【課題】オーバーレイを測定する方法、及び、オーバーレイ測定に使用するターゲットであって、基板上の所要スペースが少なくかつ測定方向間のクロストークを防ぐターゲットを提供する。
【解決手段】スキャトロメータと共に使用するオーバーレイマーカは、重なり合う二つの２次元格子を有する。この二つの格子は同一のピッチを有するが、上方の格子のデューティ比は、下方の格子のデューティ比に比べて小さい。このようにすることで、Ｘオーバーレイ測定値とＹオーバーレイ測定値の間のクロストークを防ぐことができる。格子は、直接重なり合っていてもよく、あるいは、一方向又は二方向で交互に配置されるようにずれていてもよい。 （もっと読む）

【課題】使用可能なすべての情報を効果的に使用し、プロファイルスペースを構成する公称プロファイル及びそのバリエーションをユーザが設定するのを手助けする。
【解決手段】オブジェクトのイメージ42を取り込み、このイメージ上に、手動又は自動によって推定プロファイル20を重畳すること、を含む。推定プロファイルは数学的に定義され、かつ、上記イメージと一致するようにセグメント毎にハンドル30を調節40する。あるいは又はこれに加えて、ユーザは、既知のイメージのプロファイルをトレース（又は自由描写）し、その後、多項式、スプライン、又はベクトル等の数学関数の形状定義物を推定プロファイル上に描くことにより、未知のオブジェクトのプロファイルをその回折パターンから再構成する際に使用し得る、プロファイル及び当該プロファイルの一つ以上の可変例を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】レンズを使用することなく立体形状を計測する装置を提供する。
【解決手段】立体形状計測装置は、波長λの光を発する光源１１０と、第１のピッチｐ_１を有する第１の格子２１０と、第１の格子２１０から第１の距離Ｌ_１だけ離れて配置される第２のピッチｐ_２を有する第２の格子２２０と、画像センサ１２０とを備える。第１の距離と第１のピッチと波長との関係は、Ｌ_１≒ν（ｐ_１）^２／λ（νは整数）である。 （もっと読む）

【課題】
干渉法変位測定において光経路長を低減すること。
【解決手段】
センサヘッド（１０５）と測定格子（１０６）とを具備しており、このセンサヘッドは、 光ビームを提供する光源（２００）と、光ビームを第１および第２の測定チャネル（４００、５００）に分割するスプリッタ格子と、第１および第２の測定チャネルを測定格子に戻すように再帰反射するように構成される第１の再帰反射器および第２の再帰反射器（２０８）と、第１の測定チャネルを受け取るように配置される第１の検出器アレイと、第２の測定チャネルを受け取るように配置される第２の検出器アレイとを備え、測定格子は、各測定チャネルを、第１の照明パスにおいて第１のアーム及び第２のアームに分割し、第２の照明パスにおいて該第１のアームと第２のアームを再結合するように構成される。 （もっと読む）

【課題】層状構造体の層毎の層間変位を簡単に且つ精度よく計測できる方法及び装置を提供する。
【解決手段】層状構造体１の各層又は任意層２_iに、その層２_iの柱梁結合部５又は梁３に一端がピン接合した第１棒状部材11とその層２_iの他の柱梁結合部５又は柱４に一端がピン接合した第２棒状部材12とを両部材11、12の自由端15で相互にピン対合させたトグル機構10_iを配設し、その層２_iのトグル機構10_iの対合節点15とその層２_iの梁３又は柱４との間に変位計30_iを接続し、その変位計30_iの計測値により層状構造体１の層間水平変位δ_iを求める。好ましくは、各層又は任意層２_iに一対のトグル機構10_i、20_iを配設し、変位計30_iを一対のトグル機構10_i、20_iの対合節点15、15 の間に接続する。変位計30_iを、各層又は任意層２_iのトグル機構11の対合節点15を順次接続して高さ方向に架渡した光ファイバセンサ32とすることができる。
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【課題】特に雑音信号の回避によって測定品質が改善された干渉計を備えた光学測定装置を提供する。
【解決手段】信号評価ユニット２と、コヒーレンス長１ｃｍ以下の光を発生する光源３と、少なくとも１つの検出器４ａ、４ｄとを含む干渉計を備えた、物体１の光学的測定を行うための光学測定装置。信号評価ユニットは検出器）の測定信号から物体１の運動データを算出するように形成された振動測定評価部２ｆを含む。焦点制御部２ｄによって制御される光路長を変化させる光路長調整手段１１は、測定ビームまたは参照ビームの光路長を前記焦点制御部の制御信号に応じて変化させる。焦点制御部は、光路長調整手段を制御して、測定ビームと参照ビームの光路長を調整する。 （もっと読む）

