【課題】ヒドロシリル化により熱架橋可能なシリコーン組成物、それらの製造方法、並びにそれらの架橋可能な組成物の使用。
【解決手段】付加架橋性シリコーン組成物は、・それぞれ少なくとも１つの化合物（Ａ）、（Ｂ）、（Ｄ）、（Ｋ）及び（Ｌ）、・それぞれ少なくとも１つの化合物（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｋ）及び（Ｌ）及び・それぞれ少なくとも１つの化合物（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｋ）及び（Ｌ）を含む群から選択される。 （もっと読む）

【課題】先行技術を改善し、特にシリコーン被覆及びシリコーン成形品をできる限り迅速に製造すること。
【解決手段】一般式（１）のポリオルガノシロキサン（Ａ）１分子当たり少なくとも２個のＳｉＨ官能基を含有する有機ケイ素化合物（Ｂ）及び２００〜５００ｎｍの光により活性化可能な触媒である白金のシクロペンタジエニル錯体（Ｃ）を含有する光により架橋可能なシリコーン混合物を適用し、その適用前又は適用後に４０℃〜２５０℃に加熱し、その後で、前記適用したシリコーン混合物に２００〜５００ｎｍの光を照射する、シリコーン被覆及びシリコーン成形品の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、シリル末端化されたポリマーを含有する有機ケイ素化合物ベースの架橋可能な組成物、当該組成物の製造方法、当該組成物から製造される成形体、並びに当該組成物の部材接着のための使用に関し、ここで前記組成物は、（Ａ）一般式−Ｌ−ＣＲ₂−Ｓｉ−Ｒ²_3-x（ＯＲ¹）_x （１）の末端基を少なくとも１つ有するポリマー、（Ｂ）硬化触媒、（Ｃ）アミノアルキルアルコキシシラン、及び／又はその部分加水分解物、及び（Ｄ）無水コハク酸含有ポリオレフィンを含む。 （もっと読む）

第１成分（Ｋ１）及び第２成分（Ｋ２）を有する二成分系接着材料又は封止材料（Ｋ）であって、前記第１成分（Ｋ１）が、一般式（ＩＩ）−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−（ＣＨ₂）_y−ＳｉＲ²_3-x（ＯＲ¹）_x［式中、Ｒ¹及びＲ²は相互に独立して１〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基、又は全部で２〜２０個の炭素原子を有するω−オキサアルキルアルキル基であり、xは２又は３であり、ｙは１〜１０の数である］の末端基を有するシラン末端プレポリマー（Ａ）を含み、かつ前記第２成分（Ｋ２）が水を含み、ただし、すべてのプレポリマー分子（Ａ）の少なくとも５０％が、プレポリマー鎖の主鎖にさらなるウレタン単位又は尿素単位を有さない、前記二成分系接着材料又は封止材料（Ｋ）。 （もっと読む）

本発明は、有機ケイ素化合物の製造方法であって、（Ａ）脂肪族の炭素−炭素多重結合を有する化合物と、（Ｂ）Ｓｉに結合された水素原子を有する有機ケイ素化合物とを、（Ｃ）Ｐｔ（０）錯体触媒及び（Ｄ）少なくとも１種の有機アミン−Ｎ−オキシド及び／又はその水和物並びに場合により（Ｅ）溶剤の存在下で反応させることによって行う前記方法に関する。 （もっと読む）

本発明の主題は、一般式（１） Ｓｉ（ＳｉＲ₃）₄ （１）のネオペンタシランの製造方法において、一般式（２） Ｒ₃Ｓｉ−（ＳｉＲ₂−）_xＳｉＲ₃ （２）［式中、Ｒは、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩから選択され、ｘは、負ではない５までの整数を表す］のケイ素化合物を、触媒活性化合物（Ｋ）の存在で反応させ、この場合に形成されるテトラハロゲンシランの分離を、遊離される前記テトラハロゲンシランよりも高い沸点を有する室温で液状の化合物（Ｌ）の存在での蒸留により行う、ネオペンタシランの製造方法である。 （もっと読む）

