実性が要求され得る。
【０２７１】
図２９において、ペデスタル同期システム２９２５は以下を含む：（１）振動発生中に、漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂを選択的かつ独立的に移動させるペデスタル移動装置２９５４（箱状に図示）、（２）ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂの位置及び／又は漂体２９４４、２９４４Ｂの別の部分の位置をモニターするペデスタル計測システム２９５６（箱状に図示）、及び（３）ペデスタル制御システム２９５８。この構成において、振動発生中、ペデスタル計測システム２９５６は、ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂの相対位置及び／又は漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂの別の部分の相対位置をモニターしかつ位置情報を供給でき、また、ペデスタル移動装置２９５４は、漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂがほぼ同時に移動するように、ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂを移動させることができる。
【０２７２】
図２９において、各ペデスタル２９１４Ａに対して、ペデスタル移動装置２９５４は、以下を含む：（１）搭載ベース２９２０とペデスタル２９１４Ａ，２９１４Ｂの間で延びかつ、Ｚ軸に沿った、Ｘ軸周りの、及びＹ軸周りの、搭載ベース２９２０に対するそれぞれのペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂの位置を調整する、１又はそれ以上の第１移動体２９５４Ａ（各ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂに対して２つを図示）、及び（２）搭載ベース２９２０とペデスタル２９１４Ａ，２９１４Ｂの間で延びかつ、Ｘ軸に沿った、Ｙ軸に沿った、及びＺ軸周りの、搭載ベース２９２０に対するそれぞれのペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂの位置を調整する、１又はそれ以上の第２移動体２９５４Ｂ（各ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂに対して２つを図示）。
【０２７３】
例えば、各移動体は、リニアモータ、ロータリアクチュエータ、流体アクチュエータ、又は別の種類のアクチュエータにできる。ペデスタル移動装置２９５４は、ペデスタル制御システム２９５８に電気的に接続されかつそれにより制御される。
【０２７４】
ペデスタル計測システム２９５６は、ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂの、及び／又は、漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂの別の部分の、互いの又は搭載ベース２９２０に対する動きをモニターする。例えば、ペデスタル計測システム２９５６は、マルチレーザー干渉計、エンコーダー、及び/又は他の測定器を利用できる。
【０２７５】
ペデスタル制御システム２９５８（又は別の制御器）は、ペデスタル計測システム５６から位置情報を受け取り、ペデスタル移動装置２９５４を制御し、これにより、振動発生中に、ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂが一緒に動く（互いに追随する）ように、ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂの位置を精密に制御する。
【０２７６】
上述した構成において、ペデスタル同期システム２９２５は、６自由度におけるペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂの相対位置を制御できる。代替的に、ペデスタル同期システム２９２５は、６より少ない自由度における、ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂの相対位置を制御できる。
【０２７７】
上記したように、一実施形態において、隔離装置２９１６Ａ、２９１６Ｂは比較的柔らかく、また、漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂは比較的重い。
【０２７８】
いくつかの実施形態において、精密装置２９１０はベースクランプ構造２９６０（箱状に図示）、及びクランプ制御システム２９６２（箱状に図示）も含むことができ、これにより、激しい振動が生じていないときに、漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂの望まない動きを抑制する。この配置において、ベースクランプ構造２９６０を使用しなければ、ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂ上を何かが動くと、漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂが移動しかつ活気付く可能性がある。これは、ウエハ２９４２に転写される像形状の精度を下げる可能性がある。
【０２７９】
この構成において、隔離システム２９１６は、地震性擾乱中における、プラットフォーム２９１４Ａ、２９１４Ｂ及び精密製造装置２９１２を支持し隔離し、また、ベースクランプ構造２９６０は、地震擾乱が生じていないときに、プラットフォーム２９１４Ａ、２９１４Ｂ及び精密製造装置２９１２を選択的に搭載ベース２０にロックする。また、この構成において、ベースクランプ構造２９６０がロック状態のとき、搭載ベース２９２０が漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂの間での振動の伝達を抑制する大きなローパスフィルタとして作動する。
【０２８０】
ベースクランプ構造２９６０の構成は、地震性擾乱中における、漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂのロックを所望のレベルとするために、また漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂの動きを所望の自由度にするために、変更可能である。一実施形態において、ベースクランプ構造２９６０は、以下を含む：（１）Ｚ軸に沿った、Ｘ軸周りの、及びＹ軸周りの搭載ベース２９２０に対する漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂの動きを選択的に、協働して抑制する１又はそれ以上の離間した鉛直クランプ（vertical clamps）２９６０Ａ（各ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂに対して２つを図示）と、（２）Ｘ軸に沿った、Ｙ軸に沿った、及びＺ軸周りの、搭載ベース２９２０に対する漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂの動きを選択的に、協働して抑制する１又はそれ以上の離間した水平クランプ（horizontal clamps）２９６０Ｂ（各ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂに対して２つを図示）とを含む。この構成において、ベースクランプ構造２９６０は、漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂの６自由度の動きを抑制する。代替的に、ベースクランプ構造２９６０は、６より少ない自由度で、漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂをロックするように構成できる。
【０２８１】
非排他的な一実施形態において、各クランプ２９６０Ａ、２９６０Ｂは、ディスクブレーキシステムに似た構成にでき、選択的に移動ターゲットをクランプする一対のキャリパーを含むことができる。各クランプ２９６０Ａ、２９６０Ｂを、異なる構成にできる。例えば、各クランプ２９６０Ａ、２９６０Ｂを磁性流体（不図示）内に配置されたプランジャ（不図示）にできる。この構成において、磁性流体を通じて電流が流れないときには、プランジャは自由に動くことができる。一方、磁性流体を通じて電流が流れると、プランジャの動きが抑制される。
【０２８２】
クランプ制御システム２９６２は、ベースクランプ２９６０Ａ、２９６０Ｂに電気的に接続されかつそれらを制御し、これにより、ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂを搭載ベース２９２０に選択的にロック及びアンロックする。クランプ制御システム２９６２は、１又はそれ以上のプロセッサ及び回路を備えることができる。
【０２８３】
一実施形態において、クランプ制御システム２９６２は、地震性擾乱が搭載ベース２０をまさに乱そうとしていることを示す早期警報通知信号を供給する通知システム２９６４（箱状に図示）に電気的につながっている。早期警報通知信号の受信に基づき、クランプ制御システム２９６２は、ベースクランプ２９６０Ａ、２９６０Ｂをアンロックし、地震性擾乱が搭載ベース２９２０に達する前に、ペデスタル２９１４Ａ、２９１４Ｂ及び漂体２９４４Ａ、２９４４Ｂを開放できる。
