【課題】
従来の光ファイバを利用した計測では光ファイバ１本に対して計測項目は１つだけであり、1本の光ファイバでは温度、圧力、流量などの複数の物理量を同時に計測できない問題があった。
【解決手段】
長さ方向に屈折率が異なる回折格子組を連続的又は非連続的に形成した光ファイバを使用し、これに任意の波長域を有する光を入射し、各回折格子組で特定波長の光のみを散乱させ、入射端に反射してくる散乱光（レイリー散乱、ブリルアン散乱、ラマン散乱）を利用して、各回析格子組ごとに温度、圧力、流量などの複数の物理量を同時に定量評価する。 （もっと読む）

【課題】透明薄膜の厚さと表面形状を同時に測定することのできる、白色光干渉計を用いた透明薄膜の厚さ及び形状の測定装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明においては、干渉光を周波数別に分光させた後、周波数別の第１の干渉縞を得、合成干渉光を周波数別に分光させた後、周波数別の第２の干渉縞を得る。第１の干渉縞から薄膜の厚さによる位相を得、位相から薄膜の厚さ情報のみを得る。第２の干渉縞から位相を求め、薄膜の厚さ情報が含まれている薄膜の表面情報を得る。薄膜の厚さ情報を用い、薄膜の厚さ情報が含まれている薄膜の表面情報から薄膜の表面情報を得る。 （もっと読む）

表面に関する情報を検出する装置は、表面についての２次元情報を取得するように配置される第１の複数の光学要素と、表面についての表面凹凸形状情報を取得するように配置される第２の複数の光学要素とを備え、第１の複数の光学要素、および、第２の複数の光学要素は、単一センサアレイの少なくとも部分的に重ならない部分に、２次元情報および表面凹凸形状情報を同時に提供するように配置される。
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本発明は、第一の回折パターン（３Ａ）および該第一の回折パターンに対して所定の配向をもつ第二の回折パターン（３Ｂ）を有する物体（２）の動きを検出するシステム（１）に関する。本システムは、前記第一の回折パターンに少なくとも第一の入射ビームを与えて、前記第一の回折パターンから第一の回折ビームが得られるようにし、前記第二の回折パターンに、前記第一の入射ビームに対して所定の配向をもつ少なくとも第二の入射ビームを与えて、前記第二の回折パターンから第二の回折ビームが得られるようにするよう適応された光学手段を有する。本システムは、前記第一の回折ビームおよび前記第二の回折ビームのうちの少なくとも一つの間の位相差に基づいて前記物体の動きを検出する手段を有する。したがって、物体（２）の動きを検出するためのより大きな面内回転範囲が得られる。本発明はまた、二次元の回折パターン（３Ａ、３Ｂ）を設けられたウェーハ（２）および物体の動きを検出するための方法にも関する。
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本発明は、回折パターン（３）が加えられている物体（２）の並進（T）を検出するシステム（１）に関する。該システムは、前記回折パターンに入射光ビーム（I）を与え、前記回折パターンからの回折光ビーム（D）を得る手段（４）と；前記入射光ビームと前記回折ビームとの間の干渉によって位相差を測定する手段（４）と；前記測定された位相差に基づいて前記並進を検出する手段（４）とを有する。本発明はさらに、物体（２）の並進を検出する方法；再方向付け装置６および周波数多重システムに関する。
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【課題】 構造が簡単で、高速で撮像できる光コヒーレンストモグラフィー装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 光コヒーレンストモグラフィー装置は、光源１６と、光源光を、参照光２９と被計測試料２２に照射する計測光２８とに分ける光分割部１９と、計測光２８と、参照光２９とを干渉させて干渉光とする干渉部１９と、干渉光を計測する光検出部２６と、運動可能な計測ヘッド２０１であって、その運動によって計測光２８が被計測試料２２に照射される位置が変化する計測ヘッド２０１と、計測ヘッド２０１の運動を測定する力学量センサ３８と、光検出部２６で計測された干渉光と、力学量センサ３８で測定された計測ヘッド２０１の運動に基づいて、被計測試料２２の情報を求める演算部２７とを備える。 （もっと読む）

【課題】 簡便に高い検出感度を得ることができる検査装置及び検査方法並びにそれを用いたパターン基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる検査装置はレーザ光源１０１と、試料表面に光スポットを形成する対物レンズ１０２と、対物レンズ１０２から試料１０７に入射した光ビームのうち、試料表面で反射した反射光に基づく出力信号を出力する光検出器１１０と、試料１０７と光スポットとの相対的な位置を走査ラインに沿って走査するステージ１０８であって、前記光スポットが隣接する走査ラインの光スポットと重複した領域を照明するように走査するステージ１０８と、光検出器１１０からの出力信号に基づいて欠陥候補を検出する欠陥候補検出部２０２と、欠陥候補検出部２０２において検出された欠陥候補間の距離に基づいて欠陥か否かを判定する欠陥判定部２０８とを備えるものである。 （もっと読む）

