【課題】基材の表面への透光性膜の成膜、又は基材の表面に成膜された透光性膜の膜処理を行う基材処理装置において、透光性膜の膜物性のリアルタイム測定を実施し、高精度な膜物性制御を行う。
【解決手段】基材処理装置１は、基材１０の表面への透光性膜の成膜、又は基材１０の表面に成膜された透光性膜の膜処理を行っている基材１０に対して、透光性膜側から光Ｌを照射する光照射手段５０と、成膜中又は膜処理中の基材１０からの光Ｌの反射光Ｒを受光し、反射光Ｒに含まれる、透光性膜の表面で反射される第１反射光と、透光性膜と基材１０との界面で反射される第２反射光との干渉光を検出し、ピークバレー法により透光性膜の膜物性を測定する膜物性測定手段６０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】微少な膜厚ムラを精度良く検出する。
【解決手段】ムラ検査装置１は、基板９を保持するステージ２、基板９の膜９２が形成された上面９１に向けて線状光を出射する光出射部３、基板９からの反射光を受光する受光部４、基板９と受光部４との間に配置されて光の波長帯を切り替える波長帯切替機構５、ステージ２を移動する移動機構２１、受光した光の強度分布に基づいて膜厚ムラを検査する検査部７を備える。ムラ検査装置１では、光出射部３から基板９に入射する光の上面９１対する入射角θ１が６０°とされることにより、高精度なムラ検出が可能とされる膜厚の範囲を大きくすることができるとともに膜厚に対する反射率の極大点近傍領域である低感度領域の幅が広がることを防止することができる。その結果、膜厚の変動幅が低感度領域に含まれることを防止して微少な膜厚ムラを精度良く検出することができる。 （もっと読む）

【課題】光学膜として作用する層を有する透明高分子フィルム上に薄膜が成膜された試料を用いた場合であっても、試料中の薄膜の膜厚および／または光学定数を従来よりも少ないばらつきで評価することが可能な薄膜評価方法を提供する。
【解決手段】透明高分子フィルムの一方面に光学膜として作用する層を有し、その他方面に評価対象となる薄膜が形成された試料中の薄膜の膜厚および／または光学定数を求めるにあたり、光学膜として作用する層面側に、光学膜として作用する層と同等の屈折率を有し、かつ、光学膜として作用しない厚みの透明基板を貼り合わせ、この透明基板付き試料の反射率および透過率を少なくとも用い、薄膜の膜厚および／または光学定数を求めるようにする。 （もっと読む）

【課題】大面積の基材に塗布された透明感光性樹脂被膜の塗布ムラを効率的に検出する方法を提供すること。
【解決手段】基材１表面に対し斜め方向から照射光Ｘを照射し、斜め方向に出射する反射光の光路上に凸レンズ２が配置されており、この凸レンズ２の作用によって基材１の像３が結像される。凸レンズ２の光軸２ａは前記基材１の表面の法線１ａに対して傾いており、像３も基材１表面の法線１ａに対し傾いた位置に結像する。そして、この像３をカメラで撮影して画素に対応する領域ごとに反射光強度を測定する。次に、測定された反射光強度から塗布ムラを検出する。 （もっと読む）

【課題】光学膜として作用する層を有する透明高分子フィルム上に薄膜が成膜された試料を用いた場合であっても、試料中の薄膜の膜厚および／または光学定数を従来よりも正確かつ少ないばらつきで評価することが可能な薄膜評価方法を提供する。
【解決手段】第１の透明高分子フィルムの一方面に光学膜として作用する層を有し、その他方面に評価対象となる薄膜が形成された試料中の薄膜の膜厚および／または光学定数を求めるにあたり、光学膜として作用する層面側に、中間層を任意に介して、第１の透明高分子フィルムと同等の屈折率を有する第２の透明高分子フィルムを貼り合わせ、この第２の透明高分子フィルム付き試料の反射率および透過率を少なくとも用い、薄膜の膜厚および／または光学定数を求めるようにする。 （もっと読む）

【課題】光学膜として作用する層を有する透明高分子フィルム上に薄膜が成膜された試料を用いた場合であっても、試料中の薄膜の膜厚および／または光学定数を従来よりも正確かつ少ないばらつきで評価することが可能な薄膜評価方法を提供する。
【解決手段】透明高分子フィルムの一方面に光学膜として作用する層を有し、その他方面に評価対象となる薄膜が形成された試料中の薄膜の膜厚および／または光学定数を求めるにあたり、光学膜として作用する層を剥離した試料の反射率および透過率を少なくとも用い、薄膜の膜厚および／または光学定数を求めるようにする。 （もっと読む）

