【課題】 干渉縞を除去した鮮明な画像データを取得することのできる画像処理方法およびこれを用いた装置を提供する。
【解決手段】 測定対象面３０と参照面１５から反射して戻る両反射光の位相差を位相差算出部２６で理論演算により求め、当該位相差を有する反射光を利用して所定のサンプリング間隔で取得した画像データの画素ごとに、光の強度値を補正する補正係数を求めるとともに、実撮像により取得した画像データ上の画素ごとの光の実強度値群に補正係数を反映させた強度値を補正処理部２８で求める。この補正後の強度値に基づいて、画像データ作成部２８が画像データを作成する。 （もっと読む）

【課題】 通常の画像出力機能の他に撮像信号を用いた各種演算処理を行うイメージセンサの小型化、低消費電力化、低コスト化、多画素化等を実現する。
【解決手段】 従来のイメージセンサのピクセル毎に保持していた演算回路をカラム毎に共有する。また、各ピクセルから画像信号を取り出す垂直信号線５４の上下方向の信号伝送経路に、それぞれ異なる構成の信号処理回路を設け、画像出力の処理と演算処理とを別な回路ブロックで完全分離して行うことにより、実画像の高画質化を達成し、かつ演算処理にも最適な設計を可能とする。すなわち、画像出力側には、Ｉ−Ｖ変換回路部４４、ＣＤＳ回路部４５等を設ける。また、演算処理側にはカレントミラー回路部４６、アナログメモリアレイ部４７、コンパレータ部５０、バイアス回路部５１、データラッチ部５２、出力データバス部５３等を設ける。 （もっと読む）

走査干渉計信号を解析する方法およびシステムが開示されている。工程は、検査対象物（例えば、薄膜を有する試料）の第１の位置について走査干渉計によって生成される走査干渉計信号を供給すること、１つまたは複数のパラメータ値によってパラメータ化される、走査干渉計によって生成される走査干渉計信号のモデル関数を与えること、モデル関数と走査干渉計信号との間の１連の走査位置のシフトそれぞれについて、パラメータ値を変化させることによりモデル関数を走査干渉計信号にフィッティングすること、フィッティングする工程に基づいて第１の位置での検査対象物（例えば、検査対象物中の薄膜についての表面高さまたは高さプロファイルおよび／または厚さまたは厚さプロファイル）についての情報を決定することを含む。
（もっと読む）

【課題】複数台が対象空間を共通にしている場合でも、それぞれ対象空間の空間情報を独立して検出することができる空間情報検出装置を提供する。
【解決手段】空間情報検出装置は、対象空間に投光する発光源２と、発光源２から対象空間に投光する光の強度を変調するように発光源２に所定の変調周波数の変調信号を与える発光制御部３と、対象空間からの光を受光し受光光量に応じた電荷を生成する感光部１１を有した光検出素子１と、光検出素子１の出力から対象空間に存在する物体Ｏｂまでの距離を求める距離演算部４とを備える。距離演算部４は、光検出素子１が受光する環境光成分のうち変動成分を相殺するように変調信号に同期する特定の位相区間の差分の積算値を所定の積分時間において求め、当該積算値を用いて物体Ｏｂまでの距離を求める。 （もっと読む）

【課題】 短時間に被検査物体の検査を行い、平坦度の異常を検出できるスループットの良好な平坦度異常検出方法を提供すること。
【解決手段】 露光装置１のオートフォーカス検出系６を利用して、ウエハＷと投影されたスリット像とを相対的に移動させながら位置情報を取得する位置情報取得のステップと、ウエハＷ上をショット領域に区画して、ここに含まれる位置情報から近似平面を求める近似平面取得のステップと、この近似平面と各位置情報を比較し、近似平面からの乖離を閾値と比較して乖離がこの閾値より大きな場合に平坦度異常と判定する平坦度異常検出のステップを実行し、表示装置２０ｃに異常が検出されたショット領域を表示する。ウエハＷにゴミが存在する場合に簡易な手順で露光工程に先立ち未然にゴミを発見できる。 （もっと読む）

