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Fターム[2F064GG49]の内容

光学的手段による測長計器 (11,246) | 光学系 (4,304) | 回折素子 (123)

Fターム[2F064GG49]に分類される特許

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【課題】簡易な構成で広い計測レンジと高い計測精度とを実現した計測装置を提供する。
【解決手段】計測装置は、第1光源、第2光源、第1検出器、第2検出器及び算出部を備える。第1光源は第1波長と第2波長との間で波長が走査された走査区間を含む第1光を生成する。第2光源は第3波長の第2光を生成する。第1検出器は第1光を参照面及び被検面に各々照射することで生成された第1干渉縞を検出する。第2検出器は第2光を参照面及び被検面に各々照射することで生成された第2干渉縞を検出する。第3波長は第1波長及び第2波長の合成波長より短い。算出部は第1時刻において第2干渉縞の位相のデータから第2干渉縞の次数が算出できなくなった場合に、第1時刻より後の走査区間における第1干渉縞の位相の変化に基づいて第1時刻以降における第2干渉縞の次数を算出し、該算出された第2干渉縞の次数を用いて第1時刻以降における被検面の形状を算出する。 (もっと読む)


【課題】検出用走査を行うことなく、ワンショット撮影により、高さ方向のダイナミックレンジの大きい、被検面の1ライン上の微細な凹凸形状情報を容易に取得し得る、形状測定装置および形状測定方法を提供する。
【解決手段】 空間的にインコヒーレントで広帯域スペクトルを有する光を射出する面状の光源10からの照明光を、対物レンズ13A、Bを介して参照面14および被検面20に照射し、得られた参照光と測定光を干渉させ、その干渉光をスリット16Aにより線状に整形し、分光器16により分光し、2次元撮像手段17により得られたスペクトル干渉情報に基づき被検面20の形状を解析する。光源10、被検面20、スリット16A、および光源10、参照面14、スリット16Aは各々互いに共役である。被検面20を介する系路の光路長と、参照面14を介する経路の光路長との間にオフセットが設けられる。 (もっと読む)


【課題】計測装置の測長軸の調整を不要とし、簡便な取り付け及び光学素子の汚染防止の点で有利な技術を提供する。
【解決手段】参照面と被検面との間の距離を計測する計測装置であって、光源からの光を分割させる光分割素子と、前記参照面、前記被検面及び前記光分割素子を内部に収納すると共に、前記内部において前記参照面及び前記光分割素子を固定するハウジングと、前記ハウジングの外部に設けられ、前記光分割素子から前記参照面までの第1の光路長と前記光分割素子から前記被検面までの第2の光路長とが等しくなるときの前記被検面の位置を示す測長基点を表示する第1の表示部と、前記ハウジングの外部に設けられ、前記第2の光の光路に平行な軸を示す測長軸を表示する第2の表示部と、前記参照面と前記被検面からの反射光との干渉信号から前記参照面と前記被検面との間の距離を算出する処理部と、を有することを特徴とする計測装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】 本発明は隣接するスペクトルの重なりの影響を低減することができ、且つ、波数空間上のスペクトルをフィッティングして位相回復を行うよりも少ない計算量で位相回復を行うことができる計算方法、プログラムと、撮像装置を提供すること。
【解決手段】 撮像装置は、シアリング干渉計と、シアリング干渉計により得られる干渉パターンから被検体の情報を算出する算出手段を備える。
算出手段は、干渉パターンを窓フーリエ変換することにより得られる波数空間上の座標におけるフーリエ成分を表す式を3以上用い、それらのフーリエ成分を表す式を連立方程式として解くことで被検体の情報を算出する。 (もっと読む)