【課題】 ＥＵＶ光を露光光源としながらも、レチクルとウェハとの位置合わせを高精度に行うことができる露光装置及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】 ５０ｎｍ以下の光で第１のステージに載置されたレチクルを照明する照明光学系と、当該レチクルのパターンを第２のステージに載置された被処理体に投影する投影光学系とを備える露光装置において、前記第２のステージ上に設けられ、前記レチクル又は第１のステージに設けられた前記レチクルと前記被処理体との位置合わせの基準となる基準マークで反射された基準光に対応する形状を持つアライメントパターンと、前記基準光が前記アライメントパターンに入射する入射側に設けられ、前記アライメントパターンで反射された反射光を検出する検出手段とを有することを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 高速測定を維持しつつノイズとなる信号を除去できるスペクトル干渉を用いた被検物体の測定方法、及び該方法を用いた眼科装置を提供する。
【解決手段】 低コヒーレント長の光の一部を被検物体に照射して反射光を物体光とするとともに低コヒーレント長の光の一部を参照光として物体光と合成して干渉させ，得られた干渉光を所定の周波数成分に分光して受光して受光信号を得るとともに、受光信号をフーリエ変換又は逆フーリエ変換して位相物体の断層像撮影または光学表面プロファイルの測定を行うための測定方法において、受光信号に含まれる物体光及び参照光の各自己相関信号の和となる信号成分を受光信号から差し引いた情報をフーリエ変換又は逆フーリエ変換することにより被検物体の画像情報を得る。 （もっと読む）

【課題】 デジタルカメラ等の光学機器に設けられる位置検出装置における検出の誤差を除去する。
【解決手段】 固定部材３１の支持板にＬＥＤ５４とトーリックレンズ５５とミラー５６を取付ける。固定部材３１のミラー５６に対応した位置に、位置検出素子５７を設ける。位置検出素子５７は、撮像素子２３が設けられたステージの移動可能な範囲を超えた長さを有する。ステージに固定されたコイル基板２４にスリット５２を形成する。スリット５２はステージの移動方向に垂直な方向に延びる。トーリックレンズ５５は、ＬＥＤ５４から出力された光を平行ライン光に変換する。平行ライン光はミラー５６において反射し、スリット５２を通って位置検出素子５７に照射される。 （もっと読む）

【課題】 検出波形が非対称な信号の場合であっても高いフォーカス精度を実現する位置補正方法及び装置を提供する。
【解決手段】 本発明の一側面としての位置検出装置は、被露光体に光を照射しての当該被露光体の位置を検出し、検出した位置情報を補正する位置補正方法であって、前記被露光体からの反射光から位置信号である第１の波形を検出する検出ステップと、前記第１の波形を分解し、複数の第２の波形を生成するステップと、前記第１の波形が対称な波形になるように前記複数の第２の波形から前記第１の非対称性成分が含まれる波形を除去して、前記第１の波形を補正するステップとを有することを特徴とする位置補正方法及び装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】被計測体の表面近傍の１ラインで光を集光させ、被計測体の１ラインに沿った深さ方向の形状が機械的走査なしで一枚の２次元ＣＣＤ画像センサより２次元形状計測が可能とする。
【解決手段】光源ＬＳから被計測体Ｓに向うの光の光路中に順次設けられたコリメートレンズＬ１、シリンドリカルレンズＣＬ、ビームスプリッタＢＳ及び対物レンズＬ２、及び参照アーム６（ビームスプリッタＢＳで分岐された光路中に設けられた対物レンズＬ３と参照ミラーＭ１）から成るマイケルソン干渉計と、回折格子Ｇ、レンズＬ４及び２次元ＣＣＤカメラ４を有するスペクトロメータ部分３とから成り、シリンドリカルレンズＣＬの湾曲はｙ−ｚ平面に形成されており、回折格子Ｇに形成された一方向の溝１０の向きはｙ軸方向に形成されている。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置に関する振動モードと、それらのそれぞれの大きさの尺度とを決定するためのシステム及び方法を提供すること。
【解決手段】投影平面内の画像位置でエアリアル画像を投影し、
エアリアル画像の強度を画像マップにマッピングし、画像マップはサンプル抽出箇所の座標の値とそれぞれのサンプル抽出箇所でサンプル抽出された強度の値とを含み、
スロット・パターンを通して受け取ったエアリアル画像の強度を測定することによって、振動関連情報を決定するための方法。
さらに、この方法は、
画像マップから画像マップの傾斜部分の検出位置を決定するステップ、
この傾斜部分の検出位置で、エアリアル画像の時間的強度を測定しかつスロット・パターンと画像位置との相対位置を測定するステップ、
エアリアル画像の時間的強度から前記エアリアル画像に関する振動関連情報を決定するステップを含む。 （もっと読む）

