【課題】微弱信号を増幅可能な増幅装置を提供する。
【解決手段】増幅装置は、被測定系の観測量＾Ａを測定する際に、測定器と、初期状態が事前選択された被測定系を相互作用させ、次に被測定系の終状態を事後選択し、測定器の波動関数ξ（ｐ）を用いて物理量の測定を行う。被測定系の量子状態の事前選択状態、事後選択状態それぞれのベクトルを｜ｉ＞、｜ｆ＞とするとき、式（１）の弱値Ａ_Ｗが既知であり、Ａ_Ｗ＝＜ｆ｜＾Ａ｜ｉ＞／＜ｆ｜ｉ＞…（１）、測定器と被測定系の相互作用ハミルトニアンＨが、測定器の運動量演算子＾ｐおよび結合係数ｇ（ただしｇ＞０）を用いて式（２）で与えられ、Ｈ＝ｇ・δ（ｔ−ｔ_０）・＾Ａ・＾ｐ…（２）、＾Ａ^２＝１のときに、測定器は、波動関数ξ（ｐ）が運動量表示で実質的に式（３）となる。
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【課題】 被検面が傾いていても測定精度を悪化させることのない多波長干渉計を提供する。
【解決手段】 波長が互いに異なる少なくとも２つの光束を参照光と被検光とに分割し、分割された参照光の周波数と被検光の周波数とを異ならせ、被検光と参照光とを干渉させる干渉計において、干渉光を複数の光束に分割する分割部を有し、分割された複数の光束を各波長について検出する。 （もっと読む）

【課題】参照面と被検面との間の距離の計測において、計測範囲の広範囲化の技術を提供する。
【解決手段】光源からの第１光を参照面に入射させ第２光を被検面に入射させる分割素子と、前記参照面で反射された前記第１光と前記被検面で反射された前記第２光との干渉光の位相をシフトさせる位相シフト部と、前記干渉光の強度を検出する検出部と、前記光源からの光の周波数を連続的に３つ以上の周波数に設定し前記３つ以上の周波数のそれぞれについて前記干渉光の位相をシフトさせながら前記干渉光の強度を検出するように前記検出部を制御し検出される前記干渉光の強度及び前記位相シフト部による前記干渉光の位相のシフト量に基づいて、前記参照面と前記被検面との間の光路長に相当する位相を特定し前記参照面と前記被検面との距離を求める処理部と前記処理部は前記３つ以上の周波数のそれぞれの間の周波数差が互いに異なるように前記３つ以上の周波数を設定する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で広い計測レンジと高い計測精度とを実現した計測装置を提供する。
【解決手段】計測装置は、第１光源、第２光源、第１検出器、第２検出器及び算出部を備える。第１光源は第１波長と第２波長との間で波長が走査された走査区間を含む第１光を生成する。第２光源は第３波長の第２光を生成する。第１検出器は第１光を参照面及び被検面に各々照射することで生成された第１干渉縞を検出する。第２検出器は第２光を参照面及び被検面に各々照射することで生成された第２干渉縞を検出する。第３波長は第１波長及び第２波長の合成波長より短い。算出部は第１時刻において第２干渉縞の位相のデータから第２干渉縞の次数が算出できなくなった場合に、第１時刻より後の走査区間における第１干渉縞の位相の変化に基づいて第１時刻以降における第２干渉縞の次数を算出し、該算出された第２干渉縞の次数を用いて第１時刻以降における被検面の形状を算出する。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高精度に被検面の形状を計測することが可能な計測装置を提供すること
【解決手段】計測装置は、光コム光源１０１から射出された光束を、被検光束と参照光束に分割するＰＢＳ１５と、前記参照光束と前記被検光束の光路長差を変化させる遅延素子９と、前記被検光束と前記参照光束が干渉して形成する干渉縞を撮像する撮像素子２４と、遅延素子が光路長差を変化させて撮像された干渉縞の信号に基づいて被検面２３の位置を算出する解析器２５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】高精度に被検面と参照面の間の絶対距離を計測可能な計測装置および計測方法を提供する。
【解決手段】第１の基準波長λ_１と第２の基準波長λ_２との間で波長走査が可能な光源１１と、第３の基準波長λ_３の光を射出する光源１０を有する光波干渉計測装置は、各波長に対応した干渉光の信号に基づいて被検面と参照面との間の光路長に相当する位相の誤差を補正し、誤差が補正された位相に基づいて被検面と参照面の間の絶対距離を算出する処理部１９を有する。 （もっと読む）