【課題】スペックル低減を、拡散板を動かすのではなく、ビームを動かして、質量及びモーメントだけでなく、付随する熱及び振動を低減することにより達成する。
【解決手段】コヒーレント光のスペックルを低減するシステム250において:拡散板286と;少なくとも1つのビームステアラー270および第1軸を有するビームステアリングシステムと;拡散板286とビームステアリングシステムとを相互接続する光学系であって、光を、少なくとも1つのビームステアラー270を介して拡散板286の連続する軸外領域に、そして拡散板286の連続する軸外領域から少なくとも1つのビームステアラー270に誘導することにより、拡散板286の連続する軸外領域からの光の角度分布が、第2軸を略中心とするようになり、かつ第2軸に略揃うようになって、スペックル低減システムから射出する光学系と;を備える。 (もっと読む)


【課題】調整の容易な干渉計測装置を提供する。
【解決手段】撮像素子が受光した全体領域から第1および第2部分領域を抽出し、抽出された第1および第2各部分領域で受光した干渉光の強度を複数の時刻で取得し、各時刻における前記強度のうちの一方および他方をそれぞれX座標値およびY座標値としたときのY座標値の最大値と最小値との差分を第1差分Aとして算出し、X座標値およびY座標値の組み合わせのデータを一次関数で近似した場合の傾きαを算出し、この傾きがゼロとなるようにXY座標系を回転し、回転後のXY座標系におけるY座標値の最大値と最小値との差分を第2差分B’として算出し、δ=asin{(B’/cosα)/A}で表される角度δを算出し、当該角度δを干渉光の位相分布の均一性を示す指標として決定する。 (もっと読む)


【課題】光学試験表面の誤差と適合光学系の誤差とを分離することを可能にする方法及び装置を提供する。
【解決手段】光学試験表面14の形状を判定する方法は、測定ビーム30の波面を適合光学系20により光学試験表面14の所望の形状に適合させ、光学試験表面14の形状を適合済測定ビームにより干渉測定するステップと、適合済測定ビームを光学試験表面に種々の入射角で照射し、測定ビームの波面を光学試験表面14との相互作用後にそれぞれ測定するステップと、個々の入射角ごとに測定された波面からの干渉測定結果に対する適合光学系20の影響を確定するステップと、光学試験表面の形状を、適合光学系20の確定された影響を干渉測定結果から除去することにより判定するステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】対象物の変化量あるいは移動量を外乱の影響なく高精度に求めることが可能な変位計測方法とその装置を提供する。
【解決手段】4つの位相シフト光路を、4分割プリズムとアレイ状に配置したフォトニック結晶λ/4素子及びフォトニック結晶偏光素子とを組み合わせて空間的に並列生成する構成とすることにより、小形の光干渉変位センサを構築し、適用対象を拡大すると共に外乱の影響を受けることなく、対象物の微小変位や表面凹凸をサブナノメートル以下の分解能でかつ高い再現性で測定する。 (もっと読む)


【課題】シアリング干渉測定装置においてシア量を高精度に決定するために有利な技術を提供する。
【解決手段】撮像素子の撮像面におけるシア量が第1の目標シア量S1になるように駆動機構に回折格子を駆動させたときに前記撮像素子によって得られる第1の干渉縞データを複数のシア量のそれぞれを使って処理することによって得られる複数の波面をそれぞれ近似する複数の多項式のそれぞれにおける少なくとも1つの係数と当該複数のシア量との関係を示す直線1を決定し、前記撮像面におけるシア量が第2の目標シア量S2になるように前記駆動機構に前記回折格子を駆動させたときに直線1と同様にして直線2を決定し、直線1、2におけるシア量の差分DDが第1の目標シア量S1と第2の目標シア量S2との差分SDと等しくなる直線1、2におけるシア量S1T、S2Tをそれぞれ真のシア量として決定する。 (もっと読む)


