本発明は、パターン加工済みのシリコン上でのテルル化カドミウム水銀（ＣＭＴ）の製造に関し、特に集積回路を有するシリコン基板上へのＣＭＴの成長に関する。本発明の方法は、最初にＭＢＥによって１つ以上のバッファ層を成長させ、次いでＭＯＶＰＥによってＣＭＴを成長させることによって、シリコン基板上の選択された成長窓にて成長を行うことを含む。成長窓は、成長窓以外の領域をマスクすることによって定めることができる。成長窓での成長が結晶構造であるのに対し、成長窓の外部での成長は、多結晶であってエッチングで取り除くことができる。本発明は、集積回路上にＣＭＴ構造を直接成長させる方法を提供し、ハイブリッド化の必要をなくしている。
【その他】 本願に係る特許出願人の国際段階での記載住所は「イギリス国、ロンドン・エス・ダブリユ・１・イー・６・ピー・デイ、バツキンガム・ゲート・８５」ですが、識別番号５０１３５２８８２を付与された国内書面に記載の住所が適正な住所表記であります。
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本出願は、送信器および受信器の両方においてビームフォーマを備えるＭＩＭＯシステム（複数入力および複数出力）に関する。チャネル選択のための方法は、各空間チャネルがステアリングベクトルに関連付けられるということに基づいて、送信ビームのための適切なステアリングパラメータを計算する。適切なステアリングパラメータ、すなわち適切な送信ビームは、全空間にわたる、すなわちすべてのθおよびφにわたる探索プロセスによって、または閉じた数学的手続きによって、すなわち内積のための式を導出することによって決定される。
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ライダー装置（２、２０、８４、９０）であって、送信器（６、５４）、受信器、分析器を有する。後方散乱光において上記遠隔プローブボリュームのレンジよりも大きいレンジに位置する雲による後方散乱から生じるドップラー周波数成分の存在について監視、風速補正される。どのように走査によって得た視線速度値を所定の関数へと回帰、風速成分を計算できるのか、どの点を使用すべきであるか、どのように最初の回帰を実行できるのかが概説される。雲高計（８２）などの後方散乱プロファイリング手段を取り入れ、さらに風力タービン（９０２）も説明される。
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テルル化カドミウム水銀（ＣＭＴ）を製造する方法が開示される。方法は、分子ビームエピタキシ（ＭＢＥ）によって１つまたは複数のバッファ層を基板上に成長させることを含む。その後、ｘを０と１を含めて、その間としてテルル化カドミウム水銀Ｈｇ_１−ｘＣｄ_ｘＴｅの少なくとも１つの層が、有機金属気相エピタキシ（ＭＯＶＰＥ）によって成長される。バッファ層を成長させるためにＭＢＥを使用することにより、ある範囲の基板がＣＭＴ成長に使用されることが可能になる。ＭＢＥバッファ層は、ＣＭＴの後続のＭＯＶＰＥ成長について正確な配向を提供し、また、ＭＯＶＰＥ中のＣＭＴの化学汚染および基板の侵食を防止する。方法は、ＣＭＴ層のデバイス処理が、結晶ＣＭＴ層および／またはパッシベーション層の他のＭＯＶＰＥ成長と共に実施されることをも可能である。本発明は、この方法によって形成される新規なデバイスにも関する。
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本発明は、車両またはロボットアームなど移動プラットフォームの制御に使用できる移動制御システムに関する。本発明は特に車両用の運転支援、車両用のセルフパーキング支援システムに利用できる。３次元カメラ（１２）がプラットフォーム、例えば車（１０２）上に置かれ、プラットフォームまわりの環境を撮像する（１１４）ように配置される。プロセッサ（７）が３次元情報を用いて環境モデルを生成し、このモデルを利用して移動制御信号を生成する。好ましくは、プラットフォームは環境に対して移動し、様々な位置からの環境の複数の画像を取得する。