【課題】 搬送系におけるＯＶＤのバタツキ、うねりによるあばれやＯＶＤの若干の位置のあばれに影響を受けず、安定したＯＶＤの欠陥検査を可能とするＯＶＤ画像検査方法及び画像検査装置を提供する。また、併せて、ＯＶＤ検査ビューアを提供する。
【解決手段】 ＯＶＤを検査する検査装置であって、ＯＶＤとして形成される画像の中の少なくとも１つの特定画像を発現させるように設計した特定の観察角度に対応して設計された、少なくとも１つの光源と、前記光源からの照射により発現させた前記少なくとも１つの特定画像を撮像する撮像部と、前記撮像した少なくとも１つの特定画像を、検査内容に応じて画像処理をする情報解析部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 従来検出が困難であった欠陥部について、その形状や方向性に関係なく検出可能な欠陥検査装置及び方法を提供する。
【解決手段】 縞状のパターン１９０にてなる照射光１１１を被検査物５０へ照射し、被検査物の通過した縞状パターンから、被検査物の欠陥部に応じて現れた欠陥パターン１９５を検出する。このとき、被検査物に照射する縞状パターンの位置を変更することから、欠陥部の形状や方向性に関係なく欠陥部を検出することができる。 （もっと読む）

【課題】 球状または円柱状の被検査物体の表面の欠陥を高精度に検出し得る表面検査装置を提供する。
【解決手段】 球状または円柱状の被検査物体４が所定の方向に分散配置されている状態を該所定の方向に沿って撮影するラインセンサ５により、上記所定の方向と直交する方向において被検査物体の全表面を撮影することを可能とするために、ラインセンサ及び／または複数の被検査物体の表面を所定の方向と直交する方向に移動させる移動装置としてのローラー２と、ラインセンサ５の出力であるビデオ信号において、被検査物体４が存在する部分の出力電圧と、被検査物体４間の領域における出力電圧との間のしきい値電圧に基づいて、被検査物体が存在する部分を検出して検査範囲を検出し、検査範囲において、ビデオ信号に基づき、被検査物体４の表面の欠陥の有無を検査する制御装置１０とを備える、表面検査装置。 （もっと読む）

【課題】 球状の被検査物体の表面の欠陥の有無を高速でかつ確実に検査することを可能とする表面検査装置を得る。
【解決手段】 球状の被検査物体が移動される移動経路Ａを構成するように、同一方向に回転されるように隣り合って配置されたローラー２，２を有し、隣り合う２，２の回転速度が異なるようにローラー２，２が回転駆動され、上記移動経路Ａは傾斜されるようにローラーが被検査物体４の供給位置から撮影領域に向かうにつれて下方に位置するように傾斜されており、撮影領域において被検査物体４の表面を撮影するラインセンサ５が設けられている、表面検査装置１。 （もっと読む）

【課題】大気圧近傍の圧力下でプラズマ放電処理を行うプラズマ放電処理装置のプラズマ電極間距離およびプラズマの分光強度を測定するための光情報を同時に伝送可能な測定プローブおよびそれを用いて間隙距離測定および分光強度測定を行う測定装置を提供する。
【解決手段】測定プローブ１は、プラズマ放電処理装置Ｐにおけるプラズマ電極Ｅ１、Ｅ２間の距離を測定するための光情報と、プラズマ電極Ｅ１、Ｅ２間に形成される放電空間におけるプラズマの分光強度を測定するための光情報とを同時に伝送する光導部材２を備える。 （もっと読む）

【課題】 長時間の連続製造でも生産工程を止めず、安定した多層の反射防止層の形成が可能な塗布方式による反射防止フィルムの製造方法及び反射防止フィルムの提供。
【解決手段】 フィルム基材上に直接又は他の層を介して、少なくとも１層の反射防止層層を形成した後、前記反射防止層の膜厚を測定手段により計測し、予め用意した基準値と対比、演算し、結果を塗布膜厚制御系にフィードバックし、前記反射防止層の塗布条件を制御しながら製造する反射防止フィルムの製造方法において、前記反射防止層用塗布液の塗布・乾燥開始時の膜厚は予め校正がなされた前記測定手段により測定し、以降、前記反射防止層用塗布液の塗布継続中に工程を止めることなく、前記測定手段の校正（補正）を行い、校正した前記測定手段により前記反射防止層の膜厚測定を行い、前記反射防止層用塗布液の塗布・乾燥を連続的に行うことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】処理対象の信号波形の信号中心を精度良く算出することができる信号処理方法及びその装置を提供する。
【解決手段】非対称な信号波形を複数の対称関数の合成関数で表現されるモデルで曲線近似して得られる近似曲線と、非対称な信号波形の差分値から構成される残差波形を数値計算するための複数の処理区間を決定する。決定した複数の処理区間それぞれに属する残差波形の波形特徴量を算出する。その波形特徴量に基づいて、前回の曲線近似で用いたモデルに新たな対称関数を追加したモデルで、再度、該曲線近似を実行するか否かを判定する。新たな対称関数を追加したモデルで曲線近似を実行すると判定された場合、該新たな対称関数を追加したモデルに対するパラメータを計算する。曲線近似を実行しないと判定されるまで、上記処理を繰り返す。曲線近似を実行しないと判定された場合、その時点で用いたモデルに基づいて処理対象の信号の信号中心を算出する。 （もっと読む）

