【課題】多層ディスク等の多層構造体の被測定物について分光干渉法で正確な膜厚測定ができるようにする。
【解決手段】
波長帯域幅を持つ光を、被測定物の表面側から斜め方向となる入射角θiで照射させ、第１の反射膜（記録層Ｌ０）の反射光と第２の反射膜（記録層Ｌ１）の反射光との干渉光から、第１の反射膜と上記第２の反射膜の間の膜厚（スペーサ層の膜厚）を算出するとともに、第２の反射膜の反射光と表面の反射光との干渉光から、第２の反射膜と上記表面の間の膜厚（カバー層の膜厚）を算出する。入射角は、第１の反射膜の反射光と第２の反射膜の反射光との干渉光の特定の高調波成分の光強度より、第２の反射膜の反射光と上記表面の反射光との干渉光の光強度が大きくなる入射角とする。 （もっと読む）

【課題】長時間の運転によるリング外周の摩耗の影響を受けることのない油膜厚さの測定方法を提供する。
【解決手段】シリンダ壁（４）を摺動するピストンリング（１２）の外周に二段の溝（１３）を形成すると共に、ピストンリング（１２）が、シリンダ壁（４）に臨ませている光ファイバー先端（３１ａ）近傍を通過するときに、この光ファイバー先端（３１ａ）よりレーザーの発生する励起光を光ファイバー先端（３１ａ）とピストンリング（１２）外周の第１、第２の溝との間に存在する潤滑油に向けて照射する手順と、この照射を受けて、光ファイバー先端（３１ａ）とピストンリング外周の第１、第２の溝との間に存在する潤滑油中の蛍光剤により発する第１、第２の光の強さを測定する手順と、これら測定された第１と第２の光の強さの差に基づいてピストンリング（１２）とシリンダ壁（４）との間に形成される油膜厚さを測定する手順とを含む。 （もっと読む）

【課題】 酸化膜が形成される前に重量や表面積を評価することを必要とせず、また、酸化膜形成後も、重量の評価や、切断、研磨をすることなく、局所的な領域、または広い範囲の領域における酸化膜厚さを簡便にかつ非破壊的に測定することができる方法を得ること。
【解決手段】 金属表面に生成する酸化膜の厚さに対応する輝度を有する複数のスケール１を、表面に酸化膜が形成された測定対象物２に隣接して配置し、上記測定対象物の表面輝度を上記スケールの輝度と照合し、上記測定対象物の表面輝度と一致する輝度を有するスケールを選定することにより、酸化膜の厚さを検出する。 （もっと読む）

【課題】電気接点における電気接触抵抗と真実接触面積とを同時に測定し、また、より鮮明な反射像が得られる観察測定装置及びその観察測定方法を提供すること。
【解決手段】三角プリズム１２の被測定物載置面に透明導電性被膜１３を形成し、該三角プリズム１２の透明導電性被膜面に被測定物１４を押し当てた状態で該三角プリズム１２に青色ないし紫色の単一波長光を導入し透明導電性被膜面に裏側から照射してその反射光を観察することにより被測定物１４の真実接触面積を求める真実接触面積測定系（１１，１５，１６）と、前記三角プリズム１２の透明導電性被膜面に押し当てられた被測定物１４と透明導電性被膜１３との間の電気接触抵抗を測定する電気抵抗測定系（１７，１８）とを備える。 （もっと読む）

【課題】 試料上の第１の測定点から第２の測定点への遷移における試料内の２つの面の光学的な間隔の変化を干渉法により測定する方法であって、試料は広帯域幅の光によって照射され、試料の少なくとも一部はその光を透過させ、面は部分反射する試料であって、その方法は、両測定点に対する面で反射される光ビームの重畳をスペクトル分散するステップと、分光スペクトルの変調周波数と位相点を求めてそれらの結果の差をとるステップと、変調周波数だけの差から面の光学的間隔の変化に対する第１の値に関する結論を求めるステップと、位相差を考慮して上記第１の値から光学的間隔の変化に対する第２のより精密な値を計算するステップから成っている。 （もっと読む）

