【課題】マトリックスを用いずに試料のイオン化を可能とする質量分析において、低分子化合物の測定感度を向上させるとともに、分子量３００００を超える高分子量の物質のイオン化が可能となる試料ターゲットおよびその製造方法と、当該試料ターゲットを用いた質量分析装置とを提供する。
【解決手段】レーザー光の照射により試料をイオン化して質量分析を行うときに、試料を保持するために用いられ、レーザー光の照射を受ける表面に開口する複数の凹部が繰り返し形成された表面を試料保持面として備えている試料ターゲットであって、上記凹部の内面の一部を除く当該試料保持面の表面が、金属および／または半導体で被覆されているとともに、上記凹部の内面に、金属および／または半導体で被覆されていない部分が存在する。 （もっと読む）

【課題】光触媒機能を利用すべき印刷用版材において、版材の耐久性、とくに光触媒機能を有する層の基材自体の層への密着性を格段に高め、それによって版材全体の耐久性を大幅に高めて、その版材を実際の印刷工程に問題なく使用できるようにするとともに、高精細な印刷を可能とし、しかも、問題なく容易に再生できるようにする。
【解決手段】基材（２）自体の表層が、陽極酸化処理した後加熱処理することにより光触媒機能を有する酸化層（３）に改質されており、その酸化層（３）の上に、疎水性の化合物を含み光触媒機能により分解可能な層（４）が被覆されていることを特徴とする印刷用版材（１）、およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】光触媒の作用により親水・撥水パターンを形成可能な平版印刷原版であって、親水性部分と撥水性部分とが十分なコントラストを有し、非画線部に印刷インキの付着する地汚れを抑える平版印刷原版を提供する。
【解決手段】基材上に、光触媒含有層と、撥水性薄膜層と、を順次積層した平版印刷原版であって、前記光触媒含有層は、１００ｃｍ^２あたり０．５ｍｇ以上５．０ｍｇ以下の酸化チタンを含有する平版印刷原版である。これによれば、活性線を照射して、撥水性薄膜層を選択的に除去すると共に当該部分を親水化することにより、撥水性部分と親水性部分とが、十分なコントラストを有し、非画線部の印刷インキの付着する地汚れを抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】結晶の対称性のミスマッチが無い半導体基板を高スループットかつ低コストで製造することが可能な半導体基板の製造方法、半導体基板、発光素子及び電子素子を提供すること。
【解決手段】Ｓｉ基板を用いることにより、サファイア基板やＳｉＣ基板を用いる場合に比べて製造コストを格段に低下させることができる。また、従来のＳｉ基板の（１００）面ではなく、Ｓｉ基板の（１１０）面に１３族窒化物を成長させることにより、結晶の対称性のミスマッチを解消することができる。さらに、パルススパッタ堆積法によって１３族窒化物を成長させるので、例えば１２インチ以上の大面積の基板においても製造することができ、高いスループットで製造することができる。 （もっと読む）

【課題】光触媒の作用により親水・撥水パターンを形成可能な平版印刷原版であって、親水性部分と撥水性部分とが十分なコントラストを有し、印刷濃度が良好な結果を得ることができる平版印刷原版を提供する。
【解決手段】基材上に、光触媒含有層と、撥水性薄膜層と、を順次積層した平版印刷原版であって、前記撥水性薄膜層の表面自由エネルギーが８ｍＪ／ｍ^２以上２０ｍＪ／ｍ^２以下である平版印刷原版である。これによれば、活性線を照射して、撥水性薄膜層を選択的に除去すると共に当該部分を親水化することにより、撥水性部分と親水性部分とが、十分なコントラストを有し、印刷濃度が良好な結果を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】導電性が良好であるとともに、耐熱性に優れた導電体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１０上に、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｗ、Ｎ、Ｆ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｔｃ、Ｒｅ、Ｐ及びＢｉからなる群から選ばれる１又は２以上のドーパントが添加された酸化チタンからなる層（Ｚ）が２層以上設けられており、該２層以上のうち少なくとも１層は、チタンとドーパントの原子数合計に対するドーパントの原子数の割合が０．０１〜４原子％である第２層（Ｚ２）１２であり、該第２層（Ｚ２）１２と基板１０との間に、該第２層（Ｚ２）よりも、前記チタンとドーパントの原子数合計に対するドーパントの原子数の割合が多い第１層（Ｚ１）１１が設けられていることを特徴とする導電体。 （もっと読む）