【０２８４】
追加的に、通知信号は、リソグラフィ制御システム２９３８に送られる。この情報を用いて、リソグラフィ制御システム２９３８は、（１）ウエハステージ装置２９３４を制御し、ウエハ２９４２を安全な位置に移動させ、（２）照明源２９２８Ａを消し、及び／又は（３）ロック体２９１８がペデスタル体２９１４を開放する直前に、露光装置２９２２の隔離機２９４６Ａ−２９４６Ｄを調整する、ことができる。
【０２８５】
図３０は、別の実施形態である精密装置３０１０の模式図であり、上記の図２９に示した精密装置２９１０と概ね同様である。ただし、図３０において、精密装置３０１０の多くの部品、すなわち、露光装置３０２２、搬送機構３０２４、照明源３０２８Ａ、制御システム３０３８、流体源３０４８、及び温度制御システム３９５９が箱状に示されている。
【０２８６】
一方、図３０においては、ペデスタル体３０１４は、第１ペデスタル３０１４Ａ、第２ペデスタル３０１４Ｂ、及び第３ペデスタル３０１４Ｃを含み、それらは同一レベル上で隣接して配置されている。本実施形態において、（１）第１ペデスタル３０１４Ａは露光装置３０２２を支持し、（２）第２ペデスタル３０１４Ｂは搬送機構３０２５を支持し、また（２）第３ペデスタル３０１４Ｃは照明源３０２８Ａ、制御システム３０３８、流体源３０４８、及び温度制御システム３０５０を支持する。代替的に、ペデスタル体３０１４は、さらに多くの又は少ないペデスタルによって構成できる、及び／又は、ペデスタル上の部品の配置は、図３０に示したものと異なってもよい。
【０２８７】
追加的に、図３０において、ペデスタル３０１４Ａ、３０１４Ｂ、３０１４Ｃのそれぞれは、隔離システム３０１６を用いて、搭載ベース３０２０に対して独立的に支持される。より具体的には、本実施形態において、隔離システム３０１６は以下を含む：（１）搭載ベース３０２０と第１ペデスタル３０１４Ａとの間でつながり、搭載ベース３０２０と第１ペデスタル３０１４Ａとの間での動きの伝達を抑制する第１隔離体３０１６Ａ、（２）搭載ベース３０２０と第２ペデスタル３０１４Ｂとの間につながり、搭載ベース３０２０と第２ペデスタル３０１４Ｂとの間での動きの伝達を抑制する第２隔離体３０１６Ｂ、及び（３）搭載ベース３０２０と第３ペデスタル３０１４Ｃとの間につながり、搭載ベース３０２０と第３ペデスタル３０１４Ｃとの間での動きの伝達を抑制する第３隔離体３０１６Ｃ。この構成において、隔離システム３０１６は、第１ペデスタル３０１４Ａ、第２ペデスタル３０１４Ｂ、及び第３ペデスタル３０１４Ｃ上の部品の間での振動の伝達を抑制する。
【０２８８】
図３０の模式的な図示において、隔離システム３０１６は、３自由度におけるペデスタル３０１４Ａ、３０１４Ｂ、３０１４Ｃを隔離するのみである。しかしながら、隔離システム３０１６は、３より多い自由度で隔離するように構成できる。
【０２８９】
また、図３０において、精密装置３０１０は、ベースクランプ構造３０６０を含み、これにより、地震性擾乱が生じていないときに、プラットフォーム３０１４Ａ、３０１４Ｂ、３０１４Ｃを搭載ベース３０２０に選択的にロックする。
【０２９０】
図３０において、精密装置３０１０は、ペデスタル同期システム３０１８も含み、これにより、激しい振動が起きているときに、ペデスタル３０１４Ａ、３０１４Ｂ、３０１４Ｃを同時に移動させ、それらが互いに衝突するのを防ぎ、ペデスタル３０１４Ａ、３０１４Ｂ、３０１４Ｃ上の部品の間で物理的な接続が損傷したり切断されたりするのを防ぐ。
【０２９１】
この実施形態において、ペデスタル同期システム３０２５は、以下を含む：（１）振動発生中に、ペデスタル３０１４Ａ、３０１４Ｂ、３０１４Ｃを移動させるペデスタル移動装置３０５４、（２）ペデスタル３０１４Ａ、３０１４Ｂ、３０１４Ｃの互いの相対的な位置をモニターするペデスタル計測システム３０５６（箱状に図示）、及び（３）ペデスタル移動装置３０５４を制御するペデスタル制御システム３０５８。
【０２９２】
図３０において、ペデスタル移動装置３０５４は、以下を含む：（１）隣接するペデスタル３０１４Ａ、３０１４Ｂ、３０１４Ｃの間で延びかつ、Ｚ軸に沿った、Ｘ軸周りの、及びＹ軸周りの、ペデスタル３０１４Ａ、３０１４Ｂ、３０１４Ｃの相対位置を調整する、２つの第１移動体３０５４Ａ、（２）隣接するペデスタル３０１４Ａ、３０１４Ｂ、３０１４Ｃの間で延びかつ、Ｘ軸に沿った、Ｙ軸周りの、及びＺ軸周りの、ペデスタル３０１４Ａ、３０１４Ｂ、３０１４Ｃの相対位置を調整する、２つの第２移動体３０５４Ｂ。この構成において、ペデスタル同期システム３０２５は、ペデスタル３０１４Ａ、３０１４Ｂ、３０１４Ｃの相対位置を６自由度で制御できる。
【０２９３】
図３１は、別の実施形態である精密装置３１９０の模式図であり、上記の図３１に示した精密装置３１１０と概ね同様である。図３１において、露光装置３１２２は、搬送機構３１２４、照明源３１２８Ａ、制御システム３１３８、流体源３１４８、及び温度制御システム３１５０が箱状に示されている。同様に、図３１において、（１）ペデスタル体３１９４が、第１ペデスタル３１９４Ａ、第２ペデスタル３１９４Ｂ、及び第３ペデスタル３１９４Ｃを含み、（２）隔離システム３１１６が、第１隔離体３１１６Ａ、第２隔離体３１１６Ｂ、及び第３隔離体３１１６Ｃを含み、これらはペデスタル３１１４Ａ、３１１４Ｂ、３１１４Ｃの間での振動の伝達を抑制し、（３）地震性擾乱が生じていないときに、プラットフォーム３１１４Ａ、３１１４Ｂ、３１１４Ｃを搭載ベース３１２０に選択的にロックするベースクランプ構造３１６０。
【０２９４】
図３１において、精密装置３１１０は、ペデスタル同期システム３１１８も含み、これにより、激しい振動が起きているときに、ペデスタル３１１４Ａ、３１１４Ｂ、３１１４Ｃを同時に移動させ、それらが互いに衝突するのを防ぎ、ペデスタル３１１４Ａ、３１１４Ｂ、３１１４Ｃ上の部品の間の物理的な接続が損傷したり切断されたりするのを防ぐ。ただし、本実施形態において、ペデスタル同期システム３１２５は、異なる構成である。より具体的には、本実施形態において、ペデスタル同期システム３１９８は、ペデスタルロック体３１６６、及びペデスタルロック体３１６６を制御するロック制御システム３１６８を含む。
【０２９５】
一実施形態において、ペデスタルロック体３１６６は、以下を含む：（１）第１ペデスタル３１１４Ａと第３ペデスタル３１１４Ｃとの間で延びかつ第１ペデスタル３１１４Ａを第３ペデスタル３１１４Ｃに選択的にロックする第１ロック３１６６Ａ、及び（２）第１ペデスタル３１１４Ａと第２ペデスタル３１１４Ｂとの間で延びかつ第１ペデスタル３１１４Ａを第２ペデスタル３１１４Ｂに選択的にロックする第２ロック３１６６Ｂ。ロック３１６６Ａ、３１６６Ｂが作動すると、ペデスタル３１１４Ａ、３１１４Ｂ、３１１４Ｃが同時に動き、ロック３１６６Ａ、３１６６Ｂが解除されると、ペデスタル３１１４Ａ、３１１４Ｂ、３１１４Ｃが独立して自由に動く。
【０２９６】
非排他的な一実施形態において、各ロック３１６６Ａ、３１６６Ｂは、ディスクブレーキシステムに似た構成にでき、選択的に移動ターゲットをクランプする一対のキャリパーを含むことができる。代替的に、各ロック３１６６Ａ、３１６６Ｂを、異なる構成にできる。例えば、各ロック３１６６Ａ、３１６６Ｂを、磁性流体（不図示）内に配置されたプランジャ（不図示）にできる。この構成において、磁性流体を通じて電流が流れないときには、プランジャは自由に動くことができる。一方、磁性流体を通じて電流が流れると、プランジャの動きが抑制される。
【０２９７】
ロック制御システム３１６８は、ペデスタル３１１４Ａ、３１１４Ｂ、３１１４Ｃを一緒にロック及びアンロックを選択的に行うために、ロック３１６６Ａ、３１６６Ｂに電気的に接続されかつそれらを制御する。ロック制御システム３１６８は、１又はそれ以上のプロセッサ及び回路を備えることができる。
【０２９８】
一実施形態において、ロック制御システム３１６８は、地震性擾乱が搭載ベース３１２０をまさに乱そうとしていることを示す早期警報通知信号を供給する通知システム３１６４（箱状に図示されている）に電気的につながっている。早期警報通知信号の受信に基づき、ロック制御システム３１６８は、ベースクランプ構造３１６０をアンロックしかつペデスタル３１１４Ａ、３１１４Ｂ、３１１４Ｃを開放し、地震性擾乱が搭載ベース３１２０に達する前に、ロック３１６６Ａ、３１６６Ｂによってペデスタル３１１４Ａ、３１１４Ｂ、３１１４Ｃを一緒に取り付ける、ことができる。
【０２９９】
別の実施形態において、ペデスタル同期システムは、ロック３０６６Ａ、３０６６Ｂ及び移動体３０５４Ａ、３０５４Ｂ（図３０に図示）を組み合わせた構成にできる。
【０３００】
図３２は、別の実施形態である精密装置３２１０の模式図であり、上記の図３１に示した精密装置３２１０と概ね同様である。図３２において、露光装置３２２２は、搬送機構３２２４、照明源３２２８Ａ、制御システム３２３８、流体源３２４８、及び温度制御システム３２５０が箱状に示されている。
【０３０１】
