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Fターム[2F065AA25]の内容

光学的手段による測長装置 (194,290) | 測定内容 (27,691) | 長さ;径;間隙;深さ (3,606) | 段差;深さ (264)

Fターム[2F065AA25]に分類される特許

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【課題】定量化規格化(位相差)顕微鏡装置において、顕微鏡画像の定量化を行うことを課題のひとつとする。また白血球、生体組織や微生物の定量計測により歯周病やう蝕などの疾病に対する診断に役立てる。
【解決手段】微生物、組織、赤血球、白血球などの被観察物における、2次元定量化手段と、試料の厚み計測手段を備えた3次元定量化手段と、電子格子補正手段と、規格化撮像手段などからなる定量化規格化(位相差)顕微鏡装置を構成している。 (もっと読む)


【課題】タイヤの幅方向に延びる横溝と位置合わせする必要なしに、タイヤ横溝を測定する。
【解決手段】レーザ変位センサ14は、測定対象のタイヤ22の円周方向に沿ってタイヤのトレッドブロックの円周方向長さよりも長い測定範囲を持つ。スライド機構は、レーザ変位センサ14をタイヤの幅方向に移動させる。センター合わせ棒18は、一端が路面と垂直な面内で回転可能に本体28に取り付けられ、他端が自由端とされている。スライド機構は、センター合わせ棒18の長軸方向とレーザ変位センサ14の測定方向とが略平行になるようにセンター合わせ棒18に取り付けられている。タイヤ22の中心を通過するようにセンター合わせ棒18の自由端を固定した後、レーザ変位センサ14を動かして測定を開始する。 (もっと読む)


本発明は、光源10からの偏光放射線20によって照らされるサンプル中の光学深さDを評価する光学装置に関する。第1及び第2放射線ガイドは、サンプルから反射された放射線25a, 25bを取り込むように配置されるそれらの端部30a',30b'を持つ。検出器40は、反射された放射線25の第1偏光P_1及び第2偏光P_2、並びに、それぞれ第1(30a)及び第2(30b)放射線ガイドにおける反射された放射線25a, 25bの第1及び第2強度I_1, I_2を測定する。処理手段60はそれから第1(f)及び第2(g)スペクトル関数を計算する。両方のスペクトル関数f, gは、サンプル中の単散乱現象を示す。処理手段60はさらに、単散乱現象がサンプルの中で実質的に同じ光学的深さDから生じるかどうかを評価するために、第1(f)及び第2(g)スペクトル関数の間の相関Cの測度を計算するように配置される。したがって、第1及び第2スペクトル関数の間の因果関係は、2つのスペクトル関数を生じさせる単散乱現象がサンプルの中で実質的に同じ光学深さDに由来するかどうかを評価するために用いられることができる。
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【課題】基板に焦点が合っているか否かを検出するための煩雑かつ複雑な部品を必要としない方法及び装置を提供する。
【解決手段】基板がレンズのスキャトロメータの焦点面内にあるか否かを検出するため、スキャトロメータの光学システムの後側焦点面の前後において、所定値以上の放射の断面エリアを検出する。好ましくは、後側焦点面の前後にある検出位置を、反射した放射のパスに沿って後側焦点面から等距離におくことによって、基板がスキャトロメータの焦点面内にあるか否かを単純な比較により判断することができる。 (もっと読む)


【課題】被検査体のモデルを構築することが困難になっても、高精度に表面欠点の特徴量を算出する表面欠点検査装置を提供すること。
【解決手段】被検査体に光を照射する光照射手段と、前記被検査体を介した透過光または反射光を受光する受光手段と、前記受光手段の受光信号に基づいて前記被検査体の表面欠点を検出する欠点検出手段とを備えた表面欠点検出装置において、前記欠点検出手段は、統計処理に基づいて予め取得した補正情報を用いて前記受光信号を処理することにより、前記表面欠点の特徴量を算出することを特徴とする表面欠点検出装置。 (もっと読む)