【課題】被検光束のシア量の設定の自由度を向上させるために有利な技術を提供する。
【解決手段】被検光学系からの光の波面を測定するシアリング干渉測定装置は、撮像素子と、前記被検光学系の瞳を前記撮像素子の撮像面に結像させる瞳結像光学系と、前記瞳結像光学系の光路に配置され、前記被検光学系からの光の波面を分割することによって複数の波面を形成する回折格子と、前記回折格子によって分割された複数の波面の間の前記撮像面におけるシア量が変更されるように前記シアリング干渉測定装置の光軸に平行な方向における前記回折格子の位置を変更するための駆動機構とを備え、前記回折格子によって分割された複数の波面によって形成される干渉縞を前記撮像素子によって撮像する。 (もっと読む)


【課題】光路長差が小さくなっても被加工物の厚みまたは上面高さ位置を正確に計測することができる計測装置を提供する。
【解決手段】被加工物保持手段に保持された被加工物の基準面から上面までの距離を計測する計測装置であって、被加工物の上面で反射した反射光と基準面で反射した基準反射光を受光したイメージセンサーからの検出信号に基づいて分光干渉波形を求め、この分光干渉波形における各波長毎の隣接する1またはn個隣の光強度との差を演算して分光干渉差分波形を求め、分光干渉差分波形と理論上の波形関数に基づいて波形解析を実行し、被加工物の上面で反射した反射光の光路長と基準面で反射した基準反射光の光路長との光路長差に基づいて被加工物の基準面から上面までの距離を求める。 (もっと読む)


【課題】
試料表面に非接触で超音波励起を行い、超音波を励起した点を光干渉計測する手段を用いた非接触で試料内部の観察を行うことにより、稼動部分が無く、コンパクトな構成で、高感度で非破壊・非接触に内部欠陥を検査する。
【解決手段】
検査対象の試料から離れた場所から超音波を発射してこの超音波を試料に照射し、この試料の表面の超音波が照射された箇所に偏光の状態が制御された偏光光を照射し、この偏光光が照射された試料の表面からの反射・散乱光のうち照射した偏光光と同じ偏光特性を持つ光を光検出器で検出し、この光検出器で検出した信号を処理して試料の内部の欠陥を検出する内部欠陥検査方法及びその装置とした。 (もっと読む)


【課題】
光干渉を用いた変位計測装置において、プローブ光路と参照光路とが空間的に分離して
いるため、空気の揺らぎ等による温度分布や屈折率分布、あるいは機械振動が生じた場合
、両光路間で光路差が変動し、測定誤差となってしまう。
【解決手段】
プローブ光の光軸と参照光の光軸を外乱の影響を受けない距離まで近接させて、プロー
ブ光を対象物に、参照光を参照面に各々照射し、その反射光同士を干渉させ、生じた干渉
光から対象物の変位量を求める (もっと読む)


【課題】個々の光学要素が理想的に位置決めされていない場合にも、測定エラーを回避でき、更に、基準反射器を軸にして測定光束を旋回できる光学式距離測定機器を提供する。
【解決手段】光源により発光された光束は、基準反射器の中心を軸にして旋回自在である。光源から届く光束を、光束分割要素を介して少なくとも一つの測定光束と基準光束に分割する。少なくとも一つの測定光束は、測定反射器の方向に進み、そして基準光束が、少なくとも一つの測定光束に対して同一線上を基準反射器の方向に進む。測定反射器により測定光束の逆反射が、そして基準反射器により基準光束の逆反射が、光束結合ユニットの方向に行われ、その時に少なくとも一つの測定光束が、測定反射器での反射の前後で基準反射器に対して対称に延伸する。光束結合ユニットが測定光束と基準光束を干渉させる。検知ユニットを介して、距離に関係する干渉信号を検出することができる。 (もっと読む)