【課題】 道路上に設置した場合、正確に水膜膜厚を正確に測定することができる水膜膜厚測定装置を提供する。
【解決手段】 水膜膜厚測定装置は、水膜表面に空気中から斜め入射するレーザ光を発光するレーザ光源１と、水膜表面からの反射レーザ光及び道路表面からの反射レーザ光とを検出するリニアイメージセンサ２と、２つの反射レーザ光のリニアイメージセンサ上の位置に基づいて水膜膜厚を演算する演算器３とを備える。水膜膜厚測定装置を道路上に設置するときは、道路に反射板を埋め込んでもよい。また、道路に黒色光吸収層８を背面に有する透明板７を埋め込み、ガラス表面（道路表面）からの反射レーザ光の広がりを防止し位置Ｘ２においても細くて強い光りが得られる。 （もっと読む）

【課題】 高さ測定の測定精度を高め、測定時間の短縮化を図ることができる表面形状測定方法及び表面形状測定装置を提供する。
【解決手段】 波長の異なる複数の系の単色光を分割して測定物表面と参照面とにそれぞれ照射し、その各反射光による干渉縞を各系毎に形成する第１のステップと、各系の干渉縞毎に位相データを算出する第２のステップと、当該位相データに基づいて各干渉縞のピーク間の位相差を算出する第３のステップと、当該位相差から当該干渉縞の縞次数を特定する第４のステップと、当該縞次数がゼロとなる位置を高さ基準位置として算出する第５のステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】大面積の全基板上において反射光強度を精度良く測定し、この反射光強度から透明感光性樹脂被膜の下層に存在する格子影響等の外乱要因を除去すると共に塗布ムラの可能性のある領域（ムラ候補領域）を精度良く推定し、透明感光性樹脂被膜の塗布ムラを効率的に検出する方法を提供すること。
【解決手段】透明樹脂の塗布方向及びこれに直交する方向に分割して多数の小領域とし、これら小領域の反射光強度を測定し、塗布方向又は塗布方向に直交する方向を包絡方向として、この包絡方向に沿って並んだ小領域の反射光強度を包絡処理してその包絡値を算出し、算出した包絡値から明側包絡画像データと暗側包絡画像データを生成し、該包絡画像データに対して、注目画素を取り囲む画素群を構成する各輝度値の平均値と前記注目画素の輝度値の差分を算出して塗布ムラを抽出する塗布ムラ検査方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】大面積の全基板上において反射光強度を精度良く測定し、この反射光強度から透明感光性樹脂被膜の下層に存在する格子影響等の外乱要因を除去すると共に塗布ムラの可能性のある領域（ムラ候補領域）を精度良く推定し、透明感光性樹脂被膜の塗布ムラを効率的に検出する方法を提供すること。
【解決手段】透明樹脂の塗布方向及びこれに直交する方向に分割して多数の小領域とし、これら小領域の反射光強度を測定し、塗布方向又は塗布方向に直交する方向を移動平均方向として、この移動平均方向に沿って並んだ小領域の反射光強度を移動平均して移動平均値を算出し、塗布方向又は塗布方向に直交する方向を包絡方向として、この包絡方向に沿って並んだ小領域の反射光強度を包絡処理して包絡値を算出し、前記移動平均値と包絡値との比較演算により塗布ムラを抽出する塗布ムラ検査方法を提供する。 （もっと読む）

走査干渉計信号を解析する方法およびシステムが開示されている。工程は、検査対象物（例えば、薄膜を有する試料）の第１の位置について走査干渉計によって生成される走査干渉計信号を供給すること、１つまたは複数のパラメータ値によってパラメータ化される、走査干渉計によって生成される走査干渉計信号のモデル関数を与えること、モデル関数と走査干渉計信号との間の１連の走査位置のシフトそれぞれについて、パラメータ値を変化させることによりモデル関数を走査干渉計信号にフィッティングすること、フィッティングする工程に基づいて第１の位置での検査対象物（例えば、検査対象物中の薄膜についての表面高さまたは高さプロファイルおよび／または厚さまたは厚さプロファイル）についての情報を決定することを含む。
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【課題】基板上に反射層と少なくとも１層以上の光透過性薄膜層を積層してなる光学積層体における各層の膜厚を簡便に検査可能にする。
【解決手段】光学積層体４を構成するＡｇ全反射層は、可視光領域では高い反射率を示すが、短波長ではやや低く、長波長ほど高い反射率スペクトルとなる。このようなＡｇ反射膜を、等ピッチの溝を有するプラスチック基板上に形成した場合、溝による回折に起因した反射率の低下が見られる。この反射率の低下は溝深さが深いほど反射率の低下度合いが大きくなり、溝のピッチを小さくすると、ピッチにほぼ比例して反射率が低下する波長が小さい方へとシフトする。この現象を利用して、光学積層体４を構成する光透過性薄膜層側から検査用光を入射させ、各層までの光路長の変化に応じて変化する各層からの反射光の光強度を測定し、特定波長の反射光強度に基づいて膜厚を検査する。 （もっと読む）