【課題】青色光に感受性を有する透明被膜の膜厚ムラを、自動的に、かつ、精度良く検出する方法とその方法に適用する装置とを提供すること。
【解決手段】波長５００〜５７０ｎｍの緑色光と波長５８０〜６３０ｎｍの赤色光を含む光を照射し、これら光の反射光強度を、波長ごとに、かつ、照射範囲を多数の小領域に分割してその小領域ごとに測定し、小領域ごとに、緑色光の反射光強度と赤色光の反射光強度の差を算出し、多数の前記小領域の間で前記強度差同士を比較し、周囲の小領域に比べて前記強度差が大きいまたは小さい小領域を膜厚ムラのある領域として抽出する。 （もっと読む）

【課題】光学補償フイルム等の僅かな厚みムラや塗工ムラまでを検出できるようにする。
【解決手段】連続的に搬送されるフイルム７の下側の面に光源部１５を配してあり、フイルム７に光を照射する。フイルム７からの透過光を受光する受光器１６は、フイルム７を俯瞰するように配置されており、その光軸Ｐとフイルム７に垂直な基準線（法線）Ｌｎと交差角度θ１が３０°≦θ１≦５０°となっている。また、受光器１６は、基準線Ｌｎを回転中心として搬送方向Ｓを基準に回転角度θ２だけ回転してあり、−６０°≦θ２≦＋６０°を満たすようになっている。 （もっと読む）

本発明は、真空チャンバ内の積層プロセスを光学的にモニタリングするための測定装置に関する。ここで光源は真空チャンバ内に、基板保持部と、基板保持部の下方に配置されたブラインドとの間に配置されており、受光ユニットは真空チャンバ外に光源のビーム路内に配置されている。基板保持部は少なくとも１つの基板を収容するように設計されており、真空チャンバ内で、積層源上で運動可能であり、有利には軸を中心に回転する。ここで１つまたは複数の基板は、光源と受光ユニットとの間で透過度測定のためにビーム路と交差し、ブラインドは積層源上の測定領域を暗くする。
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【要 約】
【課 題】簡易な構成で、種々の測定対象に対応して、高精度の測定が可能で、かつ工数を低減し時間ロスの少ない光学的測定装置を提供することである。
【解決手段】光源の光を測定対象に投光して測定対象の材質、厚さ、成分、水分等の性状を測定する光学的測定装置において、測定対象の形状に対応した開口形状を有する複数種類のスリットを回転セクタの光学フィルタに近接して設け、スリットの位置は光源から出た光の結像位置に配置した。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、種々の測定対象に対応して、高精度の測定が可能で、かつ工数と時間ロスを低減できる光学的測定装置を提供することである。
【解決手段】光源の光を測定対象に投光して測定対象の材質、厚さ、成分、水分などの性状を測定する光学的測定装置において、前記測定対象の形状に対応した開口形状の複数のスリットを有する投光スポット制御手段を前記光源からの光の結像位置に配置した。測定対象の形状に相当するスポットとすることで、測定対象の必要部分からの無駄のない大きな測定光量が得られ、測定精度の向上が図れる。 （もっと読む）

【課題】黒鉛等のように赤外線の吸収量が大きい素材や、基材の素材と赤外線の吸収量に対して同じような性質を有する素材によって形成された膜の厚さであっても測定することができる膜厚測定装置および膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】被測定対象Ａの加熱面ＨＳにおける温度の時間変動特性と、温度測定手段によって測定された被測定対象Ａの加熱面ＨＳの温度とに基づいて、被測定対象Ａの膜厚Ｄを算出する演算手段５とを備えており、温度測定手段がガルバノミラー走査型の赤外線サーモグラフィ２であり、演算手段５は加熱手段１０による加熱によって被測定対象Ａの加熱面ＨＳの温度上昇が開始したタイミングを算出する加熱タイミング検出部６と、加熱タイミング検出部６によって検出された被測定対象Ａの加熱面ＨＳの温度上昇開始タイミングＴ０と、被測定対象Ａの加熱面ＨＳの温度に基づいて、被測定対象Ａの膜厚Ｄを算出する膜厚算出部７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、高精度の測定が可能な光学的測定装置を提供することである。
【解決手段】光源の光を測定対象に投光して測定対象の材質、厚さ、成分、水分などの性状を測定する光学的測定装置において、測定対象の形状に対応した開口形状を有するスリットを回転セクタの光学フィルタ上に設け、スリットは光源からの光の結像位置に配置した。このことにより、スリット用のスペースが不要となり、回転セクタ用の設置部品と共用することでスリット設置専用の部品などが不要となり、簡易な装置構成となる。 （もっと読む）