【課題】対像物の像を表すデジタルホログラムを作成する。
【解決手段】本発明は、測定光線により対像物を照射し、反射された測定光線を光センサーに誘導する工程と、第１参照光線の光軸に対し９０°以外の角度で配置された第１ミラーに第１参照光線を誘導し、反射光を光センサーに誘導する工程と、光センサー上に生成された干渉縞を表すデジタル信号を得る工程と、前記信号を処理してデジタルホログラムを得る工程と、デジタルホログラムにフーリエ変換を行ってＤＣ項、第１像項、第１共役像項を含むスペクトルを得る工程と、前記スペクトルを濾波する工程と、第２参照光線を第１ミラーに誘導し、反射光を光センサーに誘導する工程と、空間周波数領域におけるスペクトルにおいて第２像項及び第２像項の共役を導出する工程と、ＤＣ項に重複する第１像項の部分を第２像項の対応する部分によって置き換える工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置のための変位測定システムを較正するための改善された方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置の可動物体の第１方向の変位を測定放射ビームおよびリフレクタを使って測定するように動作可能な干渉型変位測定システム。リフレクタは、実質的に平面的で、かつ第１方向に実質的に垂直である。較正は、可動物体の角位置の第１組の測定値を使って得られる。測定ビームの位相オフセットが影響を受ける。可動物体の角位置の第２組の測定値が得られる。干渉型変位測定システムは、第１および第２組の測定値に基づいて較正される。 （もっと読む）

【課題】汎用性の高い横座標の校正方法によって横座標を校正する形状計測装置、及びその横座標校正方法を提供する。
【解決手段】複数の開口が形成され、これら複数の開口の配列によって校正パターンを形成するアパーチャー板２０をワークＷの被検面Ｗｓの前面に配置する。この開口を通過すると共に、被検面Ｗｓで反射され、再度開口を通過した測定光Ｌｍを撮像素子５によって検出する。撮像素子上にて結像した校正パターンの横座標位置と、予め計測されている校正パターンの基準横座標位置とを、演算装置７によって比較することによって、形状計測装置１の横座標を校正する。 （もっと読む）

【課題】汎用性の高い校正原器を提供し、一つの校正原器で種々の形状計測装置の横座標の校正を可能にする。
【解決手段】形状計測装置の横座標を校正する際にワークの代わりに配置される校正原器２０に、入射角度に係わらず光を元来た方向に反射する再帰性光学素子２１を設け、この再帰性光学素子２１によって測定光Ｌｍを反射させる。校正原器２０は、再帰性光学素子２１によって反射するため、種々の曲率半径の測定光を元来た方向に反射することができ、これによって、種々の形状計測装置の横座標の校正に使用することができる。 （もっと読む）

【課題】測長結果から精度よくデッドパスの影響を排除するヘテロダインレーザー干渉測長器を提供する。
【解決手段】ヘテロダインレーザー光源１０からのビームを分岐させて測定ビームＢ１と参照ビームＢ２を生成する分岐器８０と、測定ビームＢ１及び参照ビームＢ２を分割する偏光ビームスプリッタ３０と、測定光路ＬＰ１，ＬＰ２に設けられる１／４波長板３１，３２と、可動測定物５０に固定され、測定ビームＢ１１，Ｂ１２が照射される測定ミラー３４１，３４２と、測定ミラー３４１，３４２近傍に配置され、参照ビームＢ２１，Ｂ２２が照射される反射ミラー４１１，４１２と、測定ミラー３４１，３４２の反射光を干渉させた光と反射ミラー４１１，４１２の反射光を干渉させた光に基づく２つのビート信号から変位を算出する演算回路７０を備え、分機器８０は測定ビームＢ１と参照ビームＢ２の光量比を連続的に変化させて調整する調整手段を有する。 （もっと読む）

【課題】変位量を精度良く測定できる変位量測定装置を提供する。
【解決手段】変位量測定装置１は、入力したＡ＋，Ａ−相信号Ｓa1，Ｓa2からＡ相信号Ｓaを生成する第１信号生成装置６０Ａと、入力したＢ＋，Ｂ−相信号からＢ相信号を生成する第２信号生成装置とを備える。第１信号生成装置６０Ａ及び第２信号生成装置は、入力した各信号に基づいて、減算処理を施す減算手段６１と、入力した各信号に基づいて、加算処理を施す加算手段６２と、加算手段による処理結果に基づいて、減算手段による処理結果に含まれるオフセット成分を補正するオフセット補正手段６４とを備える。 （もっと読む）