図３２において、（１）ペデスタル体３２１４が、第１ペデスタル３２１４Ａ、第２ペデスタル３２１４Ｂ、第３ペデスタル３２１４Ｃ、及び第４ペデスタル３２１４Ｄを含み、（２）隔離システム３２１６が、第１隔離体３２１６Ａ、第２隔離体３２１６Ｂ、第３隔離体３２１６Ｃ、及び第４隔離体３２１６Ｄを含み、これらはペデスタル３２１４Ａ、３２１４Ｂ、３２１４Ｃ、３２１４Ｄの間での振動の伝達を抑制し、（３）地震性擾乱が生じていないときに、プラットフォーム３２１４Ａ，３２１４Ｂ、３２１４Ｃ、３２１４Ｄを搭載ベース３２２０に選択的にロックするベースクランプ構造３２６０。この実施形態において、（１）第１及び第２ペデスタル３２１４Ａ、３２１４Ｂが同じレベルで隣接し、（２）第３及び第４ペデスタル３２１４Ｃ、３２１４Ｄが同じレベルで隣接し、また（３）第１及び第２ペデスタル３２１４Ａ、３２１４Ｂが第３、第４ペデスタル３２１４Ｃ、３２１４Ｄの上方に位置する。
【０３０２】
追加的に、図３２において、精密装置３２１０は、ペデスタル同期システム３２２５も含み、これにより、激しい振動が生じているときに、ペデスタル３２１４Ａ、３２１４Ｂ、３２１４Ｃ、３２１４Ｄを同時に移動させ、それらが互いに衝突するのを防ぎ、部品の間の物理的な接続が損傷したり切断されたりするのを防ぐ。ただし、一実施形態において、ペデスタル同期システム３２２５は、以下を含む：（１）第１ペデスタル３２１４Ａと第２ペデスタル３２１４Ｂとの間で延びかつ第１ペデスタル３２１４Ａを第２ペデスタル３２１４Ｂに選択的にロックする第１ロック３２６６Ａ、及び第３ペデスタル３２１４Ｃと第４ペデスタル３２１４Ｄとの間で延びかつ第３ペデスタル３２１４Ｃを第４ペデスタル３２１４Ｄに選択的にロックする第２ロック３２６６Ｂ、を有するペデスタルロック体３２６６、（２）搭載ベース３２２０に対する、第１及び第２ペデスタル３２１４Ａ、３２１４Ｂのロックの位置を調整する第１移動体３２５４Ａ、及び搭載ベース３２２０に対する、第３及び第４ペデスタル３２１４Ｃ、３２１４Ｄのロックの位置を調整する第２移動体３２５４Ｂ、を有するペデスタル移動体３２５４、及び（３）ペデスタル３２１４Ａ、３２１４Ｂ、３２１４Ｃ、３２１４Ｄの位置をモニタするペデスタル計測システム３２５６。上述した構成において、ペデスタル同期システム３２２５は、ペデスタル３２１４Ａ、３２１４Ｂ、３２１４Ｃ、３２１４Ｄの相対位置を制御できる。
【０３０３】
図３３は、別の実施形態である精密装置３３１０の模式図であり、上記に示した精密装置と概ね同様である。図３３において、露光装置３３２２は、搬送機構３３２４、照明源３３２８Ａ、制御システム３３３８、流体源３３４８、及び温度制御システム３３５０が箱状に示されている。
【０３０４】
図３３において、（１）ペデスタル体３３１４が、第１ペデスタル３３１４Ａ、第２ペデスタル３３１４Ｂ、第３ペデスタル３３１４Ｃ、及び第４ペデスタル３３１４Ｄを含み、（２）隔離システム３３１６が、第１隔離体３３１６Ａ、第２隔離体３３１６Ｂ、第３隔離体３３１６Ｃ、及び第４隔離体３３１６Ｄを含み、これらはペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｂ、３３１４Ｃ、３３１４Ｄの間での振動の伝達を抑制する。この実施形態において、（１）第１及び第２ペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｂが同じレベルで隣接し、（２）第３及び第４ペデスタル３３１４Ｃ、３３１４Ｄが同じレベルで隣接し、また（３）第１及び第２ペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｂが第３及び第４ペデスタル３３１４Ｃ、３３１４Ｄの上方に位置し、（４）ペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｂ、３３１４Ｃ、３３１４Ｄのそれぞれが概ねＬ字状である。
【０３０５】
さらに、図３３において、搭載ベース３３２０が離間した一対の垂直の壁３３２９Ａ、３３２０Ｂを含む。
【０３０６】
追加的に、図３３において、隔離機３３１６Ａ、３３１６Ｂ、３３１６Ｃの各々はラコスト型サスペンションであり、それはペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｂ、３３１４Ｃ、３３１４Ｄの１つを壁３３２０Ａ、３３２０Ｂの１つに接続する、 この実施形態において、隔離機３３１６Ａ、３３１６Ｂ、３３１６Ｃ、３３１６Ｄの各々は以下を含む：（１）ブーム枢軸３３７０Ａを介して搭載ベース３３２０に枢動可能に接続した近位端部と、ペデスタル枢軸３３７０Ｂを介してペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｂ、３３１４Ｃ、３３１４Ｄの１つに枢動可能に接続した先端部と、を有する、剛体ヒンジブーム３３７０、及び（２）搭載ベース３３２０及びブーム材３３７０の先端部に接続した弾性体３３７２。非排他的な例として、各枢軸３３７０Ａ、３３７０Ｂ、３３７４Ａは、ヒンジ又はボール型の連結にできる。代替的に、いくつかの非排他的な実施形態において、ブーム材３３７０は、少なくとも約４０、６０、１００、又は２００ｃｍの長さである。
【０３０７】
一実施形態において、弾性体３３７２は、ゼロ長でゼロ力を発する、予め圧縮されたゼロ長スプリングである。この実施形態において、搭載ベース３３２０、ブーム材３３７０、及び弾性体３３７２は協働的に、全体として三角形状を有する。この構成において、ヒンジブーム材３３８０Ａは、極めて長い周期で基枢軸３３８１Ａ周りに枢動する振り子として機能する。
【０３０８】
また、この実施形態において、各隔離体３３１６Ａ、３３１６Ｂ、３３１６Ｃ、３３１６Ｄは、剛体の、安定化ビーム材３３７４を含み、これは搭載ベース３３２０とペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｂ、３３１４Ｃ、３３１４Ｄのそれぞれの間で延びかつ、枢軸３３７４Ａを介してそれらに枢動可能に接続されている。この実施形態において、搭載ベース３３２０、ブーム材３３７０、安定化ビーム材３３７４、及びそれぞれのペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｂ、３３１４Ｃ、３３１４Ｄは協働的に、全体として四角形状を有する。また、ブーム材３３７０及び安定化ビーム材３３７４は、離間しかつ実質的に平行である。安定化ビーム材３３７４は、搭載ベース３３２０及びそれぞれのペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｂ、３３１４Ｃ、３３１４Ｄの間の別の接続を提供する。この構成において、安定化ビーム材３３７４は、それぞれのペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｂ、３３１４Ｃ、３３１４ＤをＸ軸周りの適した向きに維持する。代替的に、ペデスタル枢軸３３７０Ｂの代わりに、ブーム材３３７０とそれぞれのペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｂ、３３１４Ｃ、３３１４Ｄの間で極めて剛の接続が使用されれば、安定化ビーム材３３７４を省略することが可能だろう。
【０３０９】
図３３において、精密装置３３１０は、ペデスタル同期システム３３１８も含み、これにより、激しい振動が起きているときに、ペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｂ、３３１４Ｃ、３３１４Ｄをほぼ同時に動かし、それらが互いに衝突するのを防ぎ、ペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｂ、３３１４Ｃ、３３１４Ｄ上の部品の間の物理的な接続が損傷したり切断されたりするのを防ぐ。
【０３１０】
この実施形態において、ペデスタル同期システム３３１８は以下を含む：（１）振動発生中に、ペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｂ、３３１４Ｃ、３３１４Ｄを移動させるペデスタル移動装置３３５４（箱状に図示）、（２）ペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｂ、３３１４Ｃ、３３１４Ｄの互いの相対的な位置をモニターするペデスタル計測システム３３５６（箱状に図示）、及び（３）ペデスタル移動装置３３５４を制御するペデスタル制御システム３３５８。
【０３１１】
図３３において、ペデスタル移動装置３３５４は以下を含む：（１）第１及び第２ペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｂの間で延びかつ、それらの２つのペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｂの相対位置を調整する、１又はそれ以上の第１移動体３３５４Ａ、（２）第２及び第４ペデスタル３３１４Ｂ、３３１４Ｄの間で延びかつ、それらの２つのペデスタル３３１４Ｂ、３３１４Ｄの相対位置を調整する、１又はそれ以上の第２移動体３３５４Ｂ、（３）第３及び第４ペデスタル３３１４Ｃ、３３１４Ｄの間で延びかつ、それらの２つのペデスタル３３１４Ｃ、３３１４Ｄの相対位置を調整する、１又はそれ以上の第３移動体３３５４Ｃ、（４）第１及び第３ペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｃの間で延びかつ、それらの２つのペデスタル３３１４Ａ、３３１４Ｃの相対位置を調整する、１又はそれ以上の第４移動体３３５４Ｄ。
