【課題】測定対象物の変位に対する出力特性の変動を抑えることで、測定対象物の軸心の振れの測定精度を向上させることができる回転振れ測定装置およびスケール部を提供する。
【解決手段】スケール部１１をシャフトＦに取り付け、Ｘ軸ヘッド部２２に対してシャフトＦを回転させると、スケール部１１は、Ｘ軸ヘッド部２２の照射ユニット３０から照射されたレーザー光線Ｌ１を、シャフトＦが一回転する間連続してＸ軸ヘッド部２２のエンコーダ受光ユニット４０に反射する。このように、シャフトＦの軸心Ｔの振れを、スケール部１１の変位によるレーザー光線Ｌ２の強さの変化の回数によって測定しているので、長時間の測定においても、シャフトＦの電気的特性変化に影響されることなくシャフトＦの軸心Ｔの振れを測定することができる。よって、長時間の測定において軸心Ｔの振れの測定精度を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】パターンの画像を測定しているパターン付き基板上の位置を正確に決定する方法および装置を提供することである。
【解決手段】基板特性の測定方法は、放射ビームＢがマスクＭＡを通過するように構成されたパターン付きマスクを生成してパターンを取得すること、マスクを使用してパターンが与えられたパターン付き放射ビームでの基板Ｗの照射をシミュレーションしてシミュレーションパターンを獲得すること、パターニングの誤差が発生しやすいシミュレーションパターンの少なくとも１つの位置を決定すること、および、リソグラフィプロセスを使用して前記パターン付き放射ビームで前記基板を照射することを含む。方法は、パターニングの誤差が発生しやすいとして決定された基板上のパターンの少なくとも１つの位置の少なくとも１つの特性の精度を測定し、測定に従ってリソグラフィプロセスを調整することも含む。 （もっと読む）

【課題】干渉計システムとエンコーダシステムを併用するハイブリッド方式のサーボ制御により、移動体を安定且つ高精度に２次元駆動する
【解決手段】干渉計システム、例えばＸ干渉計１２６とＹ干渉計１６とを用いてステージＷＳＴの第１の位置情報を計測する。同時に、エンコーダシステム、例えば１つのＸヘッド６６とＹヘッド６５，６４とを用いてステージの第２の位置情報を計測する。第１の位置情報と第２の位置情報の差分を所定の計測時間にわたって移動平均して座標オフセットを設定し、該座標オフセットを用いてエンコーダシステムの出力信号の信頼性を検証する。正常が確認された場合に、第１の位置情報と座標オフセットとの和を使用してステージをサーボ制御する。このハイブリッド方式のサーボ制御により、干渉計の安定性とエンコーダの精密さを兼ね備えたステージの駆動制御が可能になる。 （もっと読む）

【課題】ウエハ上の複数の区画領域に精度良くパターンを形成する。
【解決手段】
制御装置により、ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作を行なうに当たり、ウエハステージＷＳＴの移動経路中のウエハＷ上の各ショット領域の露光開始点において、エンコーダシステム６５、６４、６６及び干渉計１６、１２６の計測値を取り込み、露光開始点毎に、エンコーダシステムの計測値に基づいて干渉計１６，１２６の計測値を補正しつつ、干渉計１６，１２６の計測値に基づいてウエハステージＷＳＴが駆動される。すなわち、ウエハ上の複数の区画領域をステップ・アンド・スキャン方式で露光する際に、ウエハステージＷＳＴ体の加速度に起因するエンコーダシステムの計測誤差が小さくなる露光開始点毎に、エンコーダシステムの計測値に基づいてパターンと物体との位置合わせ精度を向上させるための処理が行なわれる。 （もっと読む）

