説明

エボニック レーム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングにより出願された特許

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本発明は、主成分として式CH=CCHCOO−X−O−COCCH=CH[式中、Xは二官能性基を表す]のジメタクリラートとメルカプタンとから構成されたポリマーネットワークに関する。このジメタクリラート/調節剤−ネットワークは、その特性が、極めて短いポリメタクリラートブロックに基づき、主に基Xの特性により決定される材料である。基Xの種類に応じて、これは極めて柔軟で、フレキシブルか又は高硬質の、強靱の、耐溶剤性のネットワークである。 (もっと読む)


本発明は、1もしくは複数のエマルションポリマーおよびエチレン性不飽和モノマーまたはエチレン性不飽和モノマーからなるモノマー混合物からなる、制御可能なポットライフを有し、レドックス開始剤系により硬化する2成分系を記載し、この場合、エマルションポリマーも、モノマーまたはモノマー混合物もレドックス開始剤系の成分を含有していてよい。ポットライフの制御はレドックス開始剤系をポリマー(AおよびB)に吸収させることにより達成される。 (もっと読む)


本発明は、サンドイッチ構造体に設けられた力導入箇所の構成ならびに製作であって、導入箇所の領域でサンドイッチ構造体の厚さ方向に貫通した補強エレメントが設けられている形式のものに関する。サンドイッチ構造体に設けられた力導入箇所は、この導入箇所の領域でサンドイッチ構造体の厚さ方向に貫通した補強エレメントを備えている。この補強エレメント(たとえば縫合糸)の挿入は、有利には縫合技術と縫合針とによって行うことができる。縫合プロセス後、有利には繊維製の半製品から成る表面層(a,c)と、補強エレメントを含む貫通孔とが、液状の高分子のマトリックス材料によって含浸させられる。この場合、同時に心材と表面層との材料接続的な結合が行われる。
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2つの工程におけるポリメタクリルイミドの製造方法:1)水含有希釈剤の存在での(メタ)アクリルアミド(A、(Me,H)HC=CHCONHR)及びアルキル(メタ)アクリルエステル(B)並びに場合により別のエチレン系不飽和モノマーのラジカル共重合。モノマー(A)は、アクリルアミド及びメタクリルアミドに加えて窒素上で置換されている(メタ)アクリルアミド(R<>H)も含む。モノマー(B)は、第二アルコール又は第三アルコールの(メタ)アクリルエステル、好ましくはt−ブチルメタクリレートである。2)アルケンの脱離下での1)からのコポリマーのポリメタクリルイミドもしくはR<>HについてはN−置換ポリメタクリルイミドへの熱的な又は触媒による反応。 (もっと読む)


本発明は、少なくとも1種の散乱粒子を包含する散乱層及び少なくとも1種の支持層を有する背面投射型スクリーンに関し、この背面投射型スクリーンは、散乱層が15°以上の強度半減角を有し、支持層は6.5°以下の強度半減角を有し、この際、支持層は70以下の光沢R60°を有することを特徴とする。 (もっと読む)


モノ−又はジ−アルキル置換リン酸のアルキルアミノ塩を離型剤としてポリマーにおいて使用することができる。 (もっと読む)


本発明は、ポリメチルメタクリレートマトリックス、光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して0.5〜59.5質量%の球状散乱粒子(A)(平均粒径V50 0.1〜40μm、屈折率 ポリメチルメタクリレートマトリックスに対し0.02〜0.2の範囲の値で相違)および光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して0.5〜59.5質量%の球状粒子(B)(平均粒径V50 10〜150μm、屈折率 ポリメチルメタクリレートマトリックスに対し0〜0.2の範囲の値で相違)を含有するLCD適用のための拡散板に関し、この場合、(A)および(B)の全濃度は、光散乱ポリメチルメタクリレート層(質量)に対して1〜60質量%であり、かつ(A)および(B)は、異なる平均粒径V50を有し、その際、拡散板の透過率は20〜70%および散乱力は0.3よりも大きく、ポリメチルメタクリレート層Rの平均表面粗さの二乗と、(B)の粒径の三乗との比 R/DPBが、0.0002〜0.1300μm−1であることを特徴とする、LCD適用のための拡散板。 (もっと読む)


本発明は、ポリメチルメタクリレート−マトリックス並びに異なる平均粒度V50を有する球形散乱粒子(A)及び球形粒子(B)を含有する、少なくとも1層の光散乱性ポリメチルメタクリレート層を有するリアプロジェクションスクリーンに関するが、その際、球形散乱粒子(A)が0.1〜40μmの範囲の平均粒度V50及び0.02〜0.2の範囲のポリメチルメタクリレート−マトリックスに対する屈折率差を有し、その際、球形粒子(B)が10〜150μmの範囲の平均粒度V50及び0〜0.2の範囲のポリメチルメタクリレート−マトリックスに対する屈折率差を有し、その際、球形散乱粒子(A)及び粒子(B)の全濃度が光散乱性ポリメチルメタクリレート層の質量に対して1〜60質量%の範囲であり、球形散乱粒子(A)の濃度cPA、光散乱性ポリメチルメタクリレート層の厚さd並びに球形散乱粒子(A)の粒度DPAを、cPA/DPAの比が0.001〜0.015質量%mm/μmであるように選択し、球形粒子(B)の濃度cPB、光散乱性ポリメチルメタクリレート層の厚さd並びに球形粒子(B)の粒度DPBを、cPB/DPBの比が0.000005〜0.002質量%mm/μmでありかつポリメチルメタクリレート層の平均表面粗さRの二乗対球形粒子(B)の粒度の三乗の比R/DBPが0.0002μm−1〜0.1300μm−1であるように選択する。 (もっと読む)


本発明は、実質的に、a)その誘導体又は複合体を含むペプチド又はタンパク質であり、ムコ粘着作用を有するポリマーを含むマトリックス中に入れられている作用物質を含有する内側マトリックス−層、及びb)任意に製薬学的常用の助剤、殊に、軟化剤と組成されていてよい、陰イオンポリマー又はコポリマーを実質的に含む外側被膜被覆から構成されている、50〜2500μmの範囲の大きさを有するペレットを含有する経口多層粒子形剤形に関する。 (もっと読む)


本発明は、単数の構造体層または複数の構造体層は、1〜100質量%がポリメタクリレート成形材料からなり、このポリメタクリレート成形材料は、80〜100質量%がラジカル重合されたメチルメタクリレート単位からなり、0〜20質量%が他のラジカル重合可能なコモノマーからなり、30000g/モル〜70000g/モルの平均分子量(重量平均)Mwを有し、場合によっては、80〜100質量%がラジカル重合されたメチルメタクリレート単位からなり、0〜20質量%が他のラジカル重合可能なコモノマーからなり、90000g/モル〜200000g/モルの平均分子量(重量平均)Mwを有するポリメタクリレート成形材料99質量%までを有する混合物で存在し、単数の構造体層または複数の構造体層が複合体の製造後に公知の構造を与える方法によって微細構造化を備えていることを特徴とする、熱可塑性プラスチックまたは熱弾性プラスチックからの担体層と1つ以上の構造体層とからなる複合体を製造することによって微細構造化された表面を有するプラスチック体を製造する方法に関する。更に、本発明は、本発明により製造可能なプラスチック体それ自体ならびにその使用に関する。 (もっと読む)


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