【課題】溶接ビードの欠陥の有無についての検査に要する時間を短縮することが可能な溶接ビードの検査装置および検査方法を提供する。
【解決手段】検査対象たる溶接ビード３の表面を含む所定の領域に相互に略平行な複数のライン光５・５・・・からなるラインパターン４を照射しつつラインパターン４が照射された所定の領域の画像６を撮像し、画像６を線形化して細線化画像７を生成し、欠陥が無い溶接ビードについて予め生成された細線化画像である基準細線化画像および細線化画像生成部１１１ｂにより生成された細線化画像７を比較することにより両者の一致度を算出し、算出された一致度に基づいて検査対象たる溶接ビード３の表面における欠陥の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】
検査装置並びに高さ計測装置において、照明手段を、試料上の所望の領域にレーザ光を斜方入射させて均一な強度分布でかつ高い光利用効率で照明することでより低いレーザパワーでも充分に検査又は計測を行えるようにして、比較的小型のレーザ光源を用いること可能にする。
【解決手段】
照明手段を、光学素子の回折光学素子により、照射部を介して試料上に照射される照明光が試料上の直線状の領域を直線状の全領域に渡ってほぼ均一の強度分布で直線状の全領域に渡って焦点が合った状態で照射するように照明光の光束の断面形状と強度分布とを変換するように構成した。 （もっと読む）

【課題】被検眼の画像を取得するときに被検眼を効果的に固視させる。
【解決手段】眼底観察装置1（光画像計測装置）は、低コヒーレンス光Ｌ０を眼底Ｅｆに向かう信号光ＬＳと参照ミラー１７４に向かう参照光ＬＲとに分割し、眼底Ｅｆを経由した信号光ＬＳと参照ミラー１７４を経由した参照光ＬＲとを重畳させて干渉光ＬＣを生成し、この干渉光ＬＣを検出して断層画像を形成する。放射状の複数の走査線Ｒｉに沿って信号光ＬＳを走査することにより、放射状の複数の断面における断層画像Ｇｉが得られる。３次元画像形成部２３１は、走査線Ｒｉの間隔が閾値以下である領域における３次元画像を形成する。また、眼底Ｅｆの領域を指定すると、この指定領域のサイズに応じた本数の走査線Ｒｉを自動設定する。また、走査線Ｒｉの本数を指定すると、その指定本数に応じた領域の３次元画像を形成する。 （もっと読む）

【課題】導光手段からの干渉光の出射位置と干渉光を受光する受光面との位置関係を容易に調整可能な光画像計測装置を提供する。
【解決手段】眼底観察装置（光画像計測装置）１は、ＣＣＤ１８４の受光面に対する計測光の照射状態（照射位置、照射方向）を特定する照射状態特定部２１１と、特定された計測光の照射状態に基づいて光ファイバ１６５のファイバ端１６５ａの位置や向きを変更するファイバ端駆動機構２４４を備え、それにより、光ファイバ１６５のファイバ端１６５ａとＣＣＤ１８４の受光面との相対的な位置や方向を自動的に変更することができる。このようにファイバ端１６５ａと受光面とを適正な位置関係に配置させた状態で眼底Ｅｆの計測を実施する。 （もっと読む）

【課題】歯科分野に適用される光コヒーレンストモグラフィー装置を提供する。
【解決手段】生体の顎口腔領域における組織または顎口腔領域の人工組成物を被計測体とし、データ演算部を持つ３次元上特性測定・表示装置であって、咬合状態にない歯牙表面の形状データ、咬合運動状態を含む咬合状態にある咬合面の形状データ、咬合運動状態を含む咬合状態にある上下咬合面の形状、咬合運動状態を含む咬合状態にある上下対合歯の咬合面を含む断層データのいずれか少なくともひとつに、上下咬合面の接触点または接触面のデータを前記演算部により演算して表示するか、さらに前記３次元上特性測定・表示装置による演算生成によらず別途得られた咬合状態に無い歯牙表面の形状データを同時表示することにより、口腔組織の表面形状や咬合面形状・咬合状態を測定表示することを特徴とする３次元上特性測定・表示装置である。 （もっと読む）

【課題】地下水位が高い地中内に設置した場合であっても、耐水性に優れているために長期間の使用にも耐え、しかも精度よく計測できる地中変位計測装置を提供することを目的とする。
【解決手段】地中変位計測装置であって、筒状収納部材と、上端部を閉塞する上端閉塞部と、下端部を閉塞する下端閉塞部と、筒状収納部材に収納される計測部形成部とを有し、計測部形成部は、ＦＢＧによって構成された検出部と、検出された検出信号を伝送する単一の伝送用光ファイバケーブルと、検出部と伝送用光ファイバケーブルとを被覆保護する被覆保護部と、下端と下端閉塞部とを連結し、被覆保護部に張力を付加する張力付加部材とを有し、 光ファイバケーブルは、外部から筒状収納部へ挿入され、検出部を設置後に折り返されて外部へ退出するよう構成された、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板に焦点が合っているか否かを検出するための煩雑かつ複雑な部品を必要としない方法及び装置を提供する。
【解決手段】基板がレンズのスキャトロメータの焦点面内にあるか否かを検出するため、スキャトロメータの光学システムの後側焦点面の前後において、所定値以上の放射の断面エリアを検出する。好ましくは、後側焦点面の前後にある検出位置を、反射した放射のパスに沿って後側焦点面から等距離におくことによって、基板がスキャトロメータの焦点面内にあるか否かを単純な比較により判断することができる。 （もっと読む）