【課題】 簡素な装置で効率よくトロリー線の測定を行うことのできるトロリー線の位置測定装置を提供する。
【解決手段】 車両１の屋根上に車両１の進行方向に対して左右に互いに対向して配置され、それぞれトロリー線７に向き合う二台のラインセンサ２及び３と、ラインセンサ２及び３それぞれの出力値に基づいた画像を記録する画像記録部５と、画像記録部５から取得したそれぞれの画像を解析し、トロリー線７の高さ及び偏位を検出する画像処理部６とを備えるトロリー線の位置測定装置とした。 （もっと読む）

【課題】 受光スポット同士が互いに重なるような場合でも、誤差を最小限に留めることが可能な角度測定装置を提供する。
【解決手段】 角度測定装置１０は検出光を出射する投光素子１１、コリメータレンズ１２、ハーフミラー１３、収束レンズ１４、撮像素子１５、制御部１７、設定手段１８を備え、単面測定モードと２面測定モード（多面測定モード）で測定を行うことができる。２面測定モードの際には、撮像素子１５の撮像面１５Ａには２つの受光スポットＳ１、Ｓ２が形成されるが、制御部１７は予め、撮像面１５Ａ上の領域を受光レベルが高い領域（指定領域♯１、♯２）と、それ以外の領域に分けて、受光レベルの高い領域♯１、♯２内の画素に基づいて受光スポットＳ１、Ｓ２の集光中心Ｃ１、Ｃ２の位置を決定する。従って、比較的遠く受光レベルが低い部分、すなわち受光スポットＳ１、Ｓ２が互いに重なる部分を集光中心の算出の対象から排除できる。 （もっと読む）

【課題】物体を撮像してその物体の３次元形状と表面色とを計測する技術において、その撮像時間を短縮する。
【解決手段】まず、物体の３次元形状を計測するため、ＣＣＤにより、その物体を撮像し、その撮像結果から、その物体を表す全体画像を構成する複数個の画素のいずれかを間引いて形成される画素間引き画像を取り出す。その取り出された画素間引き画像に基づき、物体の３次元形状を計測する。同じ物体の表面色を計測するため、ＣＣＤにより、３次元形状計測のための撮像に連続して、その物体を撮像し、その撮像結果から、その物体を表す全体画像を構成する複数個の画素のいずれも間引かずに形成される画素非間引き画像を取り出す。その取り出された画素非間引き画像に基づき、物体の表面色を計測する。これにより、高いテクスチャ解像度が確保されつつ、撮像時間が短縮されてテクスチャマッピング精度が向上する。 （もっと読む）