【課題】ノッチ形状誤差等によるノッチ位置決め誤差が補正でき、半径方向結晶方位の測定の精度が高い結晶方位測定装置を提供する。
【解決手段】円筒状結晶2をその円筒軸に対し回転させる回転部11と、円筒状結晶2を回転し、円筒状結晶2の周側面に設けられたノッチ2aを基準に円筒状結晶2を位置決めする位置決め部12と、円筒状結晶2が位置決めされると、回転軸に対するノッチ2の位置を測定するノッチ測定部12と、周側面にX線を照射して半径方向の結晶方位を測定する結晶方位測定部13と、結晶方位測定部13で測定した結晶方位をノッチ測定部12で測定したノッチの位置で補正して半径方向の結晶方位を求める補正部142とを備える。 (もっと読む)


【課題】ウエーハの厚みや上面高さを確実に計測することができる計測装置およびこの計測装置を装備したレーザー加工機を提供する。
【解決手段】レーザー光線を集光しチャックテーブルに保持されたウエーハに照射する集光器と、照射されたレーザー光線の反射光受光手段と、集光器によるレーザー光線の集光点変更手段と、集光点変更手段からの変更信号と受光手段からの信号に基いてウエーハの厚みを測定する制御手段を具備し、制御手段は集光点変更手段を構成する一対のミラーの2つの設置角度の差とウエーハの厚みとの関係を設定した厚み制御マップを備え、一対のミラーの設置角度を変更する角度調整アクチュエータによって設置角度を変更しつつ受光手段から2つの強い光量のピークを検出し、2つの強い光量のピークを入力したときの設置角度検出センサーの検出信号に基いて設置角度の差を求め、設置角度差を厚み制御マップと照合してウエーハの厚みを求める。 (もっと読む)


第1のモードおよび第2のモードで動作するように設定された干渉計システムを備える装置を開示する。この際、第1のモードは、試験光による試験対象物の異なる照射角に対応する、第1セットの複数の干渉計シグナルを生成し、第2のモードは、試験対象物の異なる表面位置に対応する、第2セットの複数の干渉計シグナルを生成する。干渉計システムに連結される電子プロセッサは、第1のセットの干渉計シグナルを受けるよう設定されており、かつ第1セットの複数の干渉計シグナルから導き出せる情報を試験対象物の複数のモデルに相当する情報と比較して、試験対象物の1つ以上の特徴を測定し、かつ情報を出力するようプログラムされている。一部の実施形態は、解像限界以下の特徴を含む。
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【課題】入射光を散乱する性質を有する対象面において周囲に対して凸状または凹状となる欠陥を容易に精度よく検出する。
【解決手段】欠陥検出装置1は、板金加工物である対象物9の対象面91上にフラッシュ光である光束81を導く光照射部2、光の照射方向とは反対側に配置されて対象面91を撮像する撮像部3、および、対象物9を光照射部2および撮像部3に対して相対的かつ連続的に移動する移動機構4を備え、対象物9が連続的に移動する間に光の照射および撮像が繰り返される。光照射部2の光軸J1と撮像領域の法線Nとのなす角θ1は70°以上90°未満とされ、撮像部3の光軸J2と法線Nとのなす角θ2は0°以上42°以下とされる。さらに、撮像領域の各位置に入射する光の入射方向の範囲の半角が0°以上3°以下とされる。これにより、撮像部3により取得された画像中の影として対象面91上の欠陥を容易に精度よく検出することができる。 (もっと読む)


【課題】 アニール対象物のレーザビーム入射位置の溶融部分の深さを、非接触で計測する技術を提供する。
【解決手段】 アニール用レーザ光源が、ステージに保持されたアニール対象物にアニール用パルスレーザビームを入射させる。アニール対象物の表面のうち、アニール用パルスレーザビームが入射した領域に、測定用光源から測定用レーザビームが入射される。反射光検出器が、測定用レーザビームの反射光の強度を検出する。制御装置が、反射光検出器で検出された反射光の強度の時間変化に基づいて、アニール対象物が、アニール用パルスレーザビームの入射によって一時的に溶融した部分の溶融深さを算出する。 (もっと読む)


