【課題】真空槽の外部に動力源を配置して、直線移動力や回転移動力を真空槽内に導入するときに、オーリングの変形によってリークが発生することの無い真空装置を提供する。
【解決手段】真空槽２１の開口２２に筒状部材１１を設け、筒状部材１１と開口２２に挿通した動力伝達軸１２の先端を真空槽２１内に挿入し、根本を真空槽２１の外部に配置された動力源１６に取り付ける。筒状部材１１内周面の噴出装置１７からベアリングガスを噴出し、筒状部材１１と動力伝達軸１２とを非接触にして動力源１６を動作させて動力伝達軸１２を直線移動と回転移動させる。噴出装置１７と開口２２との間に複数の排気溝を設け、真空槽２１に近い排気溝を最も大きな排気コンダクタンスで、真空排気装置１５に接続する。開口２２に最近の排気溝内の圧力を低くすることができ、真空槽２１内を高真空雰囲気にすることができる。 （もっと読む）

【課題】窒化リン酸リチウム膜の成膜速度を高めつつ、該窒化リン酸リチウム膜における膜特性の安定性を高めることの可能な窒化リン酸リチウム膜の成膜方法、該方法を用いて窒化リン酸リチウム膜を成膜する装置、及び該方法によって成膜された窒化リン酸リチウム膜を提供する。
【解決手段】
窒素とアルゴンとが含まれる真空槽１１内でリン酸リチウムのターゲット１３をスパッタして窒化リン酸リチウム膜を基板Ｓに成膜する。スパッタ装置のターゲット１３には、インジウム層１４を介して銅からなるバッキングプレート１５が接合され、バッキングプレート１５には、インジウム層１４を温調する冷却水が循環される。スパッタ時には、真空槽１１内の圧力を０．２５Ｐａ以上１．０Ｐａ以下とし、ターゲット１３に３．５Ｗ／ｃｍ^２以上５．７Ｗ／ｃｍ^２以下の電力密度で高周波電力を供給し、インジウム層１４の温度を２０℃以上６０℃以下とする。 （もっと読む）

【課題】配線間の間隙又は配線の下面と基板の上面との間隙に、絶縁膜を埋設することが困難であった。
【解決手段】半導体装置１００の製造方法は、次の工程を含む。すなわち、基板上に絶縁層（絶縁層１０６）を形成する工程。絶縁層１０６の一部を選択的に除去して凹部（配線溝１０７及び配線溝１１０）を形成し、当該凹部内にバリアメタル膜１１２と金属膜１１４とをこの順で埋め込むことにより配線（配線１１５ａ、１１５ｂ）を形成する工程。配線（配線１１５ａ、１１５ｂ）を残しつつ、絶縁層１０６を除去する工程。絶縁層１０６を除去する前記工程後、下記の溶液を用いて、配線（配線１１５ａ、１１５ｂ）の周囲を埋設する層間絶縁層１１８を形成する工程。溶液は、シラン化合物と、界面活性剤からなるポロジェンと、シラン化合物の溶質濃度の増加に応じて、アルコールと比較して、シラン化合物を表面に析出させやすく、かつ増粘しにくいシーター溶媒（アルコール及び水を除く）と、を含むことにより特定される。 （もっと読む）

【課題】基材表面に金属微粒子分散液を比較的厚く塗布しても、焼成時にクラックが発生することを防止できる金属微粒子分散液を提供する。
【解決手段】本発明の金属微粒子分散液は、脂肪酸と脂肪族アミンとで表面が被覆された金属微粒子を、脂肪酸誘導体が添加された疎水性溶媒中に分散させてなる。脂肪酸誘導体の濃度は０．１重量％〜５重量％の範囲内であることが好ましい。脂肪酸誘導体は脂肪酸エステルであることが好ましく、脂肪酸エステルは脂肪酸メチルエステル又は脂肪酸エチルエステルであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】駆動アーム部材に関節部を介して従動アーム部材３２_１，３２_２を連結して成る屈伸自在な一対のアームと、基板を支持するハンド４とを備え、両アームの従動アーム部材の先端に夫々ギヤ５_１，５_２が固定され、両ギヤを互いに噛合させた状態でハンドに軸支した基板搬送ロボットにおいて、ギヤの摩耗を生じてもバックラッシュを適正範囲に簡単に調整できるようにする。
【解決手段】各ギヤ５_１，５_２をハンド４に軸支する各支軸６_１，６_２を、該各支軸６_１，６_２に対し偏心した偏心部６ａを介してハンド４に回動調整自在に連結する。また、偏心部６ａの外端面に、偏心部６ａの回動角を視認するためのマーク６ｂを付す。 （もっと読む）