【課題】マイクロ流路内において、公知の方法よりも安定に、かつ、高い抽出効率で抽出操作を行うことを可能にする手段を提供すること。
【解決手段】マイクロ流路内で、エマルション状態で抽出操作を行えば、微小な液滴は単位体積当たりの表面積が大きいので、液体全体の単位体積当たりの他相との接触面積を公知の平行流の場合よりも大きくすることができ、抽出効率を向上させることができる。途中で内表面の濡れ性が変化しているマイクロ流路にエマルションを流通させることにより、エマルションをプラグ流（流路全体をそれぞれ塞ぐ油相の塊と水相の塊が交互に流れる）に変化させる。プラグ流が生成する部位よりも下流に、マイクロ流路よりも浅い親水性又は疎水性のチャネル部を介して接続される分岐マイクロ流路を設けることにより、生成されたプラグ流の水相又は油相のみを、チャネル部を介して分岐マイクロ流路に導くことができる。 （もっと読む）

【課題】細孔が高規則性をもって配列したポーラスアルミナおよび表面に微細構造を有するアルミニウムを、クロム酸を使用せずに確実に製造可能な方法を提供する。
【解決手段】地金アルミニウム表面に形成されていた陽極酸化ポーラスアルミナを、クロム酸化合物を含まず、細孔の底部に存在するバリヤー層の溶解速度Ｓ（単位：ｎｍｈ^-1）と化成電圧（単位：Ｖ）の比Ｓ／Ｐ（単位：ｎｍｈ^-1Ｖ^-1）が２０以下となる酸性水溶液中で溶解するとともに、溶解時に、バリヤー層の厚さをｄ（単位：ｎｍ）としたときの浸漬時間を０．９〜１．８×ｄ／Ｓ（単位：ｈ）の範囲内としてポーラスアルミナ膜を選択的に除去し、地金アルミニウム表面に除去された陽極酸化ポーラスアルミナの高規則性の細孔配列の痕跡を残すことを特徴とする表面に微細構造を有するアルミニウムの製造方法、およびポーラスアルミナ膜が除去された地金アルミニウム表面に対して再度陽極酸化を実施し、高規則性の細孔配列を有する陽極酸化ポーラスアルミナを作製する方法。 （もっと読む）

【課題】微細な凹凸パターンが表面に形成された無機系材料表面、特にTiO₂、SiO₂表面を効率よく作製する方法を提供する。
【解決手段】陽極酸化ポーラスアルミナを用いて形成したモールドの構造を、主たる構成成分が無機物である無機系材料の表面に転写することにより、該材料の表面に微細パターンを形成することを特徴とする、微細表面パターンを有する無機系材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】塩化カルシウム等のゲル形成に必要な塩の濃度が低くてもマイクロビーズゲルを製造することができる、マイクロビーズゲルの製造方法を提供すること。
【解決手段】マイクロビーズゲルの製造方法は、ゲル形成性Ａ液と、該ゲル形成性Ａ液と接触するとゲルを生成するゲル形成性Ｂ液とを混合してマイクロビーズを製造する方法であって、前記ゲル形成性Ａ液の液滴を、インクジェット法により、前記ゲル形成性Ｂ液の外部から前記ゲル形成性Ｂ液に噴射することによりマイクロビーズゲルを生成させることを含み、ゲル形成性Ａ液及び前記ゲル形成性Ｂ液の少なくともいずれか一方が、直径25nm以上2000nm以下のナノ粒子を含むことを特徴とする。 （もっと読む）