【課題】 基板面内の光量分布のムラを低減し欠陥検出精度を向上した、基板の欠陥検出方法および欠陥検出装置を提供する。
【解決手段】 欠陥検出装置２０では、検出用の光２７を基板２５内において発散させるレンズ部２２と、前記検出用の光２７の導光領域を重複させる機能を有する光源部２１とを有し、レンズ部２２によって、検出用の光２７は基板２５内を発散した状態で進行させ、光源２８の配置位置によって導光領域を重複させて複数の検出用の光２７を重畳させることによって、光量の分布を均一にすることができ、光量の分布によって差異が生ずることを防いで、欠陥２６に起因して散乱する光を確実に検出し、欠陥２６を高精度に検出する。 （もっと読む）

【課題】 可動体変位の検知信号がノイズに埋もれずに明確に表れる検知装置を提供する。
【解決手段】 光ファイバ線路１の複数箇所でそれぞれカプラ４を介して分岐させた分岐ファイバ５ａに、例えば例えばマンホールの蓋３の開閉により曲げ変形を受けるセンサ部５ｃを持つ光ファイバセンサ６を接続する。曲げ変形を受けるセンサ部５ｃの前方端に、反射部としてのＦＢＧ（ファイバブラッググレーティング）７を設ける。光ファイバ線路１にパルス光を入射した時に、前記ＦＢＧ７で反射した戻り光のレベルが、センサ部５ｃでの光損失による光量減少によって変動することをＯＴＤＲ９で検出して、各蓋３の変位を検知する。ＦＢＧの反射によって発生する反射ピークのレベルは、ノイズレベルと比べて顕著に高いため、ノイズに埋もれることなく、確実に検知できる。パルス幅が狭くすることができ、光ファイバセンサが近接して配置されている場合でも、反射が重なることなく各光ファイバセンサを区別して検知することができる。 （もっと読む）

【課題】 センサ原点のドリフトを抑制する。
【解決手段】 被計測手段のリファレンスの位置を計測手段で定期的に計測して該計測結果を記憶手段に記録データとして記憶し、システムリセットが発生した時に、前記計測手段を初期化し（Ｓ２３）、前記記憶手段に記憶された記録データのうち最新の記録データに基づいて原点オフセットを算出し（Ｓ２５）、被計測手段の位置を前記計測手段で計測し（Ｓ２６）、当該計測結果及び原点オフセットに基づいて定められる位置を位置調整動作の基準となる原点とする。 （もっと読む）

【課題】 表面が粗い導電性基体上に形成された下引き層の膜厚が制御された感光体を製造することが可能な感光体の製造方法。
【解決手段】 浸漬塗工法を用いて、十点平均粗さが０．７μｍ以上１．２μｍ以下である導電性基体に塗液を塗布する工程と、形成された湿潤状態の膜に入射光を膜に対して垂直に入射させ、膜の表面で反射された光と、導電性基体の表面で反射された光との干渉により得られる反射光を分光して、分光された反射光の光量を検出し、分光スペクトル強度が極小及び極大となる波長を求め、分光スペクトル強度が極小及び極大となる波長並びに膜の屈折率を用いて膜の膜厚を測定する工程を有し、測定された膜厚に基づいて、塗液を塗布する条件を制御することにより感光体を製造する。 （もっと読む）

【課題】 光源から出射された光を検出側に伝送する光ファイバの屈曲やストレスによる偏波の乱れを減少させることにより高精度な定点検出や変位計測を可能とする。
【解決手段】 光源１２から出射された可干渉性又は干渉性の低い光は、偏光板１３に入射すると、消光比が例えば３０ｄＢのように高い直線偏光となる。この消光比の高い直線偏光を集光レンズ１４によって集光し、かつ直線偏光ビームの偏波軸を、偏波保持タイプの光ファイバ１５の光学軸に合わせて偏波保持タイプの光ファイバ１５に入射する。このように、偏光板１３によって直線偏光とされたビームを偏波保持タイプの光ファイバ１５に入射するとき、上記ビームの偏波軸を、上記光ファイバ１５の光学軸３４に合わせると、上記光ファイバ１５の屈曲やストレスによる消光比の変動を少なくすることができる。 （もっと読む）

