【課題】スパッタ法などのエピタキシャル成長法或いは配向成長法よって成膜された圧電体膜の変位量及び変位方向の制御を可能とする圧電アクチュエータの駆動方法及び液体吐出ヘッドの駆動方法を提供する。
【解決手段】振動板２５６にスパッタ法で（１１１）に優先配向させて成膜された圧電体膜２０を有する圧電素子２３が接合された圧電アクチュエータに、上部電極２５７Ｂをアドレス電極、下部電極２５７Ａをグランド電極として上部電極２５７Ｂに抗電界以上のプラス電圧を有する駆動信号を印加して駆動すと、振動板２５６が圧力室２５２の内側に変形して、ノズル２５１から液体が吐出される。分極方向と反対方向に電界を印加して駆動しても、分極方向と同じ方向に電界を印加して駆動した場合と比べて変位量の減少や変位方向の反転がなく、好ましい液体吐出が実現される。 （もっと読む）

【課題】個別配線の引き出し領域を確保しつつ、確実にＧＮＤ電位を確保する。
【解決手段】ＧＮＤ表配線４６Ａ及びＧＮＤ裏配線４６Ｂは、第２貫通穴４３Ｂに充填された第２導電性部材４５Ｂを介して後述する圧電体５４の上部電極５２に接続されると共に、ＧＮＤ表配線４６Ａ側で基準電位端子４６Ｃと接続されている。ＧＮＤ裏配線４６Ｂは、裏面４２Ｂの全面に膜状に形成されると共に、第１貫通穴４３Ａの外側に環状の絶縁空間４３Ｃが構成されている。絶縁空間４３Ｃにより、第１貫通穴４３Ａからに充填された第１導電性部材４５ＡとＧＮＤ裏配線４６Ｂとの絶縁が行われている。表面４２Ａに配線された個別配線４４及びＧＮＤ表配線４６Ａは、樹脂保護膜４７で被覆保護されている。 （もっと読む）

【課題】歩留まりを向上し得る液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】金属以外の材料からなる仮基板４００上に絶縁体膜５５を形成し、該絶縁体膜５５上に圧電体層７０を形成し、圧電体層７０をパターニングし、圧電体層７０上に下電極膜６０を形成し、下電極膜６０上に振動板を構成する弾性膜５６及び保護膜５７を順次積層し、圧力発生室１２が形成された流路形成基板１０に、圧電体層７０が振動板を介して圧力発生室１２に対向するよう仮基板４００を接合し、仮基板４００を除去することにより絶縁体膜５５を露出させ、絶縁体膜５５の圧力発生室１２に対向する領域を除去して開口部を形成し、開口部を介して露出した圧電体層７０に接続する上電極膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】柱状壁の密着力を向上させて、より信頼性の高いインクジェット記録ヘッドを提供する。
【解決手段】本発明のインクジェット記録ヘッドは、吐出口２２と、インク液室４８と、インク吐出エネルギー発生素子２と、インク供給口２０と、インク流路４９と、インク供給口２０とインク流路４９との間に配置された柱状壁４５とを備える。インク吐出エネルギー発生素子２上に形成された複数の膜のうちの最上層のシリコン窒化膜１１に凹状開口４２が形成されている。柱状壁４５の第２の底面４５ｃは、凹状開口４２を介してシリコン窒化膜１１より下層のプラズマ酸化膜７に接合されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板裏面からの加工のみにより、基板に形成された信頼性の高いインク供給口保護膜の構成、及び、その構成を容易に形成するための製法を目的とする。
【解決手段】本発明は、基板と、基板の上面に設けられた第一の保護膜と、該第一の保護膜の上に設けられた記録素子、流路及び該流路に連通する吐出口と、基板の下面に開口し、該開口から基板と第一の保護膜とを貫通し、流路と接続され、流路に液体を供給する供給口と、供給口の側面を保護する第二の保護膜とを有する液体吐出ヘッドであって、第一の保護膜及び第二の保護膜は、流路と供給口との接続部において、一方の保護膜の端面の全てが他方の保護膜により覆われ、且つ、他方の保護膜の端面の一部が一方の保護膜により覆われていることを特徴とする液体吐出ヘッド。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い圧電素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る圧電素子１００は、基板１０と、基板１０の上方に形成された下部電極２０と、下部電極２０の上方に形成され、短辺と長辺を有する圧電体層３０と、圧電体層３０の上方に形成された上部電極４０と、を含み、圧電体層３０の対向する短辺が、平面視において、下部電極２０より外側に位置し、下部電極２０の側面と圧電体層３０とが接する領域に空洞部５０を有する。 （もっと読む）

