【課題】 マーカーが小さくても発見や認識が容易で、撮像における被写体フレームから多少はみ出してもマーカー中心位置を知るための方法と装置を提供すること。
【解決手段】 光学式モーションキャプチャシステムにおいて、被写体に対向する受光手段の前面に配設される合焦調整手段によって、受光手段で受けるマーカー像を非合焦状態、または波長によって合焦・非合焦状態を選択させることで、マーカー像を通常の合焦状態はもとより非合焦状態によるより大きな像として撮像し、それ故に得られた撮像画像中のマーカー発見を容易にしたり、またマーカー中心位置が多少被写体フレームからはみ出したとしても中心を含まないマーカー像からマーカー像の中心位置を算出し、その位置がマーカーの位置に対応すると特定する。 （もっと読む）

【課題】感度及び／又は動作速度を改善した計測装置を提供すること。
【解決手段】基板上の微細構造のパラメータを測定する計測装置であって、測定ビームを生成するように構成されたスーパコンティニューム光源と、測定ビームを基板上に送るように構成された光学系と、構造によって反射された、かつ／又は、回折された放射を検出するセンサとを備える計測装置。 （もっと読む）

【課題】測定対象となる非球面毎に専用の光学系を用意する必要がなく、汎用性が高い非球面レンズの偏心測定方法等を提供すること。
【解決手段】平面波１０１、２０１として射出された可干渉光を、非球面レンズ１０に設けられた平面部１３、２３に照射し、平面部１３、２３により反射した光を用いて、所定の基準に対する非球面レンズ１０の平面部１３、２３のチルト誤差を検出するチルト誤差検出工程と、球面波１０７、２０７として射出された可干渉光を、非球面レンズ１０に設けられた球面部１２、２２に照射し、球面部１２、２２により反射した光を用いて、所定の基準に対する非球面レンズ１０の球面部１２、２２のシフト誤差を検出するシフト誤差検出工程と、チルト誤差とシフト誤差とを用いて、非球面レンズ１０の非球面の偏心を演算する偏心演算工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】高い測定精度を有し、かつコンパクト化を図った、二軸方向のひずみを計測するための光学式ひずみゲージを提供すること。
【解決手段】光導波路７と、該光導波路から所定の角度をもって分岐されかつブラッグ回折格子５を備えた３つの光導波路分岐延長部２，３，４とから成り、該光導波路分岐延長部２，３，４が互いに所定の角度間隔１９でベースプレート６上に設けられ、前記光導波路７から光が導入される、複数軸方向のひずみを測定するための光学式ひずみゲージにおいて、前記光導波路７及び前記光導波路分岐延長部２，３，４を前記ベースプレート６上に直線状に配置するとともに、前記光導波路７と前記光導波路分岐延長部２，３，４の間に光配分要素８を設けた。
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【課題】物体にパターン光を投影する技術において、光源からの光をパターン光に光学的に変換する光変換体の構造を安価でかつ高精度の製造に好適であるように改良する。
【解決手段】投影部１２に、光源６８と、その光源からの光を少なくとも部分的に、角度的または光度分布的に変調して出射する光変調体２００と、その出射光の複数の角度成分のうち、予め定められた入射開口に適合する放射角特性を有するものを選択的に通過させる光学系３２とを設ける。光変調体は、入射光に対し、光変調体の表面形状に依存した光学的変調を行う。光変調体は、表面形状が互いに異なる２つの部分を少なくとも１組有し、それら２つの部分のうちの一方からは、入射開口角に適合する放射角特性を有する角度成分が、その後に光学系を通過する成分として出射し、他方からは、入射開口角に適合しない放射角特性を有する角度成分が、その後に光学系を通過しない成分として出射する。 （もっと読む）

【課題】複数の流動体試料の粒子に関する情報を同時に測定することができる小型の光学的測定装置を提供する。
【解決手段】 光源１６と、電源１５と、セル１０ａ、１０ｂと、セル内の流動体試料と近接する位置に形成され、光源から光が照射されたときに互いに異なる方向に沿って並ぶ複数本の基本回折光パターンを発生する複数の回折格子兼電極１１ａ、１１ｂと、各回折格子がそれぞれ発生する基本回折光パターンを検出する二次元光検出器２５とを備え、二次元光検出器２５は、複数の回折格子兼電極に光を同時照射して発生させた複数の基本回折光パターンを検出するとともに、電圧を印加して各回折格子兼電極１１ａ、１１ｂ近傍に存在する粒子の密度分布を周期的に変化させることにより発生した密度回折格子Ｍに光が照射されることにより派生的に生じる派生回折光パターンを検出する。 （もっと読む）