【課題】基準構造が振動や他の機械的な妨害を受けることにより生じるグレーティングの振動、エンコーダ測定システムにおけるグレーティングの変位の不正確さ、これによるエンコーダからの読取誤差を防止する。
【解決手段】基準に対してエンコーダ測定システムの一部を形成するグレーティングＧＴの位置を測定し、エンコーダ測定システムはリソグラフィ装置の基板テーブルの位置を測定するように適合され、さらに基板テーブルに取り付けられているセンサＥＳを含む補助センサシステムＡＳＳにおいて、グレーティングを励振して、補助センサシステムの少なくとも１つの測定方向に移動させるステップと、移動の間に、センサシステムから補助センサシステムの出力信号を取得するステップと、移動の間に取得された出力信号に基づき補助センサシステムのパラメータを調整して、それによって補助センサシステムをキャリブレーションするステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】輪郭測定装置及び動作方法を提供する。
【解決手段】輪郭測定装置（１２）は、対象物（２２）上に縞パターンを投影するように構成されている縞投影デバイス（３２）と、対象物（２２）によって変調された歪み縞パターンの画像を取得するように構成されている光学ユニット（３４）とを含む。輪郭測定装置（１２）はまた、光学ユニット（３４）からの取得した画像を処理して、該画像からノイズをフィルタリングし且つ対象物（２２）の製造又は修理に関連したパラメータについての実時間推定値を求めるように構成されている信号処理ユニット（６０）を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、直射日光の影響を受けないこと、設置時間を短縮すること、センサを再利用できること、変位量を正確に測定できる変形量測定技術を提供することである。
【解決手段】本発明の変形量センサは、外管長体、内長体、歪センサ、潤滑手段とから構成されている。外管長体は、管状の長体である。内長体は、外管長体の内部に備えられた長体である。歪センサは、内長体の表面に、内長体の軸方向の伸びを測定できるように取り付けられた伸び歪を測定するセンサである。潤滑手段は、外管長体と内長体との隙間を埋めると共に滑りをよくするための手段である。例えば、外管長体と内長体との間に粒状体を充填すればよい。さらに、歪センサとしては、光ファイバなどを用いればよい。 （もっと読む）

【課題】基板の露光用の照明条件に起因する計測の精度の過剰な低下を抑える。
【解決手段】露光装置ＥＸは、露光の制御のための計測を原版ステージＲＳに配置された第１マークＲｍと基板ステージＷＳに配置された第２マークｗｍとを使って行なう計測システムＭと、ある照明条件で基板の露光を行なうために計測システムＭによって計測が行なわれる際に当該照明条件とは異なる照明条件を設定可能な制御部ＣＮＴとを備える。 （もっと読む）

【課題】計測ツール内で方向に依存するオフセットをより簡単に補償することが可能な技術を提供する。
【解決手段】計測ツール内の方向に依存する変動を補償するために、計測ツールの較正に使用する基板を形成する方法。基板形成方法は放射感応性材料の層を基板表面に設け、第一セットのパターンフィーチャ及び第二セットのパターンフィーチャを含むキャリブレーションパターンをもつパターンニングデバイス（リソグラフィ装置）により露光する。 （もっと読む）

【課題】スキャトロメトリターゲットを提供すること、およびターゲットの回折格子のサイズが低減するのを可能にするが、回折格子のピッチが測定放射ビームの波長よりも小さい場合に、より高次の回折次数を損なわないターゲットの製作方法を提供すること。
【解決手段】ｎ個ごとに１個の構造が構造の残りとは異なる、構造の周期的なアレイを含む、基板上のオーバーレイターゲットが開示される。周期的なアレイは、望ましくは、交錯した２つの回折格子から形成され、アレイ内に非対称性を形成するために、それらの回折格子の一方が他方の回折格子とは異なるピッチを有する。次いで、この非対称性を、オーバーレイターゲットから反射された放射の回折スペクトルを測定することによって測定することができる。非対称性のばらつきが、連続する層上にオーバーレイターゲットがプリントされる基板上の層内に、オーバーレイエラーがあることを示す。 （もっと読む）