光学素子（５）の製造方法は、光学素子の光学面（３）に測定光（２３ａ）を導く干渉計１ａを用いて、光学面を検査する工程を含む。測定光は、光学面の上流にある測定光のビーム経路に配置された２つのホログラム（４４、４８）を順次に横切る。
（もっと読む）

【課題】 試料を照射する装置を提供する。
【解決手段】 本装置は、入射レーザビームを試料に向けて出力するレーザと、複数の回折パターン部分を有する第１回折要素とを含む。第１回折要素は、その回折パターン部分のそれぞれが入射ビームパス内で選択的に配置されえるよう移動可能であり、第１回折要素の回折パターン部分は、入射ビームが異なる空間照明プロファイルを入射ビームの瞳平面において有するように設計され、一方で入射ビームのコヒーレンスによって生じる効果を減らす。この装置は、入射ビームの照射平面において光を空間的に分散させるよう構成される照明プロファイル要素と、入射ビームを試料に向けて導く複数の照明光学要素とをさらに備える。 （もっと読む）

スキャタロメトリ又はリフレクトメトリを用いて、２つのマークの相対位置ずれ情報を容易に求めることができる位置情報計測方法である。ウエハ（Ｗ）上にピッチＰ１でマーク（２５Ａ）を形成し、その上の中間層（２７）上にピッチＰ１と異なるピッチＰ２でマーク（２８Ａ）を形成しておく。ウエハ（Ｗ）に対して検出光（ＤＬ）を垂直に入射させて、２つのマーク（２５Ａ，２８Ａ）からの正反射光（２２）のみを波長別に分光して光電変換する。得られた検出信号から波長別の反射率を求め、所定の波長における反射率をマーク（２５Ａ，２８Ａ）の計測方向（Ｘ方向）の各位置毎に求め、求めた反射率分布から２つのマーク（２５Ａ，２８Ａ）の重なりによって形成されるモアレパターンの形状を求め、その形状からマーク（２８Ａ）の位置ずれ量を求める。
（もっと読む）

【課題】基板に薄膜を堆積する際の薄膜の応力を求め、引き続きライン構造に係る応力を同定する精度の良い方法を提供する。
【解決手段】薄膜が堆積される前の基板の曲率を計測し、薄膜が堆積された後の曲率を計測し、測定された曲率の情報から単純な解析関数に基づいて応力を計算して薄膜付着前後の比較を行うことで、曲率計測時の誤差を除去するすることができる。該曲率の情報は、例えば照射領域の全界測定を行えるコヒーレント・グラジエント・センシング法によって光学的に得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 被対象物の各反射面の形状や膜厚の分布を、二次平面上で精密に測定することができる薄膜形状測定方法および薄膜形状測定装置を提供する。
【解決手段】 パソコン62は、電気的に変換された干渉信号Ｓ（ｔ）から得られた処理信号の値と、理論式である処理信号の値との差の二乗和を誤差関数Ｈとし、この誤差関数Ｈを最小にすることで、理論式に含まれている被対象物50の各反射面に関する変調振幅Ｚ_biと位相α_iを推定する。この変調振幅Ｚ_biと位相α_iの推定値から、被対象物50の各反射面の位置が求められ、従来のような機械的な誤差要因を排除して、被対象物50の各反射面の形状を二次平面上で精密に測定することができる。 （もっと読む）

【課題】 トンネル断面の巨視的な内空変位を常時実用上十分な計測精度で得ることを可能とすると共に、簡単な機構でメンテナンスフリーを可能とする。
【解決手段】 トンネル内空変位計測システムは、覆工４１に植設された支柱４２_１〜４２_９の各基端部に棒状変位計４_１１，４_１６，４_２１，４_２６，４_３１，４_３６，４_４１，４_４６の各端部、支柱４２_１〜４２_９の各先端部に棒状変位計４_１３，４_１４，４_２３，４_２４，４_３３，４_３４，４_４３，４_４４の各端部、支柱４２_１〜４２_９の各基端部と各先端部に棒状変位計４_１２，４_１５，４_２２，４_２５，４_３２，４_３５，４_４２，４_４５の各端部をそれぞれピン結合する。棒状変位計４_１１〜４_１６，４_２１〜４_２６，４_３１〜４_３６，４_４１〜４_４６からの軸方向変位に応じた信号に基づきトンネルの下端部の既知の２節点を基点として順次、３つの棒状変位計の交点座標を連続的に算出してトンネルの変状を測定する。 （もっと読む）