【０３１２】
図３４は、別の実施形態である精密装置３４１０の模式図であり、上記の図３３に示した精密装置３３１０と概ね同様である。図３４において、露光装置３４２２は、搬送機構３４２４、照明源３４２８Ａ、制御システム３４３８、流体源３４４８、及び温度制御システム３４５０が箱状に示されている。
【０３１３】
また、図３４において、（１）ペデスタル体３４１４が、第１ペデスタル３４１４Ａ、第２ペデスタル３４１４Ｂ、第３ペデスタル３４１４Ｃ、及び第４ペデスタル３４１４Ｄを含み、（２）隔離システム３３４１６が、第１隔離体３４１６Ａ、第２隔離体３４１６Ｂ、第３隔離体３４１６Ｃ、及び第４隔離体３４１６Ｄを含み、これらはペデスタル３４１４Ａ、３４１４Ｂ、３４１４Ｃ、３４１４Ｄの間での振動の伝達を抑制する。さらに、図３４において、搭載ベース３４２０が離間した一対の垂直の壁３４２０Ａ、３４２０Ｂを含む。
【０３１４】
また、図３４において、隔離機３４１６Ａ、３４１６Ｂ、３４１６Ｃ，３４１６Ｄの各々は、ラコスト型サスペンションであり、それはペデスタル３４１４Ａ、３４１４Ｂ、３４１４Ｃ、３４１４Ｄの１つを壁３４２０Ａ、３４２０Ｂの１つに接続する。この実施形態において、隔離機３４１６Ａ、３４１６Ｂ、３４１６Ｃ、３４１６Ｄの各々は以下を含む：（１）搭載ベース３４２０、及びペデスタル３４１４Ａ、３４１４Ｂ、３４１４Ｃ、３４１４Ｄの１つに接続した先端部に、枢動可能に接続した剛体ヒンジブーム３４７０、（２）搭載ベース３４２０及びブーム材３４７０の先端部に接続した弾性体３４７２、及び（３）搭載ベース３４２０及びそれぞれのペデスタル３４１４Ａ、３４１４Ｂ、３４１４Ｃ、３４１４Ｄに枢動可能に接続した安定化ビーム材３４７４。
【０３１５】
この実施形態において、弾性材３４７２は、サスペンションの作動範囲にわたり、ゼロ長スプリングと同様に機能する。より具体的には、この実施形態において、弾性体３４７２は、ピストンシリンダ３４８０、ピストン３４８２、追加的なチャンバ３４８４、シリンダコネクタ３４８５Ａ、及びピストンコネクタ３４８５Ｂを有する流体ピストン構造である。これらの部品の構成、形状、及び大きさは、弾性体３４７２の要求特性を達成するために変更可能である。
【０３１６】
ピストンシリンダ３４８０は、ピストン３４８２を受け入れ、ピストン３４８２と協働して、ピストンチャンバ３４８０Ａを作る。ピストン３４８２は、全体としてディスク状であり、ピストン３４８２はピストンシリンダ３４８０内でスライドし、これにより、ピストンチャンバ３４８０Ａのサイズが調整される。追加的に、ピストン３４８２は、ピストン３４８２をピストンシリンダ３４８０に対してシールする１又はそれ以上のシール（不図示）を有することができる。
【０３１７】
追加チャンバ３４８４は、流体導管を介して、ピストンチャンバ３４８０に流体的につながる、流体３４８４Ａの追加的な体積（小さい円として図示）を提供する。この構成において、ピストン３４８２とピストンシリンダ３４８０との間の相対移動は、ピストンチャンバ３４８０Ａ及び追加チャンバ３４８４内の流体３４８４Ａに圧力変化をもたらす。相対移動による流体３４８４Ａの圧力の変化量は、流体３４８４Ａの量と流体３４８４Ａの種類に応じて変化する。よって、追加チャンバ３４８４のサイズ、及び形状は、弾性体３４７２の性能特性を達成するように、構成できる。
【０３１８】
また、流体３４８４Ａの種類は、弾性体３４７２の性能特性を達成するように選ぶことができる。非排他的ないくつかの例において、可能な流体１０８４Ａは、空気、窒素、又はアルゴンを含む。
【０３１９】
シリンダコネクタ３４８５Ａは、ピストンシリンダ３４８０を搭載ベース３４２０に機械的に接続し、ピストンコネクタ３４８５Ｂはピストン３４８２をブーム材３４７０に機械的に接続する。非排他的な一例において、各コネクタ３４８４Ａ、３４８５Ｂは、ケーブル又は剛体ビームにできる。
【０３２０】
また、図３４において、精密装置３４１０は、ペデスタル同期システム３４１８も含み、これにより、激しい振動が生じているときに、ペデスタル３４１４Ａ、３４１４Ｂ、３４１４Ｃ、３４１４Ｄを同時に動かすことができる。本実施形態において、ペデスタル同期システム３４２５は、ペデスタルロック体３４６６、ペデスタルロック体３４６６を制御するロック制御システム３４６８、及び地震性擾乱が搭載ベース２０をまさに乱そうとしていることを示す早期警報通知信号を供給する通知システム３４６４（箱状に図示）を含む。図３４において、ペデスタルロック体３４６６は、以下を含む：（１）第１及び第２ペデスタル３４１４Ａ、３４１４Ｂの間で延びかつそれらを一緒に選択的にロックする第１ロック３４６６Ａ、（２）第２及び第４ペデスタル３４１４Ｂ、３４１４Ｄの間で延びかつそれらを一緒に選択的にロックする第２ロック３４６６Ｂ、（３）第３及び第４ペデスタル３４１４Ｃ、３４１４Ｄの間で延びかつそれらを一緒に選択的にロックする第３ロック３４６６Ｃ、及び（４）第１及び第３ペデスタル３４１４Ａ、３４１４Ｃの間で延びかつそれらを一緒に選択的にロックする第４ロック３４６６Ｄ。これらのロック３４６６Ａ−３４６６Ｄは、上記したロックと同様の構成にできる。
【０３２１】
図３５は、別の実施形態である隔離機３３５２の模式図であり、上記した隔離システムと概ね同様である。この実施形態において、隔離機３３５２は、シリンダボディ３５７０Ａ、シリンダボディ３５７０内で移動可能なピストン３５７０Ｂ、及びピストン３５７０とピストンシリンダボディ３５７０Ａの間に形成されたピストンチャンバ３５７０Ｄ内に圧縮された流体３５７０Ｃ（円として図示）を有する。流体型サスペンションである。例えば、流体３５７０Ｃは、空気又は別のガスにできる。
【０３２２】
一実施形態において、ピストン３５７０Ｂは、ペデスタル（図３５では不図示）に固定され、シリンダボディ３５７０Ａは、搭載ベース（図３５では不図示）に固定されている。代替的に、隔離機３５５２は、ピストン３５７０Ｂが搭載ベースに固定され、シリンダボディ３５７０Ａがペデスタルに固定されるように、逆にできる。
【０３２３】
図３６は、別の実施形態である隔離機３６５２の模式図であり、上記した隔離システムと概ね同様である。この実施形態において、隔離機３６５２は、ダンパ３６４３、及び弾性サスペンション３６５５（スプリングとして図示）を含み、それらは平行に接続されている。この実施形態において、ダンパ３６５３は、運動を弱めさせ、弾性体３６５５は運動の伝達を抑制する。非排他的ないくつかの例において、弾性サスペンション３６５５は、スプリング、図３５に示したような流体型サスペンション、又は上記したラコスト型サスペンションにできる。
【０３２４】
図３６において、ダンパ３６５３は、シリンダボディ３６７０Ａ、シリンダボディ３６７０Ａ内で移動可能なピストン３６７０Ｂ、及び（１）ピストン３６７０Ｂの底部とシリンダボディ３６７０Ａの間に形成される第１ピストンチャンバ３６７０Ｄ、及び（２）ピストン３６７０Ｂの頂部とシリンダボディ３６７０Ａの間に形成される第２ピストンチャンバ３６７０Ｅ、に位置する流体３６７０Ｃ（丸として図示）、を含む。チキソトロピック流体（Thixotropic fluid）、せん断薄流体（shear thinning fluid）、磁性流体、電気的レオロジー流体（electro-rheological fluid）、又は別の種類の流体にできる。流体３６７０Ｃは、低応力又は流速において、非線形な粘性、又は非常に高い粘性（又は弾性挙動）を有することができる。
【０３２５】
また、この実施形態において、運動を弱めるために、流体３６７０Ｃは、例えば、ピストン３６７０Ｂ内の１又はそれ以上のオリフィスを介して、又はピストン３６７０Ｂとシリンダボディ３６７０Ａの間の漏れシールを介して、ピストンをバイパスできる。
この構成において、ダンパ３６５３は、標準の運転中に、ピストンを固定又は保持するように作動できる。一方、地震がせん断応力を超えて生じた場合、流体が流れ、相対運動可能にする。磁性流体は、磁性流体の強さに応じて、弾性及び粘性の両方を発揮することもできる。
【０３２６】
一実施形態において、ピストン３６７０Ｂ及び弾性体３６５５の頂部は、ペデスタル（図３６では不図示）に固定され、シリンダボディ３６７０及び弾性体３６５５の底部は、搭載ベース（図３６では不図示）に固定されている。代替的に、隔離機３６１６Ａは、ピストン３６７０Ｂが搭載ベースに固定され、シリンダボディ３６７０Ａがペデスタルに固定されるように、逆にできる。
【０３２７】
図３７は、別の実施形態である隔離機３７５２の模式図であり、上記した隔離システムと概ね同様である。この実施形態において、隔離機３７５２は、シリンダボディ３７７０Ａ、及びシリンダボディ３７７０Ａ内で移動可能なピストン３７７０Ｂを含み、ピストンチャンバ３７７０Ｃを形成する。また、この実施形態において、隔離機３７５２は、制御システム３７５４によって制御される流体開放システム３７７２を含み、これにより、圧縮流体（図３７では不図示）をピストンチャンバ３７７０Ｃ内に選択的に開放する。一実施形態において、流体開放システム３７７２は、複数の即時焼成推進パッケージ（quick burning propellant package）３７７４を含み、エアバッグ型の即時焼成推進と同様にできる。
【０３２８】