【課題】プラズマガスによって鋳鋼片の表層を溶融処理している間に溶融深さを測定する。
【解決手段】鋳片Hを搬送方向Bに沿って移動させながらその表面に対してプラズマトーチT1から照射されるプラズマガスによって加熱溶融しているときに、プラズマガスのガス流量を調整して、溶融金属Qを溶融部から追い出して窪みZを形成する。窪みZの中心部分に対してレーザー照射装置32によってレーザー光を照射して、プラズマアークPよりも輝度が高いレーザースポットSを形成する。レーザースポットSの鉛直方向の変位変動を測定し、当該変動の変動幅が所定値以下になったときのレーザースポットSの鉛直方向の変位によって、溶融深さLを測定することができる。 (もっと読む)


【課題】2次元状に受光素子が配置された光学式変位計において、ワークに応じて安定した受光量を得ることを可能とする。
【解決手段】測定対象物からの帯光の反射光を受光して、第1の方向の各位置における受光信号として出力するための2次元受光素子と、増幅器で得られた増幅信号の、第1方向における各ピークの分布が所定の範囲内となるように、投光部3の発光量及び増幅器の増幅率を含む操作量の少なくともいずれかのパラメータを制御するための受光レベル制御手段61と、測定対象物の変位を測定する測定モードと、受光レベル制御手段61の操作量を設定する設定モードとを切り替えるためのモード切替手段53とを備え、設定モードにおいて、予め測定対象物に対して投光部3で帯光を照射し、第1の方向の各位置における増幅信号のピークの分布状態を測定し、受光レベル制御手段61が、第1の方向における分布状態に応じて操作量を調整することができる。 (もっと読む)


【課題】界面に物理的な凹凸や構成元素の拡散による中間層が存在する場合であっても、界面情報を正確に検出することが可能な薄膜積層体及び界面検出方法を提供すること。
【解決手段】基材と、前記基材表面に形成された1又は2以上の薄膜と、基材−薄膜間、又は、薄膜−薄膜間の少なくとも1つの界面に形成されたマーカとを備えた薄膜積層体、及び、この薄膜積層体をグロー放電発光分光分析装置に設置し、前記薄膜積層体の表面をスパッタリングする第1工程と、前記薄膜積層体の表面から飛び出し、かつ、プラズマ中で励起された粒子が基底状態に戻る際に放出する光を集光し、集光された光を分光する第2工程と、前記分光された光の内、前記薄膜積層体の界面に形成されたマーカに対応する光を検出する第3工程とを備えた界面検出方法。 (もっと読む)


【課題】受光画像の視認性を高め、プロファイルの確認を容易にする。
【解決手段】投光部からの照射光の反射光により、第1の方向の各点において増幅器で得られた増幅信号に基づき生成された受光画像を表示するための表示部と、受光画像に対し、画素毎の受光信号の階調を、複数の範囲に区分けし、範囲毎に異なる色を割り当て、受光画像の画素毎に、その階調に割り当てられた色を着色する着色処理を施した状態で表示部に表示可能な受光画像着色手段とを備えることができる。これにより、受光信号の階調幅毎に着色することで、受光画像が等高線図のように表示され、着色された階調幅の粗密によって受光分布勾配が急峻であるか、緩やかであるか等が認識し易くなり、プロファイルの傾斜の度合い等を視覚的に把握できる。 (もっと読む)


本発明は、三次元輪郭の非接触検出のための装置に関する。装置は、イメージング素子(1)を有するプロジェクタと、イメージング素子(1)上に生成されたストライプパターンを物体空間(3)内にイメージングする投影レンズ(2)とを備える。本発明は、2つのカメラレンズ(4)を有し、物体区間(3)を2つの異なる方向から監視するカメラ配列もさらに備える。プロジェクタおよびカメラ配列は、手に持てる測定ヘッド内に共に収容される。本発明は、さらに、当該装置を用いてs何次元輪郭を検出する方法にも関する。 (もっと読む)