【目的】金属格子の表面を透明誘電体膜で成膜することで、金属格子の安定性を向上させる。
【構成】断面形状が矩形状のレリーフ型回折格子を有する表面反射型位相格子２１は、基板２２に第１の金属膜２３が成膜され、その上層に第１の金属膜２３と異なる材質から成る第２の金属膜２４による厚さｄの断面矩形状の金属格子２５が形成されている。なお、この金属格子２５の厚さｄは一次回折が最大となるように設定され、更に金属格子２５の表面及びその間に露出した第１の金属膜２３上に、ＳｉＯ₂から成る透明誘電体膜２６が成膜されている。 （もっと読む）

【課題】 液滴吐出装置から吐出される液滴などの被計測物の物理量を計測することを容易にすること。
【解決手段】 計測装置は、光ビームを発生する光発生器と、前記光ビームを受光する光検出器と、前記光発生器と前記光検出器との間の前記光ビームの光路上に位置して、前記光路に垂直な第１方向に沿って前記光ビームの幅を細くする光学部と、を備えている。ここで、前記第１方向への速度成分を有する被計測物が前記光学素子と前記光検出器との間の前記光路の所定部分を通過するように、前記光路が配置されている。また、前記所定部分での前記光ビームの前記第１方向に沿った幅は、前記被計測物の前記第１方向に沿った幅以下である。そして、前記所定部分での前記光ビームの第２方向に沿った幅は、前記被計測物の前記第２方向に沿った幅よりも大きい。なお、前記第２方向は前記光路および前記第１方向の双方と異なる。 （もっと読む）

深さ情報を含む、対象物のイメージを作成する方法であって、照明装置からの光の周期的なパターンを用いて該対象物を照明するステップであって、該照明装置は、該パターンが焦平面内で焦点が合い、かつ前記焦平面から離れるにつれ焦点がぼけるようになっており、対象物は、その異なる部分が、焦平面から異なる距離にあるように配置されているステップと、そのように照明された対象物からイメージデータを取得するステップと、取得したイメージを解析して、該パターンの焦点ぼけの程度に基づいて、深さ情報を抽出するステップと、該パターンを用いることなく、かつ深さ情報を用いて対象物のイメージを表示するステップとを含む、方法。周期的な光のパターンを用いて対象物を照明するように適応された照明装置であって、照明装置は、パターンが焦平面内で焦点が合い、かつこの焦平面から離れるにつれ焦点がぼけるようになっており、対象物は、対象物の異なる部分が、焦平面から異なる距離にあるように、照明装置に対して配置可能になっている照明装置と、そのように照明された対象物からイメージデータを取得するように適応されたイメージデータ取得手段と、取得したイメージデータを解析して、パターンの焦点ぼけの程度に基づいて深さ情報を抽出するように適応されたデータ解析手段と、該パターンを用いることなく、かつ深さ情報を用いて、対象物のイメージを表示するイメージ表示手段とを備える、装置または該方法を実行すること。
（もっと読む）

【課題】 複合材の損傷を探知する光ファイバ（ＦＢＧセンサ）を備え、高い視認性を有して取扱い易い損傷探知用モジュール化センサ及びその製造方法を提供する。また、この損傷探知用モジュール化センサが埋め込まれた構造用複合材を提供する。
【解決手段】 ＦＢＧセンサ４を有する光ファイバ１１の端部にコネクタ１２を取り付け、光ファイバ１１に部分的にフィルム１３を固着することにより、高い視認性を有し取扱い易い損傷探知用モジュール化センサ１０を構成する。そして、損傷探知用モジュール化センサ１０の光ファイバ１１（ＦＢＧセンサ４を含む）の露出部を構造用複合材１００の応力集中部を通るように埋設し、構造用複合材１００の端部にフィルム１３をその一部を突出させるようにして埋設する。 （もっと読む）