また、図３７において、シリンダボディ３７７０Ａは１又はそれ以上のシリンダ開口３７７０Ｄ及びストップ３７７０Ｄを含む。シリンダ開口３７７０Ｄは、シリンダボディ３７７０Ａを通して延び、ピストンチャンバ３７７０Ｂに向かう。ストップ３７７０Ｅは、シリンダボディ３７７０Ａの内径部分に取り付けられ、ピストン３７７０Ｂと係合し、ピストン３７７０Ｂの下向きの所定の距離における軸（図３７のＺ軸）に沿った運動を抑制する。
【０３２９】
この構成において、標準的な動作中に、及び地震擾乱の前に、ピストン３７７０Ｂの運動及びペデスタルの下向きを抑制するためにピストン３７７０Ｂがストップ３７７０Ｅに対して休止する。これは、本実施形態におけるベースクランプ構造の必要を除く。その後、地震性擾乱中、制御システム３７５４は、連続的に即時焼成推進パッケージ（quick burning propellant packages）３７７４を駆動する電気信号を必要に応じて送る。例えば、各推進パッケージ３７７４は、アジカナトリウム（sodium azide）のような化学的推進材を含むことができる。この構成において、起動すると、化学的推進によって即時化学反応が生じ、窒素ガスをピストンチャンバ３７７０Ｃ内に発生させ、ピストン３７７０Ｂをピストンストップ３７７０Ｅから持ち上げる。ピストンチャンバ３７７０Ｃにガスが充満するので、シリンダ開口３７７０Ｄからそれが出る。推進パッケージ３７７４の連続的な駆動は、地震擾乱中において、ピストン３７７０Ｂに一定の圧力を与える。
【０３３０】
一実施形態において、ピストン３７７０Ｂは、ペデスタル（図３７では不図示）に固定され、シリンダボディ３７７０Ａは、搭載ベース（図３７では不図示）に固定されている。代替的に、隔離機３７５２は、ピストン３７７０Ｂが搭載ベースに固定され、シリンダボディ３７７０Ａがペデスタルに固定されるように、逆にできる。
【０３３１】
隔離システムに使用される隔離機の数は、支持されているものの特性及び隔離機の特性による。代替的に、非排他的ないくつかの実施形態において、隔離システムは、約１０、２０、３０、又は５０の離間した隔離機を含むことができる。一般に、重い漂体は、軽い漂体に比べて、より多くの隔離機を必要とする。
【０３３２】
図３８は、隔離システム３８１６の別の実施形態の模式図であり、それはペデスタル８１４と接続可能でありかつ漂体を支持するのに使用可能である。この実施形態において、隔離システム３８１６は、第２ペデスタルレベルの代わりに、第１ペデスタルレベルに固定される。また、この実施形態において、隔離システム３８１６は以下を含む：（１）Z軸に沿ってかつX及びY軸周りに隔離する複数の縦隔離補機３８１６Ａ、及び（２）X及びY軸に沿ってかつZ軸周りに隔離する１以上の横隔離補機３８１６Ｂ（図３８では１つのみ示す）。この構成において、緩衝系３８１６は、６自由度の振動を減衰させる。
【０３３３】
この実施形態において、例えば、搭載ベース３８２０Ｂは、離間した複数のビーム３８２０Ａ（図３８では１つのみ示す）のペアを含むことができ、それらはペデスタル３８１４の反対側に位置する また、縦隔離補機３８１６Ａは、隔離する弾性体３８１６Ｃと、X軸及びY軸に沿ったペデスタル８１４の移動を許容するローラ体３８１６Ｄとを含むことができる。弾性体８１６Ｃ及び横隔離補機３８１６Ｂは、１以上のスプリング、及び／又はダンパを含むことができ、上記の構成と同様にできる。
【０３３４】
図３９Ａは、ロック位置９９０Ａにおけるロック３９５２の非排他的な一実施形態を示す模式的な側面図であり、軸（例えば図３９ＡにおけるＺ軸）に沿った漂体の下方への動きを選択的に抑制する機構に使用できる。図３９Ｂは、アンロック位置３９９０Ｂにおけるロック３９５２の模式的な側面図である。
【０３３５】
この実施形態において、縦ロック３９５２は、ロックビーム３９９１と、１以上のロック補機３９９２（図３９Ａ及び３９Ｂでは１つのみ示す）とを含む。例えば、ロックビーム３９９１は、長く、概ね矩形形状のビームにできる。また、この実施形態において、ロックビーム９９１は、第１ビーム側面９９１Ａと、対向する第２ビーム側面３９９１Ｂとを含み、それらはロック補機３９９２と選択的に係合し、ロックビーム９９１に対してロック補機３９９２を選択的にロックする。この実施形態において、各ビーム側面３９９１Ａ、３９９１Ｂは、概ね平坦な面でありそれぞれZ軸（動きが抑制される軸）に実質的に平行である。追加的に、ビーム側面３９９１Ａ、３９９１Ｂの１つ又は双方は、ビーム側面３９９１Ａ、３９９１Ｂとロック補機３９９２との間の摩擦を増大させる、１以上のビーム面特性（不図示）を有する。
【０３３６】
この実施形態において、ロックビーム３９９１は、（例えば、溶接、ボルト、又は別の固定手段によって）ペデスタルに固定され、ロック補機３９９２は、（例えば、溶接、ボルト、又は別の固定手段によって）搭載ベースに固定される。代替的に、ロックビーム３９９１を搭載ベースに固定し、ロック補機３９９２をペデスタルに固定することもできる。
【０３３７】
ロック補機３９９２は、選択的にロックビーム３９９１を保持する。一実施形態において、ロック補機３９９２は、（１）ロックベース３９９４、（２）第１ビーム係合部３９９５、（３）第２ビーム係合部３９９６、（４）第１接続体３９９７、（５）第２接続体３９９８、及び（６）連絡移動体３９９９を含む。これらの部品の構成、形状、及び大きさは、ロック３９５２のロック及び開放仕様を達成するために変更可能である。また、それらの１以上の部品が任意に選択され得る。
【０３３８】
ロックベース３９９４は、ペデスタル又は搭載ベースに対して、接続されかつロック補機３９９２を固定する。一実施形態において、ロックベース３９９４は、頂部が切り取られた三角形のような形状である。
【０３３９】
ビーム係合部３９９５、３９９６は、ロック位置３９９０Ａとアンロック位置３９９０Ｂとの間で移動可能であり、ロック位置ではビーム係合部３９９５、３９９６がビーム側面３９９１Ａ、３９９２Ｂとそれぞれ係合しかつ保持し、アンロック位置３９９０Ｂでは、ビーム係合部３９９５、３９９６がビーム側面３９９１Ａ、３９９１Ｂと十分に係合せず、ロックビーム３９９４がビーム係合部３９９５、３９９６に対して自由に移動する。
【０３４０】
接続体３９９７、３９９８は、ロック位置３９９０Ａとアンロック位置３９９０Ｂとの間でビーム係合部３９９５、３９９６が移動及び枢動可能となるように、ロックベース３９９４に対してビーム係合部３９９５、３９９６を移動可能にかつ枢動可能に接続する。一実施形態において、各接続体３９９７、３９９８は、接続ビーム３９９７Ａ、３９９８Ａ（ペアごとに１つのみ示す）の２つのペアを含み、それらは概ね楕円のフラット板のような形状である。この実施形態において、接続ビーム３９９７Ａの各々は、ロックベース３９９４に最も近い端部に枢動可能に接続されるとともに、ビーム係合部３９９５、３９９６の１つの先端部に枢動可能に接続される。
【０３４１】
いくつかの実施形態において、ビーム係合部３９９５、３９９６がロックビーム３９９１を係合しているとき、（１）第１軸に沿った第１方向（図３９Ａ及び３９ＢにおけるZ軸に沿った下向き）のロックビーム３９９１の動き（又は力）によって、ビーム係合部３９９５、３９９６を互いに向かうよう促し、（２）第１軸に沿った第２方向（Z軸に沿った上向き）のロックビーム３９９１の動き（又は力）によって、ビーム係合部３９９５、３９９６を互いに離れるよう促す、ように、接続体３９９７、３９９８が方向付けられる。この構成の結果、ロック３９５２は、最小の開放力で非常に大きな荷重を支持することができる、自己保持、クイック開放メカニズムである。また、それ自身の荷重はロック配置の保持／拘束に使用される。
【０３４２】
連絡移動体３９９９は、位置３９９０Ａと３９９０Ｂの間でビーム係合部３９９５、３９９６を移動させる。一実施形態において、連絡移動体３９９９は次を含む：（１）第１ビーム係合部３９９５に接続されかつ第１ビーム係合部３９９５を位置３９９０Ａ、３９９０Ｂとロックベース３９９１の間で素早く移動させる第１移動体３９９９Ａ、（２）第２ビーム係合部３９９６に接続されかつ第２ビーム係合部３９９６を位置３９９０Ａ、３９９０Ｂとロックベース３９９１の間で素早く移動させる第２移動体３９９９Ｂ。例えば、各移動体３９９９Ａ、３９９９Ｂは、リニアモータ、ソレノイド、ロータリアクチュエータ、流体アクチュエータ、又は別の種類のアクチュエータにできる。
【０３４３】
追加的に、連絡移動体３９９９は、次を含むことができる：（１）第１ビーム係合部３９９５に接続されかつ第１ビーム側面３９９１Ａ及びロック位置３９９０Ａに対して第１ビーム係合部３９９５を向かわせる（付勢する）第１荷重３９９９Ｃ、（２）第２ビーム係合部３９９６に接続されかつ第２ビーム側面３９９１Ｂ及びロック位置３９９０Ａに対して第２ビーム係合部３９９６を向かわせる（付勢する）第２荷重３９９９Ｄ。例えば、各荷重３９９９Ｃ、３９９９Ｄは、スプリング、又は別の弾性部材にできる。
【０３４４】
図４０Ａは、ロック位置４０９０Ａにおけるロック４０５２の非排他的な別の実施形態を示す模式的な側面図であり、軸（例えば図４０ＡにおけるＺ軸）に沿った両方向への漂体の動きを選択的に抑制する図２９の機構に使用できる。図４０Ｂは、アンロック位置４０９０Ｂにおけるロック４０５２の模式的な側面図である。
【０３４５】