【課題】 照明光の波長程度以下の微細パターンを、安価に形成可能な露光技術を提供する。
【解決手段】 照明光を透光性平板Ｐ１上の第１の回折格子及び透光性平板Ｐ２上の第２の回折格子に照射して干渉縞を形成する工程と、干渉縞計測系４１を用いてその干渉縞の周期に対して所定の関係を持つ計測格子とその干渉縞とを相対走査することによって、その干渉縞の位置を計測する工程と、その計測された干渉縞の位置を用いて、ウエハＷ上の所定位置に、その干渉縞によるパターンを露光する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】低可干渉性の光ビームの波面測定にも対応でき、かつ光学系の調整や位相シフト機構の設置を容易に行なうことが可能な光ビーム測定装置を得る。
【解決手段】光ビーム測定装置１Ａは、波面測定部１０Ａとスポット特性測定部１０Ｂとを備えており、波面測定部１０Ａは、反射型波面整形ユニット２０と、光束分離／合波面１５と、反射板１７と、光路長調整手段とを有するマイケルソンタイプの光学系配置となっている。光束分離／合波面１５から反射面１７ａを経て光束分離／合波面１５に戻る第１の光路長と、光束分離／合波面１５から反射型波面整形ユニットを２０経て光束分離／合波面１５に戻る第２の光路長とを互いに略一致させることにより、低可干渉性の光ビームの波面測定と光ビームのスポット特性測定との２つの測定を行なうことができる。 （もっと読む）

【課題】波長変位を測定するのに用いられる光ファイバー格子センサの初期設定値の保持と被測定物に取り付けるための光ファイバー格子センサ用固定具を提供する。
【解決手段】光ファイバー格子センサＳが挿入された状態で固着剤Ｆによって光ファイバー格子センサＳの両側が一体に固定されると共に底面がそれぞれ被測定物に固着される一対の固定片３と、各固定片が初期設定値で離間した状態を保つようにすると共に内挿された光ファイバー格子センサＳを外部からの物理的圧力から保護できる管２と、固定片３と管との間の離間誤差が０．０００２ｍｍ以上にならないように精度よく固定するための固定手段とからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】傾きセンサの高感度化と小型化を実現した上で、光利用効率を向上させる。
【解決手段】本発明は、所定の基準面に対する対象物（例えば光ディスク）５の傾きを検出する傾きセンサであり、対象物５に照射する光を発する光源１と、光源１からの光を取り込むカップリングレンズ２と、対象物５で反射された光束を収束光に変換する検出レンズ７と、対象物５で反射された光束を光検出器に導く光学素子１６と、対象物５で反射された光束を受光し光電変換信号を出力する光検出器８ａ，８ｂとを備えた傾きセンサにおいて、対象物５に照射する光束は収束光であり、前記光学素子１６は、対象物５で反射された光束を複数の光束に分割する光学素子であることを特徴としており、収束光を測定対象物に照射することで、光源からの光を無駄にせずに、効率よく照射することができので、信号光量を大きくでき、感度良くチルト検出することができる。 （もっと読む）

【課題】 測定結果に高い信頼性が得られ、測定対象の制限を受けることがなく、しかも比較的短時間のうちに部材表面の粗さ等を評価できる非接触式の加工表面評価装置を提供する。
【解決手段】 加工表面の状態を反映する反映面を有するレプリカに対し、反映面とは反対の面にあたる背面から反映面に向けて略垂直に光を照射する光源、照射されてレプリカを透過した透過光を受光面で受光するマイクロスコープ、受光面において透過光が広がった範囲のうち、所定の値以上の強度を持った透過光が広がった範囲を特定する範囲・形状判定部５０１、範囲・形状判定部５０１によって特定された受光面における範囲に基づいて加工表面の粗さを判定する粗さ判定部５０３を備える。 （もっと読む）

【課題】 照明光の波長程度以下の微細パターンを、安価に形成可能な露光技術を提供する。
【解決手段】 光源１からの照明光の光路中に、順に第１の回折格子が形成された透光性平板Ｐ１と第２の回折格子が形成された透光性平板Ｐ２とを直列に配置し、前記第２の回折格子からの回折光をウエハＷに照射し、ウエハＷ上に干渉縞パターンを露光する露光装置であって、レーザ干渉計４０及び８６を用いて透光性平板Ｐ２とウエハＷとの位置関係を計測し、レーザ干渉計８２及び８６を用いて透光性平板Ｐ１と透光性平板Ｐ２との位置関係を計測し、これらの計測値に応じて、それらの位置関係を所定の位置関係に設定する。 （もっと読む）

【課題】複数の撮像素子から得られる干渉縞の干渉縞強度のバイアス及び振幅のバラツキ、並びに位相の設計値からの偏差を、定期的に又は測定の前にユーザが容易に計測することを可能とし、測定の高精度化を達成すると共に、使用環境を選ばない干渉計を提供する。
【解決手段】波長可変レーザ３０１からのレーザ光の波長を、波長シフト量Δλを少なくとも３通りに変化させて、その異なる少なくとも３通りの波長シフト量Δλの場合に関し、１つのＣＣＤカメラ３１６、３１８、又は３２０で異なる干渉縞を撮像し、その干渉縞強度を取得する。これにより、バイアスＢ_ｉ（ｘ、ｙ）、振幅Ａ_ｉ（ｘ、ｙ）、及び位相Ｆ_ｉ（ｘ、ｙ）を計算することができる。 （もっと読む）