【課題】基材の表面粗さが大きく表面に凹凸や段差が存在し、接合させる基材どうしが接する接触面積がわずかな場合でも、接合強度や耐久性を確保することが可能な接合体を提供する。
【解決手段】接合基材３００はシロキサン結合と脱離基とを含む薄膜に活性化処理を施した接合膜３２０を有している。接合基材３００と他方の被接合基材３３０からなる接合体３５０は、接合膜３２０を被接合基材３３０と接するように重ね合わせて加圧し、その後、加圧したままで加熱されることによって形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、製品による吐出性能のばらつきの少なく信頼性の高い、高精細な画像を記録することのできる液体吐出ヘッドを提供することである。
【解決手段】本発明は、吐出用液流路と発泡用液流路との隣接部にこれらを分離する分離膜と、該分離膜の少なくとも一部に設けられ、吐出用液流路と発泡用液流路とを分離膜のみによって仕切る可動部と、発泡用液流路中の発泡用液体を加熱して発泡させるための発熱素子と、を有し、発泡用液流路と発熱素子とを有する基板の表面に、吐出用液流路と吐出口とが設けられ分離膜により発泡用液流路の天井の少なくとも一部を形成して基板の表面に露出させ、吐出用液流路を該基板の表面に露出した分離膜の有する可動部をその底面の一部として設けることにより吐出用液流路と発泡用液流路との隣接部が設けられており、発熱素子は発泡用液流路の天井側に設けられていることを特徴とする液体吐出ヘッド。 （もっと読む）

【課題】多段形状や円錐台形状などのノズル孔を容易に形成して、大幅な工程短縮が可能になり、コストも低減させ、さらに飛行精度も向上させることができるシリコン製ノズル基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】ノズル形成部１２０を有するニッケル製の金型Ａに、使用ガスをＳｉＨ₄ 及びＰＨ₃ 、反応圧を２０Ｐａ〜２００Ｐａとし、成長温度を５５０℃〜６５０℃とした減圧ＣＶＤ法によって、リンをドープしたポリシリコンＢを蒸着してノズル孔１１０を有するノズル基材１００を作製する工程と、ノズル基材１００を金型Ａから除去してノズル基板１を作製する工程とを有する。上記の条件下において、成長温度を３００℃〜４００℃とした場合は、リンをドープしたアモルファスシリコンＣを蒸着して、ノズル孔１１０を有するノズル基材１００が作製される。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能で、封止不良を防止でき、材料コスト及び製造コストを削減できる液滴吐出ヘッドを得る。
【解決手段】電極基板１０の個別電極１２ａが形成された面には、個別電極１２ａに対応した端子部１２ｂが個別電極１２ａと離隔して形成され、電極基板１０の個別電極１２ａと端子部１２ｂとの間には、封止材２５を封入するための貫通した封止溝穴１３が形成され、キャビティ基板２０の電極基板１０と対向する面には、封止溝穴１３を横切って個別電極１２ａと端子部１２ｂとを接続するリード配線１２ｃが形成され、電極基板１０のキャビティ基板２０と対向する面の反対側から、電極基板１０とキャビティ基板２０との間に封止溝穴１３を介して封止材２５を堆積させ、ギャップを封止した。 （もっと読む）

【課題】製造工程が簡略化され、各構成部材のずれによる噴射特性の低下が低減し、流路形成基板とノズルプレートの材質の違いによる熱膨張率差で生じる変形や剥離が少なく、噴射特性の低下の減少した液体噴射ヘッドの製造方法を得る。
【解決手段】ノズル形成層２０を流路形成基板１０に形成した後に、ノズル形成層２０にノズル開口２１を形成する。その後、圧力発生室１２を形成するので、ノズル開口２１が形成されたノズルプレートを接着する必要がなく、構造が簡単で位置ずれの少ないインクジェット式記録ヘッド１の製造方法を得ることができる。また、ノズル形成層２０および流路形成基板１０の材質が、同じシリコンなので熱膨張差が少なく、温度差による変形や剥離を少なくでき、噴射特性の安定したインクジェット式記録ヘッド１の製造方法を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】所望の波形を印加することができる液体噴射ヘッド及び液体噴射装置、並びに液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】導電性液体を噴射する液体噴射面にノズル開口２１が穿設された金属製のノズルプレート２０と、ノズル開口２１に連通する圧力発生室１２が設けられた流路形成基板１０と、電気信号に応じて圧力発生室１２に圧力を発生させる圧電素子３００とを備えた液体噴射ヘッドであって、ノズルプレート２０の液体噴射面のノズル開口２１の周囲に撥液膜２４が設けられ、ノズルプレート２０の少なくとも噴射させる導電性液体と接触する領域に絶縁膜（下地膜２３）が設けられていることを特徴とする液体噴射ヘッドＩ。 （もっと読む）

【課題】基材の表面粗さが大きく表面に凹凸や段差が存在し、接合させる基材どうしが接する接触面積がわずかな場合でも、接合強度や耐久性を確保することが可能な接合基材を提供する。
【解決手段】接合基材１００は、基材１１０の一面１１４上に接合膜１２０，１３０，１４０が重ねられて３層構造に形成された接合層１５０を有している。それぞれの接合膜１２０，１３０，１４０は、アルキル基を含むポリオルガノシロキサンを主材料とする薄膜にエネルギー線の一例としてのＵＶを照射することによる活性化処理が行われることによって形成される。 （もっと読む）