光センサは、少なくとも１つの光結合器と、少なくとも１つの光結合器に光学的に連通する光導波路とを含む。光導波路は、当該少なくとも１つの光結合器から第１の光信号を受取るように構成される。第１の光信号は、光導波路の少なくとも一部分を伝播する間、ある群速度およびある位相速度を有し、群速度は位相速度未満である。第１の光信号と第２の光信号との間の干渉は、回転、歪みまたは温度のような、光センサの少なくとも一部分への摂動によって影響される。
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【課題】高精度なウエハステージの移動制御を行う。
【解決手段】ウエハステージの位置を計測するために用いられるスケール３９Ｙ₂に対して検出装置ＰＤＹ₁の照射系６９Ａからの検出ビームを照射し、スケール３９Ｙ₂を介した検出ビームを受光系６９Ｂで検出することにより、スケールの表面状態（異物の存在状態）を検出する。これにより、スケールに対して非接触で表面状態の検出を行うことができる。さらに、この表面状態を考慮することで、ウエハステージの移動制御を高精度に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】同様の膜厚を有する層が複数存在する多層薄膜であっても、各層の膜厚を独立して短時間に高精度で測定することができる膜厚測定装置及び方法を提供する。
【解決手段】膜厚測定装置１は、被測定フィルムＦに照射する白色光を発光するキセノンフラッシュランプ１１ａ，１１ｂと、白色光の反射光を分光して反射分光スペクトルを得る分光器１４ａ，１４ｂと、演算部１５とを備える。演算部１５は、分光器１４ａ，１４ｂで得られた反射分光スペクトルに対して複数の波長帯域を設定する設定部２２と、反射分光スペクトルのうち、設定された複数の波長帯域における反射分光スペクトルを波数域反射分光スペクトルに変換する波数変換部２３と、波数域反射分光スペクトルをパワースペクトルに変換するフーリエ変換部２４と、パワースペクトルから被測定フィルムＦの厚みを求める膜厚算出部２６とを備える。 （もっと読む）

【課題】予め多種類の被測定物に対して変換用のデータを準備する必要がなく、しかも、被測定物の計測点の周辺を観察できる計測装置を提供する。
【解決手段】色収差によって、波長成分毎に異なる合焦位置からの反射光のみが計測光学系のピンホール２０を通過して検出器２６によって検出され、検出出力が最大となる波長成分に基づいて、ワーク２３の表面の位置を計測する一方、撮像光学系では、波長成分毎に、異なる合焦位置のワーク２３からの反射光が、ピンホールアレー２８の各ピンホール上に結像されて撮像され、計測光学系による計測点の周辺の画像を、深い被写界深度で観察できるようにしている。 （もっと読む）

【課題】
位相シフト光干渉を用いて対象物の変位を測定する際、４つの位相シフト光路の生成に３つのビームスプリッタを用いていたため、干渉計が大きくなり、適用対象が限られていた。また、位相シフト光路間に温度分布、湿度分布、気圧分布、密度分布、気流変化などの外乱が重畳されると測定誤差となってしまうという本質的な問題を抱えていた。
【解決手段】
４つの位相シフト光路を、４分割プリズムとアレイ状に配置したフォトニック結晶λ/４素子及びフォトニック結晶偏光素子とを組み合わせて空間的に並列生成する構成とすることにより、小形の光干渉変位センサを構築し、適用対象を拡大すると共に外乱の影響を受けることなく、対象物の微小変位や表面凹凸をサブナノメートル以下の分解能でかつ高い再現性で測定する。 （もっと読む）

