【課題】メンテナンス時間を削減可能にして薄膜の生産性を向上した成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】触媒ＣＶＤチャンバ１３は、成膜位置にある基板Ｓの面方向に沿って延びる退避室３１を搭載し、退避室３１に収容されたホルダ３３を昇降させて各触媒線３５をそれぞれ成膜室２１と退避室３１とに選択的に配置する。そして、成膜室２１に成膜ガスを供給する場合には、各触媒線３５をそれぞれ成膜室２１へ移動させ、成膜室２１にクリーニングガスを供給する場合には、各触媒線３５をそれぞれ退避室３１へ移動させ、ゲートバルブＧＶ２を閉じる。 （もっと読む）

【課題】小電流密度の電源装置で、かつ簡易な電解液の冷却機構であっても、マイクロアーク酸化処理によって大きな面積の被処理体に対して段階的に酸化被膜を形成することが可能な表面処理方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム板（被処理体）１１の被処理面１１ａを、段階的に酸化処理する際の処理回数に合わせて、複数の処理区画α，β，γを設定する。この処理区画α，β，γのそれぞれの境界線１２ａ，１２ｂに沿って、所定の幅でシリコンからなるマスク材１３ａ，１３ｂを塗布する。この後、マスク材１３ａ，１３ｂに電解液の液面が位置するようにして、マイクロアーク酸化処理を行う。 （もっと読む）

【課題】固相担体表面へのプローブ物質、検出対象の生体関連物質の吸着が抑制可能な生体関連物質検出用センサ及びその製造方法の提供。
【解決手段】液体試料中の生体関連物質を検出するためのセンサであって、前記生体関連物質と特異的に相互作用するプローブ物質が固相担体表面の所定領域に固定化され、該固定化領域以外の少なくとも前記液体試料が接触し得る前記固相担体表面が撥液処理層で被覆されており、該撥液処理層には下記一般式（１）で表されるフッ素含有化合物が含まれる生体関連物質検出用センサ。
［化１］
（もっと読む）

【課題】メタルキャップ層の信頼性と生産性を向上させた半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置を提供する。
【解決手段】成膜チャンバ４０Ｄの内部空間Ｓに吸着期間の間だけＺｒ（ＢＨ_４）_４を導入した。そして、シリコン基板２の表面、すなわち第２層間絶縁膜の表面及び第１配線の表面に、あるいはハードマスクの表面及び第２配線の表面にＺｒ（ＢＨ_４）_４を吸着させ、吸着分子からなる単分子層を形成した。また、吸着期間の経過後、照射管４７の内部に改質期間の間だけマイクロ波を照射し、プラズマ化したＨ_２を、すなわち水素活性種をシリコン基板２の表面に供給した。そして、Ｚｒ（ＢＨ_４）_４の供給と、水素活性種の供給と、を交互に繰り返した。 （もっと読む）

【要 約】
【課題】ターゲットの使用効率を向上させる。
【解決手段】
長方形の第一、第二のターゲット２１ａ，２１ｂの裏面に、大きさが異なる第一、第二のマグネトロン磁石装置２０₁，２０₂を周回移動させ、四本のエロージョン領域が形成されるようにする。第一、第二のマグネトロン磁石装置２０₁，２０₂が第一、第二のターゲット２１ａ，２１ｂの短辺を横切って、裏面位置に出入りするようにすると、エロージョン領域は長辺に沿った直線状になり、広い面積がスパッタリングされる。 （もっと読む）

【課題】 基板Ｓへのインクの塗布に先立って、待機位置で各塗布ヘッド３からの滴下速度を調節する際に、吐出不能または吐出不良が生じている塗布ノズルがあれば、その都度回復動作を行うことで、調節時間の実質的な短縮が可能で吐出調節精度の高いインクジェット式塗布装置の吐出準備方法を提供する。
【解決手段】 複数個の塗布ヘッド３に対しインクタンク５からインクを供給し、各塗布ヘッドに設けた圧電素子３５に所定の駆動パルス電圧を印加して塗布ヘッドからインクをそれぞれ滴下させて当該インクの滴下速度を検出し、塗布ヘッドからのインクの滴下速度が所定の範囲に含まれるように全塗布ヘッドの圧電素子への印加電圧を順次調節する。そのとき、滴下速度が所定の範囲に含まれないと、その塗布ヘッドの圧電素子に印加し得る最大駆動電圧及び最大駆動周波数のうち少なくとも一方で当該圧電素子に駆動パルス電圧を印加し、吐出の回復動作を行う。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で構造膜を加熱して構造膜の結晶構造をに確実に変換でき、かつ生産性に優れたレーザーアニール装置を提供する。
【解決手段】ガスシャワーヘッド１３は、全体が例えばアルミニウム合金等で形成された筐体１４からなる。そして、レーザー光Ｒを入射させる入射開口２１と、レーザー光Ｒを基板１に向けて出射させる出射開口２２との間を結ぶ中空のレーザー導光路２３が形成されている。第一噴射口２６よりも入射開口２１寄り、即ち上傾斜部２４の一部には、シールドガス導入部を構成する第二噴射口２７が形成されている。 （もっと読む）

【要 約】
【課題】欠陥層を除去できる低コストの技術を提供する。
【解決手段】反応室６にバッファータンク３５を接続し、固体ＸｅＦ₂が配置されたガスボンベ３１を加熱して発生させたエッチングガスでバッファータンク３５を充填し、反応室６とバッファータンク３５を接続して反応室６内をエッチングガスで充満させ、プラズマを発生させずにシリコン基板１１表面の欠陥層１３をエッチング除去する。バッファータンク３５により、固体ＸｅＦ₂からのエッチングガス発生速度が遅くても、待ち時間を発生させないで済む。バッファータンク３５を昇温させておき、バッファータンク３５の内壁に固体ＸｅＦ₂が析出しないようにしておくとよい。 （もっと読む）

【課題】 有機溶剤を用いて保護膜を形成しても樹脂製基材が侵されることがない保護膜で保護された金属装飾膜を備えた樹脂製基材及び樹脂製基材への金属装飾膜の積層方法を提供する。
【解決手段】 保護膜で保護された金属装飾膜を樹脂製基材に積層する方法であって、前記樹脂製基材上に、蒸着重合法による高分子膜と、金属装飾膜とを積層した後、有機溶剤を用いて保護膜を積層することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 不純物等の混入を防止しつつナノワイヤーを簡便に製造することのできるナノワイヤーの製造方法を提供すること。
【解決手段】 本発明に係るナノワイヤーの製造方法は、基板１上にＺｎを付着させてＺｎ薄膜２を形成する工程と、Ｚｎ薄膜２の表面側を酸化によりＺｎＯとすることによって、基板１上にＺｎ層２ｂ及びＺｎＯ層２ａを形成する工程と、ＺｎＯ層２ａを、Ｏ_２を含みＺｎの融点よりも高くＺｎＯの融点よりも低い温度の大気に曝すことによって、ＺｎＯ層２ａの粒界にＺｎＯの核４を形成してこの核４から大気中に延びるナノワイヤー５を成長させる工程とを含む。 （もっと読む）