塗料被膜内の欠陥を検出するシステムは、表面及びその表面に塗布された被膜の温度を変更するよう構成された温度調節装置を含む。このシステムは、さらに、被膜内の異常を判断するよう、表面及び被膜の温度変化（時間の経過に伴う）を測定するための赤外線センサと、表面及び被膜の測定された温度変化と予想される温度変化（時間の経過に伴う）とを比較するためのプロセッサとを含むことがある。欠陥を判断する自己参照方法も開示されており、これによれば、周囲のピクセルが、それぞれのピクセルの温度変化を計算するための検出プロセスにおける基準として利用される。その上、接着界面を検査するための本発明による態様の適用形態も開示されている。 （もっと読む）

【課題】反射防止フィルムの欠陥検出を自動的に行う装置および方法を実現する。
【解決手段】本発明によれば、反射防止フィルム４０の被検部位に少なくとも可視光領域を含む検査光ａ，ｂを照射する光源部１と、検査光が被検部位で反射してなる反射光ｅから、フィルム面の法線方向に対して平行に進む平行光成分ｆを抽出する光学系１３と、平行光成分を複数の波長成分光に分光する色分解プリズム１４と、分光された各波長成分光をそれぞれ撮像する撮像デバイス２０〜２４と、各撮像デバイスによって撮像された撮像データから被検部位における各波長成分光の光強度と波長との相関曲線を求め、相関曲線において、被検部位のフィルム厚の変動に対する光強度の感度が大きな波長における光強度と、予め知られている良品の被検部位に対応する部位の相関曲線から得られる当該波長における光強度との差に基づいて、被検部位のフィルム厚を求める処理部４とを備える。 （もっと読む）

真空処理エンクロージャ（１）内に置かれたシリコンウェーハ（３）の厚さを、光学装置（５０）を用い窓（４）を通して測定あるいはモニタリングする。光学装置（５）は、狭いバンド幅を維持しながらもある波長範囲にわたってチューニング可能なレーザを有する。光学装置（５）は、また反射光を受ける検出器をも有する。波長の変化が干渉効果を生ずるので、これを利用してかつ検出器の出力を精査することによって厚さその他の各種パラメータを得ることができる。
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【課題】 基板の表面に異物が存在するか否かを検査する。
【解決手段】 基台１上に設けられた口金部２と、図示しない駆動源によって所定方向に往復動可能な基板支承台３と、基板支承台３に吸着状態で支承される基板４と、口金部２と平行に半導体レーザー光を、所定の広がりを有する状態で照射する投光器５と、この半導体レーザー光を受光する受光器６とを有している。 （もっと読む）

【課題】
最上層のパターン、特にホールパターンの検査を、高いＳ／Ｎ比で行うことができる欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】
照明光Ｌ１によって照明されたウエハ２からは回折光Ｌ２が生じ、受光光学系４に導かれて集光され、回折光Ｌ２によるウエハ２の像を本発明の撮像手段としての撮像素子５上に結像する。画像処理装置６は、撮像素子５で取り込んだ画像の画像処理を行って、欠陥を検出する。偏光板７は、照明光Ｌ１がＳ偏光でウエハ２を照明するし、かつその振動面とウエハ２のとの交線がウエハ２に形成された配線パターンと平行、又は直交するようにされ、偏光板８はウエハ２からの回折光のうちＰ偏光の直線偏光を取り出すように調整されている。こうすることでホールパターンの検査を、その下に存在する配線パターンと区別して検査することが可能になり、表層の欠陥をＳ／Ｎ比の良い状態で検査することができる。 （もっと読む）