【課題】計測装置の測長軸の調整を不要とし、簡便な取り付け及び光学素子の汚染防止の点で有利な技術を提供する。
【解決手段】参照面と被検面との間の距離を計測する計測装置であって、光源からの光を分割させる光分割素子と、前記参照面、前記被検面及び前記光分割素子を内部に収納すると共に、前記内部において前記参照面及び前記光分割素子を固定するハウジングと、前記ハウジングの外部に設けられ、前記光分割素子から前記参照面までの第１の光路長と前記光分割素子から前記被検面までの第２の光路長とが等しくなるときの前記被検面の位置を示す測長基点を表示する第１の表示部と、前記ハウジングの外部に設けられ、前記第２の光の光路に平行な軸を示す測長軸を表示する第２の表示部と、前記参照面と前記被検面からの反射光との干渉信号から前記参照面と前記被検面との間の距離を算出する処理部と、を有することを特徴とする計測装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】測定範囲を拡大できるとともに機器の簡略化が可能な斜入射干渉計を提供すること。
【解決手段】光源４１と、光源４１からの原光を分割する光束分割部と、測定光を被測定物Ｗに照射する照射部４３と、測定光と参照光とを合成する光束合成部４４と、合成された光束を受光する受光部４５とを有する斜入射干渉計１において、干渉計本体３０と、被測定物Ｗを保持する基台１０と、干渉計本体３０を被測定物Ｗに沿って移動可能な移動機構２０と、干渉計本体３０の移動軸線の延長上に配置された補助反射鏡５１と、光源４１からの原光から補助光を分割して補助反射鏡５１に照射する補助光束分割部５２と、干渉計本体に設置されかつ補助反射鏡５１で反射された補助光を受光する補助受光部５５と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】試料表面の変位量が大きくても、フェーズラッピングの問題が生ずることなく、試料の微細な表面形状を高分解能で測定できる形状測定装置を実現する。
【解決手段】白色光源から出射した照明光は、入射光をシャーリングする第１の光路と入射光に対して可変光路長ないし可変位相量を導入してフリンジスキャンを行う第２の光路とを有する干渉光学系及び対物レンズを経て試料に入射する。試料上には、シャーリングされた参照ビームにより形成される第１の照明領域とフリンジスキャンされた測定ビームにより形成される第２の照明領域が形成される。第１及び第２の照明領域から出射した反射光は、対物レンズ及び干渉光学系を介して２次元撮像装置に入射し、２つの照明領域の画像が合成された干渉画像が形成される。フリンジスキャンにより、２つの画像を構成する反射光間に白色干渉が発生し、干渉信号を検出することで、試料の形状又は孔の深さが測定される。 （もっと読む）

【課題】投影レンズ内の１以上の光学素子の位置をモニタするシステムを提供すること
【解決手段】各々が入力放射から第１の波面及び第２の波面を導出し、かつ、第１及び第２の波面を合成して第１及び第２の波面の経路間の光路長の差に関する情報を備える出力放射を供給するように構成された複数の干渉計１１０，１２０を含み、各々が第１の波面の経路内に位置決めされた反射素子を備え、干渉計の少なくとも１つの反射素子が、第１の物体上に取り付けられる。本システムは、また、複数のファイバ１１１，１２１及び電子制御装置１７０を含む。各ファイバ１１１，１２１は、対応する干渉計１１０，１２０へのに送光、又は、対応する干渉計１１０，１２０からの受光に用いる。電子制御装置１７０は、干渉計１１０，１２０の少なくとも１つからの情報に基づいて、第２の物体に関する第１の物体の絶対変位をモニタする。 （もっと読む）

【課題】被検体の表面から反射光が得られないような場合であっても、被検体の表面性状を確実に測定でき、歩留まり及び製造効率の向上を図ることができる表面性状評価方法を提供する。
【解決手段】ウエハＷをセットしていない状態において、第１参照平面５６で反射された第１参照光と、ウエハＷをセットした状態において、ウエハＷを透過して後に第１参照平面５６で反射された被検光と、に基づいてウエハＷの表面性状を評価することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】参照面と被検面との間の距離の測定に有利な技術を提供する。
【解決手段】光源からの光を２つの光に分割して、一方の光を参照面に入射させ、他方の光を被検面に入射させ、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出する検出部と、距離を求める処理を行う処理部、前記光源からの光の波長を固定しての干渉光である第１の信号と、前記光源からの光の波長を連続的に変更させながらの干渉光である第２の信号、前記第２の信号を周波数解析して前記第２の信号に含まれる周期誤差を算出し、前記第１の信号に含まれる周期誤差と前記第２の信号に含まれる周期誤差との対応関係を表すテーブルを用いて、前記算出された前記第２の信号に含まれる周期誤差に対応する前記第１の信号に含まれる周期誤差を特定し、前記第１の信号から前記特定された周期誤差を減算し、前記参照面と前記被検面との間の光路長に対応する位相を求める。 （もっと読む）

【課題】被測定物までの絶対距離を良好に算出できる絶対距離測定方法を提供する。
【解決手段】絶対距離測定方法は、被測定物が静止した状態で、共振器長を変化させて、レーザ光の波長を変更する波長変更工程Ｓ１Ａ，Ｓ１Ｄ，Ｓ１Ｇと、レーザ光の発振周波数が複数の飽和吸収線の各周波数にそれぞれ合致した各時点での各干渉信号の位相を検出する位相検出工程Ｓ１Ｂ，Ｓ１Ｅ，Ｓ１Ｈと、複数の飽和吸収線の各周波数と各干渉信号の位相とに基づいて、被測定物までの第１の絶対距離を算出する第１絶対距離算出工程Ｓ１Ｊとを備える。 （もっと読む）

【課題】動的干渉計を使用した薄膜形成監視方法の提供。
【解決手段】動的干渉計（dynamic interferometer）を用いた薄膜成長リアルタイム監視方法が開示される。光学監視により成長薄膜スタックの反射係数の時間的位相変化を抽出する。該動的干渉計（dynamic interferometer）は、振動と乱気流の影響を排除し、直接的に成長薄膜スタックの変動位相を検出する方法に使用される。反射率或いは透過率測定と組み合わせて、監視光の垂直入射下でのリアルタイム反射係数が光学アドミタンスと同様に見つけられ、これにより薄膜成長の誤り補償強化に供される。 （もっと読む）