この実施形態において、縦ロック４０５２は、ロックビーム４０９１と、１以上のロック補機４０９２（図４０Ａ及び４０Ｂでは１つのみ示す）とを含む。この実施形態において、ロックビーム４０９１は、第１ビーム側面４０９１Ａと、対向する第２ビーム側面４０９１Ｂとを含み、それらはロック補機４０９２と選択的に係合する。
【０３４６】
一実施形態において、ロック補機４０９２は以下を含む：（１）ロックベース４０９４、（２）第１ビーム係合部４０９５のペア、（３）第２ビーム係合部４０９６のペア、（４）第１接続体４０９７のペア、（５）第２接続体４０９８のペア、（６）図３９Ａ及び３９Ｂに示しかつ上記した対応部品と同様の連絡移動体４０９９。しかし、この実施形態において、ビーム係合部４０９５、４０９６及び接続体４０９７、４０９８は、Z軸に沿った両方向の動きを選択的に抑制するように方向付けられている。
【０３４７】
非排他的なさらに別の実施形態において、各ロックは、ディスクブレーキシステムに似た構成にでき、選択的に移動ターゲットをクランプする一対のキャリパーを含むことができる。代替的に、各ロックを、異なる構成にできる。例えば、各ロックを、磁性流体（不図示）内に配置されたプランジャ（不図示）にできる。この構成において、磁性流体を通じて電流が流れないときには、プランジャは自由に動くことができる。一方、磁性流体を通じて電流が流れると、プランジャの動きが抑制される。
【０３４８】
上記したように、上記実施形態に係るフォトリソグラフィシステム（露光装置）は、添付の特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造することができる。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、すべての光学系について、光学的精度を達成するための調整が行われる。同様に、すべての機械系及び電気系について、機械的精度及び電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムからフォトリソグラフィシステムへの組み立て工程は、各サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、及び気圧回路の配管接続等を含む。この各種サブシステムからフォトリソグラフィシステムへの組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムを用いてフォトリソグラフィシステムが組み立てられると、フォトリソグラフィシステム全体としてのすべての精度を確保するための、総合調整が行われる。なお、露光システムの製造は温度及び湿度等が管理されたクリーンルーム内で行うことが望ましい。
【０３４９】
半導体デバイスは、図４１Ａに概略的に示すプロセスによって、上記のシステムを用いて製造される。ステップ４１０１において、デバイスの機能及び特性の設計が行われる。次に、ステップ４１０２において、前記設計ステップに従ったパターンを有するマスク（レチクル）が設計され、平行したステップ４１０３において、シリコン材料からウエハが製造される。ステップ４１０４において、本発明のいくつかの実施形態に係る上記のフォトリソグラフィシステムによって、ステップ４１０２で設計されたマスクパターンが、ステップ４１０３からのウエハ上に露光される。ステップ４１０５において、半導体デバイスが組み立てられ（ダイシング工程、ボンティング工程、及びパッケージング工程を含む）、最後に、ステップ４１０６においてデバイスが検査される。
【０３５０】
図４１Ｂは、半導体デバイスの製造の場合における上記のステップ４１０４の詳細なフローの一例を示す。図４１Ｂにおいて、ステップ４１１１（酸化工程）において、ウエハ表面が酸化される。ステップ４１１２（ＣＶＤ工程）において、ウエハ表面に絶縁膜が形成される。ステップ４１１３（電極形成工程）において、蒸着によってウエハ上に電極が形成される。ステップ４１１４（イオン打込み工程）において、ウエハにイオンが打ち込まれる。以上のステップ４１１１〜４１１４は、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択される。
【０３５１】
ウエハ処理の各段階では、上記の前処理工程が完了すると、続いて後処理工程が実行される。後処理工程において、まず、ステップ４１１５（フォトレジすと形成工程）において、フォトレジストがウエハに塗布される。次に、ステップ４１１６（露光工程）において、上記の露光装置を用いてマスク（レチクル）の回路パターンがウエハに転写される。その後、ステップ４１１７（現像工程）において、露光された基板が現像され、ステップ４１１８（エッチング工程）において、レジストが残存している部分以外の部分（露光された材料表面）がエッチングにより取り除かれる。ステップ４１１９（フォトレジスト除去工程）において、エッチング後の不要なフォトレジストが取り除かれる。こうした前処理工程と後処理工程との繰り返しによって、多数の回路パターンが形成される。
【０３５２】
ここでは、前述した目的を達成し効果を得るための詳細な説明について可能な限り開示しており、それは本発明の好ましい現時点での実施形態の単なる具体例であって、添付されたクレーム以外に、構造や構成の詳細についてここで示したものに限定する意図はない。
例えば、ここで開示されたサスペンションは、他の地震性隔離又は振動隔離システムに使用可能である。より具体的には、サスペンションは、重力に逆らって重い物体の動きを制御するために、電磁気アクチュエータのようなアクチュエータが使用される用途、及び／又はアクティブ自動サスペンションに使用できる。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
搭載ベースに支持された、基板を製造するための精密装置であって、
前記基板を製造するように構成された精密製造機と、
前記精密製造機の少なくとも一部を支持するペデスタル体と、
前記搭載ベースと前記ペデスタル体との間での動きの伝達を抑制する緩衝系であって、（１）前記搭載ベース及び前記ペデスタル体につながった第１ブーム材であり、前記搭載ベース及び前記ペデスタル体の少なくとも１つに回転可能につながった前記第１ブーム材と、（２）前記第１ブーム材及び前記ペデスタル体の少なくとも１つと前記搭載ベースとの間につながった第１弾性体とを備える、前記緩衝系と、
を備えた精密装置。
【請求項２】
前記第１弾性体は、前記弾性体の作動範囲においてゼロ長スプリングと同様に機能する、請求項１に記載の精密装置。
【請求項３】
前記第１弾性体は、ゼロ長スプリングである、請求項１に記載の精密装置。
【請求項４】
前記第１弾性体は、ピストンシリンダと、前記ピストンシリンダに対して移動可能なピストンとを含む、請求項１に記載の精密装置。
【請求項５】
前記緩衝系は、（１）前記搭載ベース及び前記ペデスタル体につながった第２ブーム材であり、前記搭載ベース及び前記ペデスタル体の少なくとも１つに枢動可能につながった前記第２ブーム材と、（２）前記第２ブーム材及び前記ペデスタル体の少なくとも１つと搭載ベースとの間につながった第２弾性体と、を備える、請求項１に記載の精密装置。
【請求項６】
各弾性部材が作動範囲においてゼロ長スプリングと同様に機能する、請求項５に記載の精密装置。
【請求項７】
前記緩衝系は、負の剛性を有する、請求項１に記載の精密装置。
【請求項８】
前記緩衝系は、前記第１弾性体を前記搭載ベースに移動可能につなぐ移動マウントと、前記ブームを前記搭載ベースに枢動可能につなぐブームコネクタと、前記移動マウントを前記ブームコネクタから離した状態に維持するマウント弾性体と、を備える、請求項７に記載の精密装置。
【請求項９】
前記緩衝系は、実質的にゼロ剛性を有する、請求項１に記載の精密装置。
【請求項１０】
前記緩衝系は、前記第１ブームにつながったガーデンゲート型構造を有する、請求項１に記載の精密装置。
【請求項１１】
前記ガーデンゲート型構造は、前記第１ブームと前記ペデスタル体との間で延びかつ前記第１ブームをヒンジ動作可能に前記ペデスタル体につなぐ、請求項１に記載の精密装置。
【請求項１２】
前記ペデスタル体は、第１ペデスタルとそれから離間した第２ペデスタルとを有し、
前記精密製造機は、前記第１ペデスタルに固定されて第１漂体をなす少なくとも１つの第１部品と、前記第２ペデスタルに固定されて第２漂体をなす少なくとも１つの第２部品と、を有し、
前記緩衝系は、（１）前記搭載ベースと前記第１ペデスタルとの間につながった第１隔離体であり、前記搭載ベースと前記第１ペデスタルとの間での前記動きの伝達を抑制する前記第１隔離体と、（２）前記搭載ベースと前記第２ペデスタルとの間につながった第２隔離体であり、前記搭載ベースと前記第２ペデスタルとの間での前記動きの伝達を抑制する前記第２隔離体と、を有する、請求項１に記載の精密装置。
【請求項１３】
前記第１漂体の振動の第１モードが前記第２漂体の振動の第１モードとほぼ等しくなるように、前記隔離体の少なくとも１つの剛性が調整される、請求項１２に記載の精密装置。
【請求項１４】
地震性擾乱中に、前記第１ペデスタルを前記第２ペデスタルと実質的に一緒に移動させるペデスタル同期システムをさらに備える、請求項１２に記載の精密装置。
【請求項１５】
前記ペデスタル同期システムは、前記第１ペデスタルを前記第２ペデスタルに選択的にロックするペデスタルロック構造を含む、請求項１４に記載の精密装置。
【請求項１６】