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周波数補償通信受信は、受信信号内のトレーニングシーケンスと比較するために基準信号を構成することによって、受信信号内の周波数オフセットを補償することを含む。基準信号は基底関数およびトレーニングシーケンスから形成される。基準信号は、基底関数と、トレーニングシーケンスと、受信信号と、非ゼロの信号パワーを必要とする制約との適応的に加重された結合で構成された費用関数Ｊを最小化することによって得られる。マルチエレメントアンテナ信号は、方程式（Ｉ）によって与えられたＪ内のビームフォーミング重みベクトルｗを用いて加重され、上式中、Ｘは受信信号サンプルの行列であり、Ｃはトレーニングシーケンスの要素を含む対角行列であり、Ｆは基底関数を定義する列を有する行列であり、ｖは適応重みのベクトルであり、指数Ｈは複素共役転置を示し、λはビームフォーマパワーを制約するラグランジュ乗数である。単一要素アンテナ信号ｘは、方程式（ＩＩ）によって与えられたＪ内でスケーリングされ、上式中、αはスケーリング係数であり、^＊は複素共役を示し、ｘは受信信号サンプルのベクトルである。
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特定の形状からの物体３、１１、１６、１８、２２、２６の形状の逸脱を示す装置が記載される。装置は、放射の入射ビーム４を物体に向ける放射手段、および前記物体による透過または前記物体からの反射の後の最終ビームを検査する検査手段５を備える。装置は、物体が特定の形状を有する場合、最終ビームが実質的に平面波面を有するように構成され、検査手段５が、平面性からの最終ビームの波面のいかなる逸脱をも判定するように構成される。一実施形態において、検査手段は、たとえば回折格子６またはホログラムなどのビーム分割手段、およびＣＣＤカメラ８などの検出器手段を備える。ビーム分割手段は、次に最終ビームを２つ以上のビームに分割し、２つ以上のビームを検出手段で横方向に変位された位置に向けるように構成される。
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振動部材（８）と電流制御手段（６）とを備える磁場感知装置（２）が記述される。電流制御手段（６）は、振動部材（８）を貫通して設けられる少なくとも第１（１０）および第２（１２）の電流路に沿って交流（ＡＣ）を通すように構成され、第１の電流路（１０）を通る電流の流れが、第２の電流路（１２）を通る電流の流れに対して、実質的に反対方向である磁場勾配計モード動作を提供する（すなわち、磁場勾配を測定する）ように構成される。また、電流制御手段（６）は、磁力計モード動作を証明する（すなわち、磁場強度を測定する）こともできる。磁場センサ（２）は、コンパスで使用され得る。
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少なくとも２つの増幅光ファイバセクション２４、５６、８４、９４と、増幅光ファイバセクション２４、５６、８４、９４に光ポンピングを行うためのポンピング手段とを含む光増幅器５０、６６を説明する。２つ以上の増幅光ファイバセクション２４、５６、８４、９４を使用中に実質的に直線に保持する光ファイバ支持手段、例えば、基板におけるチャネルまたはチャネル群２０、２６、４２、４４、５４も設けられる。また、光ファイバ支持手段は、少なくとも２つの増幅光ファイバセクションの間で光を結合するための手段も含む。少なくとも１つの増幅光ファイバ２４、５６、８４、９４は、エルビウムドープファイバ増幅器ＥＤＦＡをもたらすエルビウムドープコアを含むことができる。
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動的ブラインド信号分離の方法は、直前のデータウィンドウを処理することによって初期化情報を生成する。２１でこの情報が入力され、２２で直後のウィンドウのデータの直交性を初期化するために使用される。初期化されたデータは、２３でヤコビ技術を使用して小さな更新角度で無相関化される。ステップ２２および２３は全体で統計用語で言う２次ステージの処理となり、直交正規信号を生成する。２５で直交正規信号が初期化され、次いで、２７でＩＣＡによって２次よりも高次の統計量を用いて小さな角度更新で分離され、分離信号が生成される。この方法は信号を分離し、それらの中から所望の信号を識別する取得フェーズ、および所望の信号だけが分離された後続のフェーズで実施することができる。この方法はまた、最初の結果を取得し、次いで後続のデータスナップショットを用いて直前の結果を繰り返し更新してスナップショット結果を生成し、その結果を重みづけされた直前の結果と組み合わせて指数関数的な減衰を生成することによって実施することもできる。
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