【課題】波長検波器内の受光素子への外来電磁ノイズにより中心波長の測定値は大きくばらついてしまう。
【解決手段】同一の反射波長帯域をもつ二つの高反射率の光ファイバブラッググレーティング（ＦＢＧ）を光ファイバで接続しこれを第一のファイバファブリペロー干渉型センサとし、該干渉型センサの反射波長帯域とは異なるＦＢＧを第二のファイバファブリペロー干渉型センサとし、以下同様に構成された複数個のファイバファブリペロー干渉型センサを直列に光ファイバで接続し１本の光ファイバを実現する。この光ファイバの一端に反射ミラーを構成し、他端には光分岐結合器または光サーキュレータ経由で広帯域光源からの光を入射させ、出射光を前記光分岐結合器または光サーキュレータ経由で光波長検波器に入射させる。該光波長検波器では前記複数のセンサ個々の温度あるいは歪みなどの物理量にリンクした反射波長を非常にＳＮよく検出される。 （もっと読む）

【課題】照明光学システムおよび投影光学システムを有するスキャトロメータの収差を測定する方法が提供される。
【解決手段】スキャトロメータ内で、透過性開口のアレイを備えるアパーチャプレートが、投影光学システムの瞳面と共役である照明光学システムの面に挿入される。光学システムの収差は、瞳面における輝点の相対位置を測定することによって測定することができる。 （もっと読む）

【課題】偏光板を用いた欠陥の検出を精度良く行う。
【解決手段】走行するフイルム１６と投光器２２との間に第１偏光板２５を設置する。そのフイルム１６と受光器２４との間に、第１偏光板２５の偏光方向と直交するようにして第２偏光板２６を設置する。第１及び第２偏光板２５，２６はヨウ素系偏光板から構成される。投光器２２と第１偏光板２５との間にバンドパスフィルタ２７を設置する。バンドパスフィルタ２７は、投光器２２からの光のうち波長域が４２０ｎｍ以下及び７００ｎｍ以上の光を除去する。これにより、欠陥があるフイルム１６が位置するとき以外には、第１及び第２偏光板２５，２６から特定の偏光面の光以外の光が出ることが無くなり、欠陥に対する検出の精度を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】
被写体から追加的な情報を得るための方法および装置（apparatus）、ならびに、表面撮像および三次元撮像の方法が記載されている。単一のレンズ、単一の絞り開口、単一のセンサーシステムおよびステレオ光学系は、選択的フィルタリング、デフォーカス情報の使用、アドレス可能なパターンの使用、画像マッチング、および、これらの組み合わせにより強化される。
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【課題】 平滑面及び粗面を同時に観察可能な形状観察装置を提供する。
【解決手段】 光を発する光源11、光が照射されるパターンを有するパターン素子21、パターンを透過した光を集光するフーリエレンズ13、光源11と共役な位置に配置され、光を通す照射光透光部を含む照射光フィルタ31A、フーリエレンズ13を透過した光をコリメートする投影レンズ14、コリメートされた光で照射された被観察物51表面の反射光を集光する集光レンズ15、及び照射光透光部と共役で反射光を減光する反射光減光部を含む反射光フィルタ32を備える。 （もっと読む）

【課題】チャックテーブルに保持された半導体ウエーハ等の被加工物の上面高さや厚みを確実に計測できる計測装置および計測装置を装備したレーザー加工機を提供する。
【解決手段】白色光を発光する白色光源と、白色光を集光する色収差レンズと、白色光源と色収差レンズとの間に配設され被加工物に照射された白色光の反射光を分光するビームスプリッターと、分光された反射光を集光する第１の集光レンズと、第１の集光レンズの集光点位置に配設され集光された反射光が通過するピンホールを備えたマスクと、ピンホールを通過した反射光を集光する第２の集光レンズと、第２の集光レンズによって集光された反射光を回折光に変換する回折格子と、回折光を集光する第３の集光レンズと、集光された回折光の波長を検出する波長検出手段と、波長検出手段からの波長信号に基いてチャックテーブルに保持された被加工物の高さ位置を求める制御手段とからなっている。 （もっと読む）

【課題】例えば、基板の面位置をより高精度に計測できる位置検出装置及び露光装置を提供する。
【解決手段】本発明の第１側面に係る位置検出装置は、光軸を有し、該光軸に関して対称な２つの光束を基板に入射させる投光光学系と、受光部と、前記投光光学系から射出し該基板で反射した該２つの光束を前記受光部に導く受光光学系と、前記受光光学系から射出した該２つの光束が前記受光部に入射した位置をそれぞれ検出する検出部と、前記検出部によって検出された位置に基づいて該基板の面位置を計算する計算部とを有し、前記投光光学系及び前記受光光学系の少なくとも一方は、該２つの光束に対して共通化されていることを特徴とする。 （もっと読む）