前記ペデスタル同期システムは、振動発生中に、前記第１ペデスタルを前記第２ペデスタルと実質的に一緒に移動させるペデスタル移動装置を含む、請求項１４に記載の精密装置。
【請求項１７】
前記精密製造装置は、前記基板に前記像を転写するのに適用される露光装置であり、
前記露光装置は、複数の第１レベル部品と、複数の第２レベル部品を含み、
前記ペデスタル体は、互いに固定されかつ離間した、第１ペデスタルレベル及び第２ペデスタルレベルを含み、
前記ペデスタルレベルのうちの一方の動きによって他方のペデスタルレベルが動き、
前記第１ペデスタルレベルは前記第１レベル部品を支持し、
前記第２ペデスタルレベルは前記第２レベル部品を支持し、
前記ペデスタルレベルの一方が少なくとも部分的に前記ペデスタルレベルの他方の上方に位置する、請求項１に記載の精密装置。
【請求項１８】
第１軸に沿った第１方向に、前記ペデスタル体を前記搭載ベースに選択的に取り付けるロック体をさらに備え、
前記ロック体は、（１）前記ペデスタル体及び前記搭載ベースの１つに接続され、第１ビーム側及びその反対の第２ビーム側を含むロックビーム材と、（２）前記ロックビーム材を選択的に保持するロック補機とを有し、
前記ロック補機は、（１）前記ペデスタル体及び搭載ベースの１つと接続されるロックベースと、（２）第１ビーム係合部であり、前記第１ビーム係合部が前記第１ビーム側と係合するロック位置と、前記第１ビーム係合部に対して前記第１ビーム側が移動するのを前記第１ビーム係合部が許容するアンロック位置との間で移動可能である前記第１ビーム係合部と、（３）第２ビーム係合部であり、前記第２ビーム係合部が前記第２ビーム側と係合するロック位置と、前記第２ビーム係合部に対して前記第２ビーム側が移動するのを前記第２ビーム係合部が許容するアンロック位置との間で移動可能である前記第２ビーム係合部と、（４）前記第１ビーム係合部が前記ロック位置と前記アンロック位置の間で移動できるように、前記第１ビーム係合部を前記ロックベースに移動可能に接続する第１接続体と、（５）前記第２ビーム係合部が前記ロック位置と前記アンロック位置の間で移動できるように、前記第２ビーム係合部を前記ロックベースに移動可能に接続する第２接続体と、を有し、
前記ビーム係合部が前記ロックベースと係合するときに、前記ロックビームの前記第１軸に沿った前記第１方向の動きによって前記ビーム係合部が互いに向かうように促すように、前記接続体が方向付けられる、請求項１に記載の精密装置。
【請求項１９】
前記精密製造装置は、像を前記基板に転写し、前記ペデスタル体に搭載される露光装置を含む、請求項１に記載の精密装置。
【請求項２０】
基板を用意する工程と、請求項１９の前記精密装置を用いて像を前記基板に転写する工程と、を含む、ウエハの形成方法。
【請求項２１】
第１物体と第２物体との間での動きの伝達を抑制するための隔離システムであって、
前記第１物体が搭載されるペデスタル体と、
前記ペデスタル体及び前記第２物体に接続されるとともに、前記ペデスタル体を実質的にゼロ剛性で支持する緩衝体と、
を備える隔離システム。
【請求項２２】
前記緩衝体は、正剛性の弾性メカニズムと負剛性の弾性メカニズムを含む、請求項２１に記載の隔離システム。
【請求項２３】
前記負剛性の弾性メカニズムは、（１）前記第１物体に固定されるブームコネクタと、（２）前記ブームコネクタから枢動可能に張り出し、前記第２物体に接続される、ブーム材と、（３）前記ブームコネクタに対して移動可能な移動マウントと、（４）前記移動マウントと前記ブーム材との間でつながったブーム弾性体と、を含む、請求項２１に記載の隔離システム。
【請求項２４】
前記ブーム弾性体は、前記第１ブーム弾性体の作動範囲において、ゼロ長スプリングと実質的に同様に機能する、請求項２３に記載の隔離システム。
【請求項２５】
前記移動マウントを前記ブームコネクタから離間した状態に維持するマウント弾性体をさらに備える、請求項２４に記載の隔離システム。
【請求項２６】
前記緩衝系は、（１）前記第１物体に接続される第１マウントと、（２）前記第２物体に接続される第２マウントと、（３）前記第１マウントの動きが前記第２マウントに伝わるのを抑制するとともに、前記第１マウントから枢動可能に張り出した第１ブーム材と、前記第１マウントと前記第１ブーム材との間で接続された第１弾性材と、を有する、第１補材と、（４）前記第１マウントの動きが前記第２マウントに伝わるのを抑制するとともに、前記マウントの１つから枢動可能に張り出した第２ブーム材と、前記マウントの１つと前記第２ブーム材との間で接続された第２弾性材と、を有する、第２補材と、を含む、請求項２１に記載の隔離システム。
【請求項２７】
前記第１ブーム材は、前記第２マウントに機械的に接続されたブーム先端部を有し、前記第２ブーム材は、枢動可能に前記第１マウントに接続され、前記第２弾性材は、前記第１マウントと前記第ブーム材との間で接続され、前記弾性材のそれぞれは、作動範囲にわたってゼロ長スプリングとして機能し、前記補材のそれぞれは、ラコスト型システムであり、前記第１及び第２補材は、平行に配置される、請求項２６に記載の隔離システム。
【請求項２８】
前記緩衝体は、（１）前記第１物体に取り付けられた第１マウントと、（２）前記第２物体に取り付けられた第１支持部と、（３）前記第１マウントを前記支持部に接続するとともに、第１軸に沿いかつ第２軸に沿った動きの伝達を抑制し、ラコスト型システム及びガーデンゲート型構造を規定するメカニズムと、を含む、請求項２１に記載の隔離システム。
【請求項２９】
ラコスト型システムは、前記第１マウントに取り付けられ、前記ガーデンゲート型構造は、ラコスト型システムと前記第１支持部との間で延びかつそれらをヒンジ動作可能に接続する、請求項２８に記載の隔離システム。
【請求項３０】
前記ペデスタル体は、第１ペデスタル及び第２ペデスタルを有し、前記緩衝体は、前記搭載ベースと前記第１ペデスタルとの間で接続された第１サスペンションと、前記搭載ベースと前記第２ペデスタルとの間で接続された第２サスペンションとを有し、前記隔離システムは、擾乱が所定の許容範囲を超えている間、前記第１ペデスタルを前記第２ペデスタルと実施的に一緒に移動させるペデスタル同期システムをさらに備える、請求項２１に記載の隔離システム。
【請求項３１】
前記ペデスタル同期システムは、前記第１ペデスタルを前記第２ペデスタルに選択的にロックするペデスタルロック体を有する、請求項３０に記載の隔離システム。
【請求項３２】
前記ペデスタル同期システムは、激しい出来事が生じた間に、前記第１ペデスタルを前記第２ペデスタルと実質的に一緒に移動させるペデスタル移動装置を有する、請求項３０に記載の隔離システム。
【請求項３３】
前記第１物体は、像を前記基板に転写するとともに、前記ペデスタル体に搭載される露光装置である、請求項２１に記載の精密装置。
【請求項３４】
第１物体と第２物体との間で動きの伝達を抑制するための方法であって、
ペデスタル体に前記第１物体を搭載する工程と、
前記ペデスタル体を実質的にゼロ剛性で支持する緩衝体を用いて、前記ペデスタル体を前記第２物体に接続する工程と、を含む方法。
【請求項３５】
前記接続する工程は、正剛性の弾性メカニズムを用いて前記ペデスタル体を前記第２物体に接続する工程と、負剛性の弾性メカニズムを用いて前記ペデスタル体を前記第２物体に接続する工程と、を含む、請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
前記接続する工程は、（１）第１マウントを前記第１物体に接続する工程と、（２）第２マウントを前記第２物体に接続する工程と、（３）第１補材を用いて、前記第１マウントの動きが前記第２マウントに伝わるのを抑制する工程であり、前記第１補材は、前記第１マウントから枢動可能に張り出した第１ブーム材と前記第１マウントと前記第１ブーム材との間で接続された第１弾性材とを有し、（４）第２補材を用いて、前記第１マウントの動きが前記第２マウントに伝わるのを抑制する工程であり、前記第２弾性補材は、前記マウントの１つから枢動可能に張り出した第２ブーム材と前記マウントの１つと前記第２ブーム材との間で接続された第２弾性材とを有する、前記工程と、を含む、請求項３４に記載の方法。
【請求項３７】
前記接続する工程は、（１）第１マウントを前記第１物体に取り付ける工程と、（２）第１支持部を前記第２物体に取り付ける工程と、（３）第１軸に沿ってかつ第２軸に沿った動きを抑制しかつラコスト型システム及びガーデンゲート型構造を規定するメカニズムを用いて、前記第１マウントを前記第１支持部に取り付ける工程と、を有する、請求項３４に記載の方法。
【請求項３８】
前記ペデスタル体は、第１ペデスタル及び第２ペデスタルを有し、前記緩衝体は、前記搭載ベースと前記第１ペデスタルとの間で接続された第１サスペンションと、前記搭載ベースと前記第２ペデスタルとの間で接続された第２サスペンションとを有し、前記方法は、ペデスタル同期システムを用いて、擾乱が所定の許容範囲を超えている間、前記第１ペデスタルを前記第２ペデスタルと実施的に一緒に移動させる工程を含む、請求項３４に記載の方法。
【請求項３９】
第１物体と第２物体との間の動きの伝達を抑制する弾性メカニズムであって、
前記第１物体に固定されるブームコネクタと、
前記ブームコネクタから枢動可能に張り出し、前記第２物体に接続されるブーム材と、
前記ブームコネクタに対して移動可能である移動マウントと、
前記移動マウントと前記ブームとの間で接続された第１ブーム弾性体と、を備える弾性メカニズム。