【課題】所望の反射光を確実に補足して高精度な検出を可能とする。
【解決手段】測定対象物に光を第1の方向に広がりを有する帯状の光として照射、又は第1の方向に走査して照射するための投光部と、測定対象物からの反射光を受光して、第1の方向の各位置における受光信号として出力するための2次元受光素子と、2次元受光素子からの受光信号を増幅するための増幅器と、増幅器で増幅された受光信号に基づき生成された受光画像を表示可能な表示部と、表示部上で表示された受光画像に対して、測定対象から排除する受光マスク領域を指定するためのマスク領域指定手段とを備える。 (もっと読む)


【課題】形状検出感度と形状検出精度が高く、電磁波照射方向の形状寸法を検出できる方法及び装置を提供すること。
【解決手段】検査対象部材を透過する波長のテラヘルツパルス光を検査対象部材の少なくとも二つの異なる部位に照射する照射工程と、照射工程で照射され検査対象部材の複数の異なる部位を透過したテラヘルツパルス光の電場振幅時間分解波形をそれぞれ部位毎に検出する検出工程と、を有し、検出工程で検出された電場振幅時間分解波形の位相情報から検査対象部材の形状を検査することを特徴とする形状検査方法。 (もっと読む)


【課題】エラー発生のプロセスを詳細に解析するのに適した光学式変位計を提供する。
【解決手段】増幅器で得られた受光信号の、第1方向における各ピークの分布が所定の範囲内となるように、投光部の発光量及び増幅器の増幅率を含む操作量の少なくともいずれかのパラメータをフィードバック制御するための受光レベル制御手段と、受光レベル制御手段で制御される操作量又は受光量が所定値を越える場合に、アラーム信号を出力するためのアラーム検出手段と、プロファイル形状及び/又はトレンドグラフを、取得した時間情報と共に保存し、さらにアラーム検出手段がアラーム信号を出力した期間を記録するためのメモリ部とを備え、アラーム検出手段がアラーム信号を出力した期間を、表示部のトレンドグラフ表示領域においてトレンドグラフ上に表示可能に構成している。 (もっと読む)


【課題】2次元状に受光素子が配置された光学式変位計において、ワークに応じて安定した受光量を得ることを可能とする。
【解決手段】測定対象物からの帯光の反射光を受光するための2次元受光素子と、増幅器で得られた増幅信号の、第1方向における受光信号波形のピークレベルの分布が所定の範囲内となるように、投光部3の発光量及び増幅器の増幅率を含む操作量の少なくともいずれかのパラメータをフィードバック制御するための受光レベル制御手段61と、測定対象物の変位を測定する測定モードと、受光レベル制御手段61の操作量を設定する設定モードとを切り替えるためのモード切替手段53とを備え、設定モードにおいて、予め測定対象物に対して投光部3で帯光を照射し、第1の方向の各位置における増幅信号のピークの分布状態を測定し、受光レベル制御手段61が、第1の方向における分布状態に応じて操作量を調整する。 (もっと読む)


【課題】フォトレジストに対する光計測を用いた測定の精度を改善する方法及びシステムを提供する。
【解決手段】光学的に調節可能なソフトマスク(OTSM)中の構造体からの信号を計測装置によって測定することで、測定信号が生成される工程610;測定信号と改善されたプロファイルライブラリ内の複数の改善された信号とを比較する工程であって、改善されたプロファイルライブラリ内の改善された信号が改善された波長の組によって特徴付けられる工程620;及び一致条件が見つかったときには、その一致条件に関連する改善されたプロファイル形状を用いることによって集積回路構造を特定630し、一致条件を見つけることができなかったときには、第1補正作用を適用640する工程、を有する。 (もっと読む)


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