【解決課題】
投影光学系の波面収差を測定する際に、機械的な振動のために集光点が変動することに起因する誤差を低減する、高輝度ではあるが低ＮＡである光源を波面収差測定に整合させる、非テレセントリックな光学系に対して主光線を整合させる、ことを目的とする。
【解決手段】
集光光束の状態を検出して集光点を制御する、開口数調整ピンホールを配置する、集光光学系中で集光光束を軸はずしとする手段をとる。
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【課題】少ないサンプリング数で干渉縞又は投影格子の位相を解析することができる位相解析方法を提供する。
【解決手段】ｆとｆ_ｓａｍを自然数とし、ｆ_ｓａｍ＜２Ｎとして、投影格子の位相を２πｆ変化させる間にｆ_ｓａｍ回撮影して得た画像から前記投影格子の位相を解析する投影格子の位相解析方法であって、ｋを任意の自然数として、ｆ’＝ｆ±ｋｆ_ｓａｍによって与えられるエイリアシングによって生じる周波数をフーリエ変換して得て、その周波数成分の複素数の偏角として前記投影格子の位相を得る。 （もっと読む）

【課題】 装置の設置作業を簡略化することのできる三次元位置測定装置及びソフトウエアプログラムを提供する。
【解決手段】 対象領域の第１の平面と第２の平面にパターンを形成するパターン光を投影する投影装置１１と；パターン光が投影された、対象物の存在する対象領域を撮像する撮像装置１２と；対象領域に対象物が存在しないときに第１の平面と第２の平面に投影されたパターン光を基準として、撮像された像上のパターンの移動を測定し、該測定されたパターンの移動に基づいて、対象物に投影されたパターン光の三次元位置を算出する測定手段１４と；パターン光１１ｂの投影範囲に比較して十分に広いものと仮想した仮想平面に投光され、投影装置１１と撮像装置１２との光学配置に基づいて算出される仮想のパターン光と、実際に撮像されるパターン光とを比較して、第２の平面での基準の位置を算出する基準位置算出手段２４を備える三次元位置測定装置。 （もっと読む）

【課題】改良された検査装置及び検査方法を提供すること。
【解決手段】ターゲットを照射するための照明ビームを提供するようになされた照明システムと、このターゲットから非ゼロ次数回折方向に散乱する放射を検出するようになされた第１の検出システムとを備えた検査装置であって、この検出システムが、ターゲットから非ゼロ次数回折方向に散乱する放射を分散させるための分散エレメントと、該分散エレメントによって分散する放射の強度を測定するように構築され、且つ、配置された放射感応デバイスとを備えている。 （もっと読む）

移動する不織布材料のウェブの繊維配向を測定する画像ベースの技術であって、（ａ）異なる偏光特性を有する少なくとも４つの平面偏光された実質的に垂直の入射光ビームを用いて、ウェブの一方の側上の少なくとも４つの光スポットを本質的に同時に照射するステップと、（ｂ）対応する平面偏光された入射光ビームの偏光平面に対して既知の角度である少なくとも１つの直線区間に沿ったウェブの反対側上の出射光スポットの分散を測定するステップであって、少なくとも１つのこの直線区間が、透過出射光スポットの中心を実質的に横切って位置し、透過出射光スポットの幅を実質的に横切って延在する、ステップと、（ｃ）少なくとも４つの平面偏光された光ビームに対して、透過出射光スポットの分散のばらつきを計算するステップと、（ｄ）そのばらつきから繊維配向を推定するステップとを含む技術。 （もっと読む）

磁気エレメント又は電磁エレメントと、磁気ひずみ材料の１つ又は複数のセグメントと、ファイバ・ブラッグ回折格子センサと、磁界を通さない材料のロッドと、光ファイバとを備えた光ファイバ位置変換器である。複数のセンサのうちの１つ又は複数は、ロッドに固定された磁気ひずみ材料のセグメントの上に固定されており、縦方向にのみ変位させることができる。ファイバ・ブラッグ回折格子センサは異なる波長を有しており、同じ光ファイバでできている。含まれている磁気エレメント又は電磁エレメントは、ＮｄＦｅＢ（ネオジミウム−鉄−ボロン）又はＴＸ、テルフェノール−ＤなどのＴｂＤｙＦｅ（テルビウム−ジスプロシウム−鉄）の金属合金を使用して構築することができる。光ファイバ位置変換器は、油井内の制御流量弁に適用され、また、変換器の位置を較正する方法に関している。
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光学条件やプロセス条件によるパターン変形に対応したテンプレートを容易に作成し、適切にパターン位置検出を行う方法を開示する。第１の方法では、光学条件等の影響を受けない特徴成分である対称性をパターン画像情報から抽出してテンプレートとする。パターン検出時には、画像情報を対称性の特徴空間に射影し、特徴空間内でマッチングを行いパターンを検出する。パターン変形の影響を受けず適切にテンプレートマッチングを行える。第２の方法では、入力されたパターンデータからパターンのモデルを作成し、モデルを撮像して得られるパターン画像（仮想モデル）を、像変形シミュレータを用いて撮像条件ごとに複数算出し、その平均や相関を考慮してテンプレートを決定する。
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