【課題】 シャッター部材と可動自在の紫外線吸収フィルターとを有する紫外線照射装置で用いる紫外線フィルター機構及びこの機構を有する紫外線照射装置の提供。
【解決手段】 被処理基材に対向して紫外線照射光源を備えた紫外線照射装置に適用する紫外線フィルター機構であって、被処理基材と紫外線光源との間に、開口部を有するシャッター部材１３と、開口部を有する少なくとも１層の紫外線吸収フィルター部材１４とが設けられ、さらにフィルター部材がシャッター部材に対して平行に可動できるように構成されている。この紫外線フィルター機構を備えている紫外線照射装置。 （もっと読む）

【課題】金属微粒子を安定に生成でき、金属微粒子が孤立状態で分散した分散液を焼成するときに分散液の用途に応じた焼成温度で焼成可能な金属微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】直鎖又は分岐構造を有する炭素数６〜１８の第１のカルボン酸で表面が覆われたＡｕ微粒子を生成する。生成されたＡｕ微粒子を、直鎖又は分岐構造を有する炭素数４〜２２の第２のカルボン酸と混合し、Ａｕ微粒子の表面を覆う第１のカルボン酸を第２のカルボン酸に置換する。表面が第２のカルボン酸で覆われたＡｕ微粒子を、直鎖又は分岐構造を有する炭素数４〜２２の１級アミンと混合し、表面が第２のカルボン酸及び該１級アミンで覆われたＡｕ微粒子を得る。 （もっと読む）

【課題】固体表面に固定化されたリガンドに対する試料中の結合分子の吸着量の測定により試料中の吸着分子の濃度を測定する方法において、測定環境の温度変化による影響を補正する温度補正を伴うバイオセンサーによる測定方法を提供する。
【解決手段】測定槽内において固体支持体表面に固定されたリガンドに相互作用可能な試料中の標的物質の吸着量を測定することによって標的物質の濃度を測定する方法であって、測定中に測定槽近傍又は測定槽内の溶液の環境温度を計測し、前記環境温度に基づいて測定結果を補正することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 真空処理装置の処理室内において、マスクに対する基板のアライメントのために両者の位置関係を確実に検出できる簡単な構成で低コストのアライメント装置を提供する。
【解決手段】 真空チャンバ１内で相互に対向配置される基板Ｗとこの基板に対する処理範囲を制限するマスクＷとのいずれか一方を保持する固定の保持手段５と、その他方を保持する、固定の保持手段に対して相対移動可能な可動の保持手段２とを備える。固定の保持手段内に、一端側が可動の保持手段で保持された基板またはマスクのいずれか他方に向けて開口し、その他端側が処理室を画成する壁面に向けて開口する光路５２Ｒ，５２Ｌが形成され、光路の他端側から光を入射する光源６１と、この他端側から光路を通して他方を撮像する撮像手段６２と、撮像手段からの出力に応じて可動の保持手段を相対移動させてアライメントを行う制御手段Ｃとを更に備える。 （もっと読む）

【課題】筐体内にてシートを移動させつつ、該シートにおける温度の面内均一性を高めることの可能な加熱処理装置、及び該加熱処理装置を備えるシート表面処理装置を提供する。
【解決手段】第１成膜装置１３、第２成膜装置１４、及び第３成膜装置１５は、筐体内を通過するシートＳを該筐体内にて加熱する加熱処理装置を備えている。加熱処理装置は、シートＳに対向する加熱面を有し、加熱面をシートＳに面接触させて加熱面にシートＳを追従させる往動と、加熱面をシートＳから離して追従の開始位置に加熱面を戻す復動とを筐体内で交互に繰り返すホットプレートＨ１，Ｈ２を備えている。また、加熱処理装置は、ホットプレートＨ１，Ｈ２に設けられ、往動にてシートＳを加熱面に吸着し、復動の前に該吸着を解除する吸着部を備えている。 （もっと読む）