光学測定を用いた、ウェハ上に形成された構造の形状ラフネスの測定に使用されるシミュレート回折信号を、構造の初期モデルを定義することにより生成する。形状ラフネスの統計関数が定義される。その統計関数に基づいて統計ゆらぎが導出され、構造の初期モデルに重ね合わされて構造の修正モデルを定義する。その構造の修正モデルに基づいて、シミュレート回折信号が生成される。
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総じて、一態様では、本発明は、干渉部品と測定物体との間の距離を、３本の異なる測定軸の各々に沿って、測定物体を光学干渉部品に対して移動させながら、干渉法を利用して監視するステップと、測定物体の監視距離からの異なる位置に対する第１パラメータおよび第２パラメータの値を決定するステップであって、所与の位置に対して、第１パラメータは、所与の位置において３本の異なる測定軸の各々に沿った測定物体の監視距離に基づき、所与の位置に対して、第２パラメータは、所与の位置において測定軸の内２本の各々に沿った測定物体の監視距離に基づく、ステップと、第１および第２パラメータ値から測定物体の表面形状プロファイルに関する情報を導出するステップとを含む方法を特徴とする。
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本発明は、基板の上に配置された膜の特性を測定する方法およびシステムを提供することを対象とする。該方法は、膜の上において複数の処理領域を識別することと、複数の処理領域のサブセットの特性を測定することと、測定された特性を確定することと、測定された特性の１つの変化を決定することと、測定された特性の１つと、サブセットの残りの処理領域に関連付けられる測定された特性との比較に基づいて、変化の原因を関連付けることとを含む。該システムは、上述された方法を実施する。
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一般的に、一態様において、本発明を特徴付ける装置は、少なくとも３本の出力ビームを生成するように構成された多軸干渉計を含む。各出力ビームは、対応する測定軸に沿っての干渉計と測定物体との間の距離についての干渉分光情報を含み、少なくとも３本の測定軸は共通面内にあり、各出力ビームは、共通のビーム経路に沿って測定物体までの光路を形成する成分を含む。
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【課題】例えば欠陥を探しての試料の検査のあいだ、試料を照射する方法および装置を提供する。
【解決手段】ある局面において、照射装置は、それぞれ第１端および第２端を有する光ファイバの束を含む。照射装置は、１つ以上の入射ビームを、光ファイバの１つ以上の対応する第１端に選択的に伝達することによって、選択された１つ以上の入射ビームがファイバの１つ以上の対応する第２端から出力されるようにする照射セレクタをさらに含む。照射装置は、ファイバの対応する１つ以上の第２端から出力された選択された１つ以上の入射ビームを受け取り、選択された１つ以上の入射ビームを試料に向けて導くレンズ構成も含む。レンズ構成およびファイバは、ファイバの第２端において試料の画像化平面を画像化するよう互いに対して構成される。ある局面において、入射ビームはレーザビームである。本発明の具体的な応用例において、試料は、半導体デバイス、半導体ウェーハ、および半導体レチクルからなるグループから選択される。 （もっと読む）

光学部材を備えた可動ステージの構造を複雑にすることなく、その光学部材の温度を制御できるステージ装置である。レチクル（Ｒ）を保持するレチクルステージ本体（２２）をＹ軸リニアモータ（７６Ａ，７８Ａ，７６Ｂ，７８Ｂ）を用いてレチクルベース（１６）上でＹ方向に駆動する。レチクルステージ本体（２２）の端部の光学部材支持部（２４Ｂ２）上の光学系（３２）を介して、レチクルベース（１６）上に固定された固定鏡（ＭＸ）に計測用レーザビームを照射して、レチクルステージ本体（２２）のＸ方向の位置を計測する。光学系（３２）の温度を安定化するために、光学部材支持部（２４Ｂ２）の底面に空気層（３５）を介してロッド部材（２７）を固定し、ロッド部材（２７）内に温度制御された冷媒を供給する。
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本発明の側面は、マイクロ電子フィーチャのアレイの対称性／非対称性を測定するための方法及び機構を提供する。本発明の一実施形態は、マイクロ電子デバイスにおける三次元構造の非対称性を測定する方法を提供する。本方法により、光は、マイクロ電子デバイスのマイクロ電子フィーチャのアレイに向けられる。光は、複数のマイクロ電子フィーチャの全長及び全幅を含むアレイの一部を照射する。アレイから散乱し戻された光は、一又はそれ以上の反射角、一又はそれ以上の波長、或いはそれらの組み合わせから成る群より選択された条件で検出される。本方法はまた、反射の余角からのデータを調べることを含む操作を実行することにより、戻り散乱光の一又はそれ以上の特性を調べることも含む。