【課題】アルカリ性のインク（吐出液）に対して耐久性をもつようにノズル孔を被覆・保護すること。
【解決手段】液滴を吐出するノズル部１１ａと、このノズル部より断面積が大きくノズル部と同軸上に設けられた導入部１１ｂとを少なくとも備えたノズル孔１１を複数備えたノズル基板１であって、少なくともノズル孔１１の内壁に複数層の耐吐出液保護膜１２〜１４を形成する。 （もっと読む）

【課題】圧力発生室を形成する際に、保護膜のマスクとなるレジスト膜を良好且つ効率的に除去して製造効率を向上する。
【解決手段】液体流路を流路形成基板の表面に形成された保護膜５２をマスクとして流路形成基板をエッチングすることによって形成する際に、所定パターンの保護膜を形成する工程として、流路形成基板の表面の全面に保護膜を成膜する第１の工程と、保護膜上にポジ型のレジスト２００を塗布してプリベーク処理することによりレジスト膜を形成する第２の工程と、レジストを選択的に露光して現像することでレジスト膜を選択的に除去する第３の工程と、プリベーク処理の温度以下の温度でドライエッチングすることにより保護膜を選択的に除去する第４の工程と、第３の工程でレジスト膜の表層に形成される変質層を除去する第５の工程と、レジスト膜を再露光及び現像することによってレジスト膜を除去する第６の工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 振動板表面に均一な保護膜を備え、作動特性の優れた静電型アクチュエータの提供。
【解決手段】 振動板電極２２を含み表面に保護膜２６を形成した振動板２０と、この振動板２０に空隙１４ａを介して対向配置された固定電極１２とを備え、前記空隙１４ａに連通する連通路５６と、前記連通路５６を大気中に開放する第一の開放孔５５ａ及び第二の開放孔５５ｂと、第一の開放孔５５ａを封止する第一の封止部材５８ａと、第二の開放孔５５ｂを封止する第一の封止部材５８ａとは異なった材質の第二の封止部材５８ｂとを備えたことを特徴とする静電型アクチュエータ２。 （もっと読む）

【課題】ｉ線露光によりインク吐出口の形成を行う場合でも、下地による反射の影響がなく、安定したパターン形状が可能であり、反射防止膜が残らないインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】複数のインク吐出エネルギー発生素子を有する基板と、インク吐出エネルギー発生素子上に液滴を保持するためのインク流路と、ｉ線露光にて形成したインクを吐出するためのインク吐出口とを有するインクジェット記録ヘッドの製造方法において、反射防止膜を形成する工程と、ｉ線露光によりインク吐出口形成後、前記反射防止膜を、反射防止膜を選択的に除去可能な方法で除去する工程を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】特別な顔料を用いたり、或いは顔料精製をすること無く、不純物としてアルカリ金属イオンを多く含有するＵＶ硬化型インクを用いても、ノズル孔近傍の析出物成長を抑制し、長期の出射安定性が得られるインクジェットヘッドおよびそれを用いた画像記録方法を提供する。
【解決手段】ピエゾ方式のインクジェットヘッドにおいて、ピエゾ電極が絶縁され、ノズルプレートの表面または裏面が電気導電性を有し、該電気導電性の表面電位がグランド電位又はプラス電位に維持されていることを特徴とするインクジェットヘッド。 （もっと読む）

【課題】製造コストを削減できる液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る液体噴射ヘッド１００の製造方法は，基板１８０の上方に犠牲層１８４を形成する工程と、犠牲層の上方に圧電体層１４２を形成する工程と、圧電体層の上方に第１電極１４０を形成する工程と、第１電極の上方に弾性層１０８を形成する工程と、弾性層の上方に、圧力室１２４を形成するための開口部および圧力室の側壁となる流路側壁１０６を有する流路形成層１０５を形成する工程と、流路形成層の上方に、ノズル孔１２６を有するノズルプレート１０２を形成して、圧力室を形成する工程と、犠牲層を除去して、基板を剥離する工程と、圧電体層の下方に第２電極を形成する工程と、を含み、流路側壁は，感光性樹脂からなるように形成される。 （もっと読む）

【課題】多段構造のノズル孔を有するノズル基板を研削等の薄板化加工で形成するのではなく、成膜によって形成することで、板厚・ノズル長さの精度向上が可能なノズル基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】成膜基板１００上に犠牲層１０１を成膜し、犠牲層１０１の上に、リンをドープしたドープドポリシリコン層とストップ層とを順次交互に積層しノズル基板基材１１０を形成する。そしてノズル基板基材１１０上にｎ段の階段状の開口１０５ａを有するマスク層１０５を形成し、マスク層１０５の開口を順次広げつつノズル基板基材１１０を各ストップ層でエッチングがストップするまでエッチングすることを繰り返し、最後にノズル基板基材１１０を犠牲層１０１でエッチングがストップするまでドライエッチングしてノズル孔を形成する。そして犠牲層１０１をエッチングにより除去してノズル基板基材１１０を成膜基板１００から剥離する。 （もっと読む）