本発明の対象は、一般式（１） Ｓｉ_nＲ_2n+2 （１）のポリシランの製造方法であって、一般式（２） Ｒ¹_mＳｉＨ_4-m （２）のシランを、一般式（３） Ｒ²₃Ｂ （３）のホウ素化合物の存在下で反応させる［前記式中、Ｒ¹は、１〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、Ｒは、水素又は基Ｒ¹を意味し、Ｒ²は、フッ素、塩素、臭素又は１〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基であって、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びＮＯ₂から選択される置換基を有してよい基を意味し、ｎは、２〜１０００００の整数値を意味し、かつｍは、０、１又は２の値を意味する］、前記製造方法である。 （もっと読む）

ホウ素含有率１００ｐｐｂ未満を有する式Ｒ¹_xＨ_yＳｉ（ＯＲ²）_z［式中、ｘ＋ｙ＋ｚ＝４であり、かつｘ、ｙ、ｚは、１以上であり、Ｒ¹は、１〜１２個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基もしくはアリールアルキル基であり、かつＨａｌは、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩであり、Ｒ²は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基もしくはｔ−ペンチル基を意味する］のオルガノアルコキシハイドロジェンシランの製造方法において、第一工程において、ホウ素で汚染された式Ｒ¹_xＨ_yＳｉＨａｌ_z［式中、ｘ＋ｙ＋ｚ＝４であり、かつｘ、ｙ、ｚは、１以上であり、かつＲ¹は、１〜１２個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基もしくはアリールアルキル基であり、かつＨａｌは、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩである］のオルガノハロゲンハイドロジェンシランを、ケイ酸もしくはアルミノケイ酸塩での処理に供し、引き続き第二工程において、オルガノハイドロジェンシランから分離し、次いで精製されたオルガノハロゲンハイドロジェンシランを、アルコールＲ²−ＯＨ［式中、Ｒ²は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基もしくはｔ−ペンチル基を意味する］と反応させる前記方法。 （もっと読む）

本発明の対象は、一般式（１）及び（２）
Ｓｉ_nＸ_2n+2 （１）
Ｓｉ_mＸ_2m （２）
［式中、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩから選択され、ｎは、２〜１０の整数を意味し、かつｍは、３〜１０の整数を意味する］のオリゴハロゲンシランから選択されるオリゴハロゲンシランの製造方法であって、ケイ素と、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ及びＰｂ及びそれらの混合物から選択される金属のハロゲン化物とを含有する混合物を、−１２５℃〜１１００℃の温度で反応させ、そして形成されたオリゴハロゲンシランを、Ｎ₂、希ガス、ＣＨ₃Ｃｌ、ＨＣｌ、ＣＯ₂、ＣＯ、Ｈ₂及びＳｉＣｌ₄から選択されるキャリヤーガスで除去する、前記製造方法である。 （もっと読む）

本発明の対象は、一般式（１）Ｒ′_3-nＲ¹_nＳｉ−Ｒ²−ＮＲ³Ｒ⁴（１）のアミノオルガニルトリオルガニルシランの製造方法（ａ）、一般式（４）の環状アミノシランの製造方法（ｂ）並びに一般式（７）Ｒ⁰¹_3-tＲ¹¹_tＳｉ−Ｒ¹²−ＮＲ¹³−Ｒ¹⁴−ＳｉＲ⁰²_3-sＲ¹⁵_s（７）のシリルオルガノアミンの製造方法（ＩＩＩ）であって、アミンとハロゲンオルガニルシランとを反応させる前記方法において、式中、Ｒ′、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁰¹、Ｒ⁰²、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、ｎ及びｓは、請求項１から３に記載の意味を有し、前記反応後に、副生成物として製造されるアミンのアンモニウムハロゲン化物は、塩基（Ｂ）の反応混合物への添加によって遊離され、前記アミンは該反応混合物から留去され、塩基（Ｂ）の反応混合物への更なる添加によって２つの液相が形成し、その際、一方の相は少なくとも９０質量％の塩基（Ｂ）のヒドロハロゲン化物を含有し、かつこの相が分離される前記方法である。
（もっと読む）