【課題】 計測中に被測定物体が動いた場合にも、被測定物体の様々な深さの断層画像に基づく３次元画像等を高い精度で形成可能な光画像計測装置を提供する。
【解決手段】 低コヒーレント光源からの光ビームを信号光Ｓと参照光Ｒとに分割するハーフミラー６と、参照光Ｒの周波数をシフトさせる周波数シフタ８と、参照光Ｒの光路長を変更する参照鏡９及びピエゾ素子９Ａと、信号光Ｓと参照光Ｒとがハーフミラー６により重畳されて生成される干渉光Ｌを受光して検出信号を出力するＣＣＤ２１、２２と、この検出信号に基づいて断層画像を形成する画像形成部５１と、各断層画像の計測深度を求める計測深度算出手段５３と、形成された複数の断層画像をその計測深度に基づいて計測深度方向に配列させる画像処理部５７とを備える。画像処理部５７は、配列された断層画像に基づいて３次元画像等を形成する。 （もっと読む）

【課題】
特にＣＭＰ後の膜厚管理として、チップ内の様々な部分での膜厚計測実現のニーズが高まっているが、４５ｎｍノード以降ではデバイスパターンが非常に微細となったとしても、パターン上での膜厚計測を容易に可能にした。
【解決手段】
可視光を用いて光学的に膜厚を求める場合、４５ｎｍノード以降では対象パターンが検出波長の１０分の１程度の大きさとなり解像度以下となるため、被計測対象を均一な層構造と仮定することができ、仮定したモデルを用いることにより短時間での膜厚計測を実現することができる。また、被計測対象のパターンの大きさによって、膜厚計測アルゴリズムを選択する。 （もっと読む）

【課題】 二次元配列型共焦点光学系を用いながら、三次元形状計測を高速に精度よくなし得、作製や各部の位置合わせも容易な形状測定方法を提供する。
【解決手段】 光源１から出射した光を複数に分岐して対物レンズ５を介して被測定物体９に照射し、光軸方向に被測定物体９を相対移動させて、その移動の時々の反射光を光検出器アレイ８で検出し、被測定物体９の前記光軸方向における時々の位置データとそのときの光検出器アレイ８の検出信号とを対にしてデータ処理して、被測定物体９の表面形状を三次元計測するとともに、光源１から出射した光を回折格子３を介して前記複数に分岐する。 （もっと読む）

【課題】３次元干渉縞投影方法を改良する。
【解決手段】本発明の一態様による、物体（１２）の形状を測定するシステム（１０）が提供される。このシステムは、基準マークを有する干渉縞パターン（１８）を物体（１２）上に投影するように動作可能な投影システム（１４）を備える。このシステムはさらに、物体（１２）によって変調された干渉縞パターンの画像（２０）を取得するように動作可能な画像処理システム（２６）を備える。画像処理システム（２６）はさらに、干渉縞パターンの画像内の基準マークを同定するように動作可能であり、この基準マークに基づき物体（１２）の形状を構築する。 （もっと読む）

【課題】 高速測定を維持しつつ奥行方向の測定範囲を拡大することのできるスペクトル干渉ＯＣＴを用いた眼科装置を提供する。
【解決手段】 被検眼の特性を測定又は撮影する眼科装置において、低コヒーレント長の光の一部を被検眼に照射する測定光光学系と、低コヒーレント長の光の一部を参照光とする参照光光学系と、参照光と被検眼からの反射光とを合成して干渉させ，得られた干渉光を所定の周波数成分に分光する干渉光学系と、干渉光学系にて周波数成分に分光する際における分光特性を変化させる分光特性変更手段と、周波数成分に分光された光を受光する受光手段と、受光手段による受光信号に基づいて被検眼の特性を測定又は撮影する制御手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 変位測定のための干渉計システム及びこれを利用した露光装置を提供する。
【解決手段】 この干渉計は光線を発生させる光源、光線を基準光線と測定光線とに分ける光分配器、基準光線の進行方向を変更するための基準ミラー、測定光線の進行方向を変更するための変位変換器及び方向変更された基準光線と測定光線を測定するための検出器を具備する。変位変換器は測定光線の進行方向に垂直の変位を測定光線の経路差に変換させるために透過型格子または反射型格子を利用する。 （もっと読む）

離散ビーム周波数可変レーザと関連して用いられるモードモニタリング装置は、レーザの調節のためまたはレーザの使用にともなうその他の処理のために用いることができる、光フィードバックを提供する。例えば、一層正確な干渉データの収集または処理をサポートするために、周波数偏移干渉計のための周波数可変源の出力をモニタすることができる。測定ビームの相異なる部分が進行する光路長差の所望の測定値をとるための第１の干渉計を測定ビーム自体の測定値をとるための第２の干渉計と連結することができる。追加の干渉データをビームの周波数及び強度の尺度を与えるために発明にしたがって解釈することができる。
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