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基板及び被覆膜を有するオブジェクト及びフォトリソグラフィ装置の一部分の互いに対する位置を決める装置は、フォトリソグラフィ・システムと、ポジショナーと、光学システムと、プロセッサと、を備える。フォトリソグラフィ・システムは、オブジェクトの一部分を第１光パターンで照射するように構成され、かつ基準表面を含む。ポジショナーは、フォトリソグラフィ・システムとオブジェクトとの間の相対位置を変えることができる。光投影装置は、第２光パターンをオブジェクトの被覆薄膜に投影するように構成されている。光学システムは、基板によって拡散散乱される第２光パターンの光を撮像する。プロセッサは、オブジェクトの空間特性を拡散散乱光に基づいて求め、かつポジショナーを動作させてフォトリソグラフィ・システムとオブジェクトとの間の相対位置を変えさせるように構成されている。
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物体の空間的特性を決定するための方法には、２つ以上の界面を含む測定物体からの走査低コヒーレンス干渉信号を得ることが含まれる。走査低コヒーレンス干渉信号には、２つ以上の重なり合う低コヒーレンス干渉信号（それぞれ個々の界面に起因する）が含まれる。低コヒーレンス干渉信号に基づいて、少なくとも１つの界面の空間的特性が決定される。場合によって、決定は、低コヒーレンス干渉信号のサブセットに基づき、信号の全体に基づくのではない。あるいはまたは加えて、決定は、低コヒーレンス干渉信号を得るために用いられる干渉計の機器応答を示す場合があるテンプレートに基づくことができる。
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本発明は、
-像焦点面における物体の基本的な表面の光学フーリエ変換像を形成する手段と、
-検出手段によって提供された情報から少なくとも１つの物体の寸法的および／または構造的な特徴に関連するデータを生成する処理手段と、
を含むことを特徴とする、物体の寸法的または構造的な特徴を測定するための装置に関する。
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一般的に、第１の態様において、本発明の特徴は、ステージ上のアライメント・マークの箇所を決定するための方法であって、干渉計とミラーとの間の経路に沿って測定ビームを送ることであって、少なくとも干渉計またはミラーがステージ上に載置される、測定ビームを送ること、測定ビームを他のビームと組み合わせて、ステージの箇所についての情報を含む出力ビームを生成すること、出力ビームから、第１の測定軸に沿って、ステージの箇所ｘ_１を測定すること、第１の測定軸に実質的に平行な第２の測定軸に沿って、ステージの箇所ｘ_２を測定すること、ミラーの表面変化を異なる空間周波数に対して特徴付ける所定の情報から補正項Ψ_３を計算することであって、補正項に対する異なる空間周波数からの寄与を、異なる仕方で重み付けする、補正項Ψ_３を計算すること、第１の測定軸に平行な第３の軸に沿って、アライメント・マークの箇所を、ｘ_１、ｘ_２、および補正項に基づいて決定すること、を含む方法である。
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一態様において、本発明は方法に特徴があり、その方法は、干渉分光法システムにおける干渉計を用いて、第１ビーム経路と第２ビーム経路との間の光路差に関係づけられる位相を含む出力ビームを生成することであって、第１ビームは第１の箇所における測定物体に接触し、第１ビームまたは第２ビームは第２の箇所における測定物体に接触し、第１の箇所および第２の箇所は異なる、出力ビームを生成すること、第１の箇所における測定物体の不完全性に起因し、かつ第２の箇所における測定物体の不完全性に起因するずれであって、第１ビーム経路または第２ビーム経路の公称ビーム経路からのずれによって生じる光路差への影響に対処する事前校正済み情報を提供すること、出力ビームから得られる情報および事前校正済み情報に基づいて、少なくとも１つの自由度について測定物体の位置を決定すること、を含む。
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パターン化と非パターン化ウェハの検査システムを提供する。１つのシステムは、検体を照明するように構成された照明システムを含む。システムは、検体から散乱された光を集光するように構成された集光器をも含む。加えて、システムは、光の異なる部分に関する方位と極角情報が保存されるように、光の異なる部分を個別に検出するように構成されたセグメント化された検出器を含む。検出器は、光の異なる部分を表す信号を生成するように構成されていてもよい。システムは、信号から検体上の欠陥を検出するように構成されたプロセッサを含むこともできる。他の実施形態におけるシステムは、検体を回転・並進させるように構成されたステージを含むことができる。１つの当該実施形態におけるシステムは、検体の回転および並進時に、広い走査パスで検体を走査するように構成された照明システムを含むこともできる。
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【課題】 装置内部の可動テーブルの位置を正確に求めるために、１つ、任意選択で２つ以上のカラー干渉計デバイスを使用するリソグラフィ投影装置を提供すること。
【解決手段】 この装置は、前記可動テーブルの少なくとも一部を収容する空間にパージ・ガスを供給するためのフラッシング・ガス手段を備え、パージ・ガスは、干渉計デバイスの動作領域内へのパージ・ガスの漏れが干渉計測定値の有意な誤差をもたらさないように選択される。 （もっと読む）