【課題】トールボット干渉計のセンサ部の傾きを精度良く調整する。
【解決手段】トールボット干渉計は、光源1から発せられて被検光学系Lを通った光を、回折格子3および撮像素子4を含むセンサ部Mに導き、被検光学系の波面を計測する。該干渉計は、光軸OAに沿った方向における被検光学系とセンサ部との位置関係を、波面の計測時とは異なる位置関係であって被検光学系の像点位置に撮像素子が配置されるように設定する機構7,8と、回折格子からの回折光の撮像素子上での光量分布を該撮像素子を用いて測定する測定部5と、光量分布の測定結果を用いてセンサ部の傾き補正量を算出する補正量算出部5と、傾き補正量に応じた光軸に対するセンサ部の傾き調整を行う機構9とを有する。 (もっと読む)


【課題】回転対称な線織面または互いに離間した複数の平面からなる被検面の傾斜角度、形状および径の大きさ等を短時間で測定可能な被検面測定装置を得る。
【解決手段】円錐レンズ31と回折光学素子32とからなる光偏向素子30を配置し、測定光を照射する。光偏向素子30に入射した測定光の一部は、参照基準面31bにおいて参照光として反射され、その余は光偏向素子30により放射状に偏向されて被検面71の各部に垂直に照射される。被検面71の各部から再帰反射された測定光の一部は、光偏向素子30を経由し被検光として参照基準面31bに戻る。この被検光と参照光の光路長差が低干渉光源11からの出力光の可干渉距離以下となるように迂回路部13における迂回距離の調整がなされ、撮像カメラ23により撮像された干渉縞画像に基づき、被検面71の各部の傾斜角度、形状および径の大きさが測定解析される。 (もっと読む)


【課題】 調整の容易な干渉計測装置を提供する。
【解決手段】 光源から射出された光を2つの光束に分割し該2つの光束を重ね合わせることによって生成された干渉光の強度の変動を観測することによって被検物の変位を計測する干渉計測装置は、複数の部分領域を有する受光領域を備え、前記複数の部分領域のそれぞれで前記干渉光を受光する受光部と、前記複数の部分領域のそれぞれでの受光結果に基づいて、前記受光領域における前記干渉光の位相分布の均一性を示す指標を求める処理部とを備える。 (もっと読む)


【課題】広帯域波での画像形成が可能である空間搬送周波数をインターフェロメトリックシステムであり、散乱媒質中の物体のホログラフィック画像を得る。
【解決手段】時間的、空間的に拡大されたインコヒーレント光源1からの光線は、ウエーブスプリッタ2によって、オブジェクトブランチ2.1とレファレンスブランチ2.2に分割され、前者の光は、第1画像機構3.1、第1スキャニング機構8.1を進行して反射器の第1伝達システム6.1に入射し、Z1〜Z4の平面鏡で反射され、画像出力機構4を経由し出力面7に到達する。後者の光も、第1画像機構3.1第2スキャニング機構8.2を進行し回折格子5を介して反射器の第2伝達システム6.2に入射し、Z6、Z5の平面鏡で反射されて画像出力機構4を経由し出力面7に到達する。βとαとの間の関係は、sin(β) = sin(α)/mである(mは画像出力機構4の倍率)。第1画像機構3.1と第2画像機構3.2との両画像は、光学的に共役である。 (もっと読む)


【課題】小型かつ低価格で高効率なヘテロダイン干渉変位計測装置を提供する。
【解決手段】レーザ光束を一定速度で回転させる回折格子に照射し、互いに異なる次数を有し、かつ、第一の周波数差を有する2つの回折光束を生成し、得られた前記2つの回折光束を同一方向に同軸、かつ、偏光面が互いに直交するような合成光を生成し出力することで、所謂2周波レーザ光源に相当する機能を実現する部分と、前記合成光束を第一の周波数差のままで干渉させて第一の周波数差信号を生成する第1の干渉光学系と、光路長差が零近傍になるように構成された干渉光学系に入射させ、被計測物の変位量に応じて第二の周波数差を有する2つの光束を生成し、それらを干渉させることで第二の周波数差信号を生成し、第1周波数差信号と前記基準周波数差信号との差の情報から前記被計測物の前記変位に関する情報を算出し出力する手段とを有する。 (もっと読む)


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