【課題】膜厚ムラを精度良く検出する。
【解決手段】ムラ検査装置１は、基板９を保持するステージ２、基板９の膜９２が形成された上面９１に向けて線状光を出射する光出射部３、基板９からの反射光を受光する受光部４、受光部４にて受光される光の波長帯を切り替える波長帯切替機構５、基板９から波長帯切替機構５に至る光路上に配置されるとともに膜９２からの反射光のうちＳ偏光光を選択的に透過する偏光子６、ステージ２を移動する移動機構２１、および、受光した光の強度分布に基づいて膜厚ムラを検査する検査部７を備える。Ｓ偏光光に対する反射率の変動は無偏光光やＰ偏光光に対する反射率の変動に比べて大きいため、ムラ検査装置１では、偏光子６により受光部４にて受光される光をＳ偏光光とすることにより、ラインセンサ４１の膜厚ムラに対する感度を向上して膜厚ムラを精度良く検出することができる。 （もっと読む）

光学的薄膜アレイを分析するためのイメージ分析ワークステーションが開示されている。開示されている一実施態様は、それぞれが目的とする分析物のための固定化された捕捉試薬を包含する複数の個別的にアドレス可能な位置を提供する単一の光学的薄膜テスト表面を含む個別のアレイに関連する。ここでは、これらを『アレイ状の光学的薄膜テスト表面』と呼ぶ。好ましくは、個別のアレイ状の光学的薄膜が少なくとも４、より好ましくは少なくとも１６、さらに好ましくは少なくとも３２、それよりも好ましくは少なくとも６４、もっとも好ましくは１２８個もしくはそれを超える数の個別的にアドレス可能な位置を包含する。個別的にアドレス可能な位置の１ないしは複数は、コントロール信号（たとえば、正規化信号用、および／または正および／または負のコントロールとして作用する信号）または基準信号（すなわち、デバイス内におけるアレイ状の光学的薄膜テスト表面の相対的なアラインメントを決定するために使用される情報）を提供することができる。
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【課題】 ウィンドウガラスの全周でのプライマの塗布状態検査を効率よく、かつ、高い精度で行うことできるようにする。
【解決手段】 湾曲板形状ウィンドウガラス１０の周縁部に沿ってプライマを塗布する塗布工程において、情報処理装置１００及びウィンドウガラス１０の周縁部を複数のエリアＡ-１〜Ａ-８に分けて撮像可能なデジタルカメラ３００-１〜３００-８を用いて、プライマの塗布状態を検査する塗布状態検査方法であって、情報処理装置１００が、デジタルカメラ３００-１〜３００-８を用いて、プライマを塗布する前の各エリアＡ-１〜Ａ-８の画像データを取得した後、塗布工程の進行に伴って、プライマの塗布が完了したエリアの画像データを順次取得し、各エリアについて塗布後画像データと塗布前画像データとを比較する。 （もっと読む）