【課題】反射像における濃淡差が相対的に小さい被測定物に対するフォーカス合わせをより容易に行なうことのできる光学特性測定装置およびフォーカス調整方法を提供する。
【解決手段】観察用光源が発生する観察光のビーム断面の光強度（光量）は、略均一である。マスク部２６ａがこの観察光の一部をマスクすることで、そのビーム断面においてレチクル像に相当する領域の光強度が略ゼロにされる。このレチクル像に相当する影領域が形成された観察光は、ビームスプリッタ２０で反射されて被測定物ＯＢＪへ照射される。この被測定物ＯＢＪに投射されたレチクル像に対応する反射像の濃淡差（コントラスト）に基づいて、被測定物ＯＢＪに対する測定光のフォーカス状態を判断する。 （もっと読む）

【課題】ＦＢＧセンサに生じる温度変化ΔＴの影響を取り除いて歪のみを取り出す。
【解決手段】それぞれ計測対象50と同一の熱膨張率βを有し且つ計測対象50の表面上に一辺11、21を対向させて所定間隔L1で定着させる第１定着体10及び第２定着体20と、両定着体10、20間に架渡して両定着体10、20に固定する一対のＦＢＧセンサ２、３とでセンサ１を構成する。第１定着体10の対向辺11に第２定着体20側へ延出し且つその対向辺11と隙間Ｓを介して向い合う対向縁13が一部分に形成された第１延出部12を設け、第２定着体20の対向辺21に第１定着体10側へ延出し且つ隙間Ｓ内で第１延出部12の対向縁13と所定間隙L2で向い合う対向縁23が一部分に形成された第２延出部22を設け、一方のＦＢＧセンサ２を両定着体10、20の延出部12、22の対向縁13、23を結ぶ線上に固定し、他方のＦＢＧセンサ３を両定着体10、20の延出部12、22以外の対向辺11、21を結ぶ線上に固定する。 （もっと読む）

【課題】非接触で2点間の高さの差を測定可能な光干渉式測定装置を提供する。
【解決手段】照射光を発する光源114、照射光を第1参照光と第1検査光に分割する第1半透鏡41、第1参照光と第1測定点91に照射されて第1測定光路長を進んだ第1検査光とを干渉させ、第1干渉縞を形成させる第1光学素子31、照射光を第2参照光と第2検査光に分割する第2半透鏡42、第2参照光と第2測定点92に照射されて第2測定光路長を進んだ第2検査光とを干渉させ、第2干渉縞を形成させる第2光学素子32、第1干渉縞と第2干渉縞の合成干渉縞を検出する干渉縞検出素子153、合成干渉縞から、第1測定光路長と第2測定光路長との光路差に応じて変動する干渉縞成分を抽出する抽出モジュール310、及び干渉縞成分から、第1測定点91と第2測定点92の高さの差を算出する算出モジュール330を備える。 （もっと読む）

【課題】オーバーレイを測定する方法、及び、オーバーレイ測定に使用するターゲットであって、基板上の所要スペースが少なくかつ測定方向間のクロストークを防ぐターゲットを提供する。
【解決手段】スキャトロメータと共に使用するオーバーレイマーカは、重なり合う二つの２次元格子を有する。この二つの格子は同一のピッチを有するが、上方の格子のデューティ比は、下方の格子のデューティ比に比べて小さい。このようにすることで、Ｘオーバーレイ測定値とＹオーバーレイ測定値の間のクロストークを防ぐことができる。格子は、直接重なり合っていてもよく、あるいは、一方向又は二方向で交互に配置されるようにずれていてもよい。 （もっと読む）

【課題】音響に関わる振動の検出を高感度に行えるマイクロフォンを提供する。
【解決手段】本発明のマイクロフォン１Ａは、音圧を受けて振動する振動板２と、振動板２の裏側に一体化されたボビン２１に取り付けられ、振動板２が振動する方向に沿って移動する回折格子片３０Ａと、可干渉光が出射される光源からの光が回折格子片３０Ａに入射され、回折格子片３０Ａで回折された２つの回折光を干渉させ、振動板２の振動で移動する回折格子片３０Ａの移動量に応じて変化される干渉光の位相変化から、振動板２の変位量を検出する回折格子干渉計３Ａとを備える。 （もっと読む）