【図１】

【図２Ａ】

【図２Ｂ】

【図３Ａ】

【図３Ｂ】

【図３Ｃ】

【図３Ｄ】

【図３Ｅ】

【図３Ｆ】

【図３Ｇ】

【図３Ｈ】

【図４】

【図５】

【図６】

【図７】

【図８】

【図９】

【図１０】

【図１１】

【図１２】

【図１３Ａ】

【図１３Ｂ】

【図１３Ｃ】

【図１４Ａ】

【図１４Ｂ】

【図１４Ｃ】

【図１５Ａ】

【図１５Ｂ】

【図１６Ａ】

【図１６Ｂ】

【図１７Ａ】

【図１７Ｂ】

【図１８】

【図１９】

【図２０Ａ】

【図２０Ｂ】

【図２１Ａ】

【図２１Ｂ】

【図２２Ａ】

【図２２Ｂ】

【図２２Ｃ】

【図２３】

【図２４】

【図２５Ａ】

【図２５Ｂ】

【図２５Ｃ】

【図２６Ａ】

【図２６Ｂ】

【図２６Ｃ】

【図２６Ｄ】

【図２６Ｅ】

【図２６Ｆ】

【図２７】

【図２８】

【図２９】

【図３０】

【図３１】

【図３２】

【図３３】

【図３４】

【図３５】

【図３６】

【図３７】

【図３８】

【図３９Ａ】

【図３９Ｂ】

【図４０Ａ】

【図４０Ｂ】

【図４１Ａ】

【図４１Ｂ】

【公表番号】特表２０１２−５０２４４８（Ｐ２０１２−５０２４４８Ａ）
【公表日】平成２４年１月２６日（２０１２．１．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５１０５９９（Ｐ２０１１−５１０５９９）
【出願日】平成２１年９月３日（２００９．９．３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００９／０６５７８５
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／０２７１００
【国際公開日】平成２２年３月１１日（２０１０．３．１１）
【出願人】（０００００４１１２）株式会社ニコン (12,601)
【Ｆターム（参考）】