【課題】ＳＯＩ基板表面上の薄膜の厚さを、分子汚染に伴う問題を回避するとともにシステムの複雑性を伴うことなく高精度で測定する方法およびシステムを提供する。
【解決手段】シリコン−オン−インシュレータ（ＳＯＩ）基板などの多層構造基板の上の薄膜について単一波長偏光解析（ＳＷＥ）を行うこのシステムは、上記多層構造基板の表面層の厚さ以下の吸収距離を有する測定用ビームを用いる。例えば、ＳＯＩ基板の場合は、上記表面シリコン層の厚さ以下の吸収距離をもたらす波長をもつように測定用ビームを選ぶ。このシステムには、スループットを損なうことなく測定の精度を高めるように同時並行クリーニング動作を行うクリーニング用レーザを備えることができる。測定用ビーム源は、測定用ビームの吸収距離が前記表面層の厚さ以下になりクリーニング用ビームの吸収距離がその表面層の厚さ以上になるように、測定用ビームを一つの波長で、クリーニング用ビームをそれよりも大きいもう一つの波長でそれぞれ生ずるように構成する。
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【課題】 薄膜の膜厚を１分間に１万点以上の測定を基板全面にわたって行う検査を可能とする。
【解決手段】 透明基板２上に形成された薄膜３に対してレーザ光を照射し、基板の測定領域全体に渡って基板内の多数の同一ポイントでの透過強度を透過光強度モニタ４、反射光強度を反射光強度モニタ５で測定する。反射率をＲとし透過率をＴとしてＡ＝１−（Ｒ＋Ｔ）の値からＡ値と膜厚の関係から膜厚を測定し評価する。 （もっと読む）

【課題】ムラ検査装置において光学フィルタの透過波長帯を精度良く調整する。
【解決手段】ムラ検査装置１は、基板９を保持するステージ２、基板９の膜９２に向けて線状光を出射する光出射部３、基板９からの反射光を受光する受光部４、受光部４にて受光される光の波長帯を切り替える波長帯切替機構５、ステージ２を移動する移動機構２１、および、受光した光の強度分布に基づいて膜厚ムラを検査する検査部７を備える。波長帯切替機構５は、複数の光学フィルタ５１、および、各光学フィルタ５１の傾きを変更するフィルタチルト機構を備える。ムラ検査装置１では、フィルタチルト機構により選択光学フィルタ５１ａの光路に対する傾きを変更することにより、選択光学フィルタ５１ａの透過波長帯を精度良く調整することができる。その結果、選択波長帯を膜９２の特性に合わせて調整することにより、膜厚ムラをの検出精度を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】フラットディスプレイパネル基板に形成された塗布膜等の大面積の被検査物表面形状を短時間かつ低コストで検査する。
【解決手段】点光源１２と、点光源１２から発せられた出射光１３の光路上に設けられたハーフミラー１４と、ハーフミラー１４の後方に配置され、ハーフミラー１４により折り曲げられて塗布膜１１に照射され塗布膜１１表面で反射するとともにハーフミラー１４により点光源１２とは別の光路に導かれた反射光１５を投影するための、塗布膜１１よりも広い面積を有するスクリーン１６と、反射光１５によってスクリーン１６に投影された塗布膜１１の表面状態を表す画像を観察するためのＣＣＤカメラ１９とを有する。 （もっと読む）

【課題】基材の表面への透光性膜の成膜、又は基材の表面に成膜された透光性膜の膜処理を行う基材処理装置において、透光性膜の膜物性のリアルタイム測定を実施し、高精度な膜物性制御を行う。
【解決手段】基材処理装置１は、基材１０の表面への透光性膜の成膜、又は基材１０の表面に成膜された透光性膜の膜処理を行っている基材１０に対して、透光性膜側から光Ｌを照射する光照射手段５０と、成膜中又は膜処理中の基材１０からの光Ｌの反射光Ｒを受光し、反射光Ｒに含まれる、透光性膜の表面で反射される第１反射光と、透光性膜と基材１０との界面で反射される第２反射光との干渉光を検出し、ピークバレー法により透光性膜の膜物性を測定する膜物性測定手段６０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】微少な膜厚ムラを精度良く検出する。
【解決手段】ムラ検査装置１は、基板９を保持するステージ２、基板９の膜９２が形成された上面９１に向けて線状光を出射する光出射部３、基板９からの反射光を受光する受光部４、基板９と受光部４との間に配置されて光の波長帯を切り替える波長帯切替機構５、ステージ２を移動する移動機構２１、受光した光の強度分布に基づいて膜厚ムラを検査する検査部７を備える。ムラ検査装置１では、光出射部３から基板９に入射する光の上面９１対する入射角θ１が６０°とされることにより、高精度なムラ検出が可能とされる膜厚の範囲を大きくすることができるとともに膜厚に対する反射率の極大点近傍領域である低感度領域の幅が広がることを防止することができる。その結果、膜厚の変動幅が低感度領域に含まれることを防止して微少な膜厚ムラを精度良く検出することができる。 （もっと読む）