【課題】屈折率の分散を反映した反射スペクトルを用いて高速フ−リエ変換により得られた振動周期により高速で高精密度に膜厚を測定する装置を提供する。
【解決手段】本発明による改善した高速フ−リエ変換を利用した膜厚さの測定装置は、光源と、光源から放出された光を一側で受け試料表面に照射させ、反射した光を受けて他側に放出させる光ファイバと、光の倍率を調節するレンズとで構成された受光部と、試料表面からの反射光を各波長の光強度（スペクトル）によって分割する分光器と、各波長の光量を提供する光測定素子の配列とで構成された検出部と、検出部で検出された波長別スペクトルデ−タをデジタル信号に変換する変換部と、変換部を通じて変換されたデ−タを屈折率分散を反映した高速フ−リエ変換に基き振動数を求める演算部と、演算部で求められた振動数により膜厚測定及び分析してディスプレイする分析部とで構成されされる。
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【課題】 平面を有する対象物に異物などが混入した欠陥、特に異物による平面上の膜厚変動の欠陥を自動的に検出することのできる、欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】 検査光を検査対象物に照射し、検査対象物において偏光分離された反射光を受光し、受光した反射光の光成分を光電変換して各偏光成分の値を示す干渉データを生成し、干渉データに基づいて、検査対象物の表面の欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】 透明膜で覆われた測定対象物の透明膜の膜厚、表面高さ、および測定対象物の表面高さを精度よく求める。
【解決手段】 予め求めた干渉縞の物理モデルに基づいて、透明膜の膜厚および表面高さを求める計算アルゴリズムと、実測によって取得した干渉縞の強度値に基づく各画素における複数個の強度値を利用して求めた干渉縞波形の直流成分、正弦成分の振幅、および余弦成分の振幅とを利用することにより、透明膜で覆われた測定対象物の透明膜の膜厚、透明膜の表面高さ、および測定対象面の表面高さの少なくともいずれか１つを求める。 （もっと読む）

【課題】フラットディスプレイパネルの塗布膜の表面形状を短時間かつ低コストで検査する。
【解決手段】点光源２０と、点光源２０から発せられた光の光路に設けられたハーフミラー２１と、ハーフミラー２１を経由した光を平行光２３に変換して塗布膜１４に照射するとともに塗布膜１４からの反射光２４を集光するように配置されたフレネルレンズ２２と、フレネルレンズ２２により集光されハーフミラー２１により点光源２０とは別の光路に導かれた反射光２４、２４ａ、２４ｂを結像させるための結像レンズ２５と、結像レンズ２５により結像された光学像を観察するＣＣＤカメラ２６とを有する。 （もっと読む）

【課題】 この発明は、スペクトルの透過および／または反射の測定によって光学層または層組織の物理的特性を決定するための方法に関する。
【解決手段】 スペクトルの透過および／または反射の測定に従って、波長に依存する屈折率ｎ₀および／または消衰係数ｋ₀に関する基準値が既知の値から選択されるかまたは実験的に求められ、層を特徴付ける変分は、屈折率および吸光係数に関する波長依存変分定数Ｋ_nおよびＫ_kにより記述される。 （もっと読む）

本発明は、複数の狭小金属領域を有する構造を評価する方法に関し、各領域は、第2の非金属材料を有する隣接領域間に設置される。本方法は、熱グレーティングを形成するため、励起ストリップで構成される空間周期励起場を用いた照射によって、前記構造を励起するステップを有する。さらに本方法は、熱グレーティングの生じない検出レーザー光線を回折させて、信号光線を形成するステップと、時間の関数として信号光線を検出して信号波形を形成するステップと、信号波形の熱成分に基づいて少なくとも一つの構造特性を決定するステップと、を有する。
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【課題】貼り合わせウェーハ外周のテラス部の幅を簡単かつ正確に測定できる貼り合わせウェーハの評価方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、ベースウェーハとボンドウェーハとを貼り合わせた後、ボンドウェーハを薄膜化してベースウェーハ上に薄膜を形成した貼り合わせウェーハを評価する方法であって、光源から発した光を貼り合わせウェーハの表面で反射させ、該反射した光を受光面に投影させる魔鏡法により、貼り合わせウェーハ表面の投影像を得て、該投影像を用いて、貼り合わせウェーハの外周部に存在する前記ベースウェーハ上に前記薄膜がないテラス部の幅を測定することを特徴とする貼り合わせウェーハの評価方法。 （もっと読む）

【課題】蛍光体ペースト塗布工程直後に塗布工程の状態を検査することで塗布工程に発生した連続欠陥の原因となる不具合を迅速に発見し、不良品となりロスとなる基板数を最小限に抑え、速やかに工程を復旧させることを可能にするディスプレイパネルの検査方法および検査装置並びにそれらを用いた製造方法を提供する。
【解決手段】高さ測定手段を有し、基板に所定の間隔で複数本塗布された液状材料と交差する方向へ、基板、または高さ測定手段を移動させながら、液状材料塗布部を含む基板面の高さ測定を離散的に行い、得られた離散高さ形状信号間を補間して求められた高さ形状信号から液状材料毎の高さを抜き出して連ねた高さ信号を検査信号とし、検査信号より液状材料毎の塗布量を測定することを特徴とするディスプレイパネルの検査方法、および検査装置並びにそれらを用いた製造方法。 （もっと読む）