【課題】青果物の外観検査と内観検査との双方を行うことができ、さらに、１回の測定でこれらの検査を同時に行うことができる青果物の品質検査装置の提供。
【解決手段】二次元状に画素が配列された受光素子面を有する固体撮像装置に分光装置を接続し、一次元の被撮像領域からの光をスリットへ導きスリットを通過した一次元像を回折格子で波長毎に分散させ受光素子面の画素行方向を一次元像の位置軸とし、画素列方向を波長軸として一次元像の各位置に対応する画素行方向の各画素について画素列方向の各画素に波長分解したスペクトルを得るようにし青果物を移動させながら、この移動方向と略垂直である一次元の被撮像領域からの光をスリットへ順次入射させ、これにより移動の方向へ連続し各位置における被撮像領域からの一次元像について受光素子面の画素行方向の各画素について画素列方向の各画素に波長分解したスペクトルを得て検査を行う。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、支持基板上に設けられた光透過性の膜の膜厚を精度よく測定することが可能な膜厚測定方法及び膜厚測定装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 膜厚測定方法は、支持基板上に設けられた光透過性を有する膜の膜厚を測定する膜厚測定方法において、膜に光を入射させ、膜の表面で反射された光と、支持基板の表面で反射された光との干渉により得られる反射光を分光して、分光された反射光の光量を検出し、光量から反射率を演算する際に、反射率のダイナミックレンジを拡大することにより反射率が極小及び極大となる波長を求め、反射率が極小及び極大となる波長並びに膜の屈折率を用いて膜の膜厚を測定する。 （もっと読む）

【課題】
安定した異物等の欠陥を検査できるようにした欠陥検査装置を提供することにある。
【解決手段】
被検査試料表面にレーザビームを集光・照明し、発生する散乱光から表面の異物・欠陥を検出する検査装置において、レーザ光源１０５から出射したレーザビームのガウス分布形状をビーム整形光学系１０８により平坦に整形し、レーザビーム照射位置と欠陥・異物の相対位置が変化しても安定した検出信号を得るように構成したことにある。 （もっと読む）

【課題】変位物体の位置、変位量、変位方向等の変位情報を検出する装置に用いる円形のディスクに関し、ウエハにパターンニングされた状態からディスクを個別に切り出すこと無く、ディスクが所望の回折効率を満たしているかどうかを測定すること。
【解決手段】光源から出射された光束をディスクの回折格子部に入射し、回折格子からの回折光を受光してディスクの回折効率を測定する装置において、光源と回折光受光素子が一体で回転する機能を有することにより、ウエハにパターンニングされたディスクを個別に切り出すことなく、ウエハにパターンニングされた状態でディスクの回折効率を連続的に測定できることを特徴とするディスクの回折効率測定装置。 （もっと読む）

【課題】 高感度を有し、オーバレイ測定の改善された精度を提供するスキャトロメトリシステム及び方法を提供する。
【解決手段】 スキャトロメトリ測定で使用するオーバレイターゲットグレーティングの設計方法は、Ａ）サンプル層パラメータを選択し、Ｂ）第１ターゲット特性を有する第１ターゲットグレーティングを選択し、Ｃ）入射光の角度範囲にわたって第１ターゲット特性のオーバレイオフセット変化の標準偏差を平均して、数学モデル化ターゲットでの反射光のＡＳＤを計算し、Ｄ）第１増分によって第１ターゲットグレーティング特性をシフトさせ、Ｅ）ステップＣから繰り返して、Ｆ）ステップＣとステップＥのＡＳＤを比較し、大きい方を新たな開始グレーティング特性とし、Ｇ）最大の所望のＡＳＤが得られるまで、ステップＣ−Ｆを繰り返し、Ｈ）実際のターゲットを、上記ＡＳＤと対応するターゲットグレーティング特性を有するように設計する。 （もっと読む）