【課題】例えば、半導体製造プロセスやＦＰＤ製造プロセス等におけるインライン計測に好適なエリプソメトリ方式の薄膜計測装置を提供すること。
【解決手段】投光側光学系には、光源（２１）と、コリメータレンズ（２２）と、偏光子（２３）と、回転式移相子（２４）と、スリット板（２０）と、集光レンズ（２５）とが含まれる。受光側光学系には、コリメータレンズ（２６）と、検光子（２７）と、傾斜膜（２８）と、一次元ＣＣＤ（２９）とが含まれる。コリメータレンズ（２６）と一次元ＣＣＤ（２９）の受光面とは平行であり、かつそれらの距離はほぼレンズ（２６）の焦点距離（ｆ）とされる。それにより、距離バタツキ及び角度バタツキに対する耐性が向上する。 （もっと読む）

【課題】 塗布条件を制御して塗布量を調整し、コート膜厚を最適化した高品位の静電潜像現像用キャリアを得る事が可能な静電潜像現像用キャリアの製造方法等の提供。
【解決手段】 コート膜塗布液を作製する工程と、
芯材である微粉体上にコート膜を光透過性の膜として塗布・乾燥させるコート膜形成工程と、
前記コート膜形成工程で塗布・乾燥された未硬化の状態で微粉体界面とコート表面との距離を膜厚として測定する膜厚測定工程と、
前記膜厚測定工程後に塗膜を硬化するコート膜焼成工程と、
冷却後解砕する工程とを備え、
前記膜厚測定工程における膜厚測定を局所計測可能な膜厚測定ユニットを用いて行い、前記膜厚測定工程で測定された膜厚に基づいてコート条件を制御しつつ前記コート膜形成工程を実行することを特徴とする静電潜像現像用キャリアの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】多層膜の膜厚の合わせこみを正確に、サンプリグ間隔が長くならず、且つ廉価に行う多層膜の膜厚制御方法、及び成膜装置を提供する。
【解決手段】１）予め、目標とする多層膜、及び各層を変動させて得られた各多層膜に、入射角を変化させて入射光を照射した際の、各反射光の色度座標を色度図上に目標とする多層膜の色度点、及び各多層膜の色度点としてプロット、２）製造された多層膜に、入射角２以上の入射光を照射した際の、各反射光の色度座標を色度図上に製造された多層膜の色度点としてプロット、３）両色度点を対比し、製造された多層膜のどの層の膜厚が、どれだけ変動しているかを判断、４）多層膜の製造条件を補正、製造する多層膜の膜厚制御する。 （もっと読む）

【課題】 膜厚取得方法に関し、受光装置固有の色空間を表す系に対して対応性を良好にするとともに、簡単な構成により平板上に設けた薄膜の膜厚の面内分布を高速に取得する。
【解決手段】 波長の分布が広範囲にわたる光源からの照射光を測定対象物である基板上に設けた被膜に入射させ、被膜からの干渉を起こした反射光を受光装置により測定し、測定した反射光の波長毎に干渉光の強度が極大，極小をとる膜厚が異なることによる干渉光の色の変化を、ＮＴＳＣ規格で定義される色相を基準として検出することによって被膜の膜厚を取得する。 （もっと読む）

【課題】 測定対象たる板状体の材質、硬度、及び面積によらずに、常に正確に、かつ、迅速に厚さ測定を行う。
【解決手段】 参照面によって反射された光と、参照面を透過した後に所定位置に配置した透明板状体の裏面によって反射され、再び参照面を透過した光と、によって得られる干渉縞の球面収差成分を用いて、基準基板における厚さと球面収差との関係に基づいて、透明板状体の厚さを算出する。 （もっと読む）

【課題】１回の測定で複数のデータを処理して１個の基板の膜厚測定の短時間化を図ることが可能な分光膜厚測定装置を提供する。
【解決手段】液晶カラーフィルタ基板Ｂのカラーパターン内部及びパターン無し部のレジスト等の膜厚を測定及び分光特性を測定する分光膜厚測定装置である。一つの光源装置１から複数の測定部へ測定光Ｌ１を照射する。複数の測定部からの各反射光Ｌ２がイメージング分光器１２に入射して、各反射光をそれぞれ独立に分光する。 （もっと読む）

透明膜測定技法が開示される。
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