【課題】 被測定物上の測定点を任意に選択可能として被測定物上の測定点の高さを高速で測定する。
【解決手段】 対物レンズ３の焦点位置と光学的に共役の関係に配置され、光源２からの光ビームが被測定物１方向に反射するように傾く複数のマイクロミラー１０_{（１，１）}〜１０_{（ｍ，ｎ）}をマトリクス状に配列した測定点選択手段４と、被測定物１上に集光された光ビームの集光点からの反射及び散乱光を測定点選択手段４を介して検出する光検出手段５と、被測定物１を対物レンズ３に対してその光軸方向に相対的に変位させてその変位量を検出する変位手段６と、測定点選択手段４の各マイクロミラー１０_{（１，１）}〜１０_{（ｍ，ｎ）}を個別に駆動すると共に、光検出手段５で検出された光の輝度及び変位手段６で検出された被測定物１の変位量のデータから最大輝度値を示す変位量を被測定物１の高さとして求める制御手段７とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】被写体画像の実際の大きさを画像と共に表示できるディスプレーを有するデジタルカメラ等の画像表示装置を提供すること。
【解決手段】レンズ１１とメカ機構１２を介しＣＣＤ１３によって取得された被写体の撮像画像を表示する画像表示装置であって、ＣＣＤ１３における撮像画像での合焦点の位置情報を取得し、取得した位置情報に対応する被写体とＣＣＤ１３間の距離情報を取得し、取得した距離情報に基づいて、合焦点における被写体の大きさを示すスケール情報を取得し、合焦点の位置情報と、距離情報およびスケール情報の少なくともいずれかとを、前記撮像画像に関連付ける。撮像画像に関連付けられた合焦点と、距離情報およびスケール情報の少なくともいずれかとを、撮像画像と共に表示するＯＳＤ制御部２０を備える。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、対象物の位置を高精度に求めると共に、小型化が可能な位置検出装置を提供する。
【解決手段】 光信号を照射する光源と、対象物に取り付けられ、光信号を反射する反射手段と、光信号と反射手段により反射された光信号とを分離する第１の分離手段と、反射された光信号を受光する第１の受光素子と、第１の受光素子の出力信号に基づき、第１の受光素子の受光面における反射された光信号の位置を求める反射位置演算手段と、光源から第１の受光素子までの伝搬距離を求める伝搬距離演算手段と、反射位置演算手段に求められた受光面における反射された光信号の位置と、伝搬距離演算手段に求められた伝搬距離とに基づき、対象物の位置を求める対象物位置演算手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】
複数の撮影装置を使用して広視野角または高解像度の映像を得る従来の撮像システムに
おいては、複数の撮影装置の投影中心位置が異なることに起因する見え隠れの矛盾が原理
的に生じるため、映像品質が劣化していた。また、鏡面反射の状態など指向性を持つ光学
特性に関する矛盾も原理的に発生し、それによっても映像品質が劣化していた。
【解決手段】
基準となる画像データを撮影する１つの全体撮影装置と、該全体撮影装置の撮影範囲の
一部分を含むような範囲を撮影する詳細撮影装置を備えた。前記全体撮影装置の撮影した
画像データと前記詳細撮影装置が撮影した画像データとに幾何学的な変換を施した後、該
変換後の画像において両者の差異が所定の許容範囲内に収まる画素に関しては詳細撮影装
置の撮影した画像データから画素値を決定し、その他の画素に関しては全体撮影装置の撮
影した画像データから画素値を決定するようにした。 （もっと読む）

【課題】 エッジ検出の誤りを少なくできると共にエッジ検出のやり直しの手間を少なくできる画像測定装置を提供する。
【解決手段】 エッジを自動的に追跡してそのエッジを検出する、いわゆるオートトレース用のツール８５を用いる画像測定装置である。オペレータはスタート点９９を指示した後、中継点１０３を指示する。ツール８５によりスタート点９９から中継点１０３までの区間のエッジＥが追跡され、その区間のエッジＥが検出される。以後、中継点が指示される毎にその中継点により定められた区間のエッジＥをツール８５で追跡し、その区間のエッジＥが検出される。 （もっと読む）

【課題】
微細なパターンを高い分解能で検出する欠陥検査方法、その装置及び半導体基板を高歩留まりで製造する方法を提供する。
【解決手段】
Ｘｅランプ３、楕円鏡４、マスク５とからなる輪帯状の照明を形成するランプハウス２４は、輪帯状の照明光を、ＸＹＺステージ２上に載置された微細パターンを形成したウエハ（被検査対象物）１を、コリメータレンズ６、光量調整用フイルタ１４及びコンデンサレンズ７を介して、円又は楕円偏光変換素子により円又は楕円偏光させて、対物レンズ９を介して照明し、その反射光をハーフミラー８ａ、８ｂ、ズームレンズ１３を介し、反射光の画像をイメージセンサ１２ａにより検出する。ステージＸＹＺを移動させ、センサ１２ａにより走査し画像信号を得る。この画像出力をＡ／Ｄ変換器１５ａにより変換して基準画像と比較して不一致を欠陥として検出するものである。 （もっと読む）

【課題】 省スペース化、装置レイアウトの簡素化を容易であって、無端移動部材に設けられるマーク部材上の所定箇所の位置やマーク部材を備える無端移動部材上の所定箇所の位置を正確に検知することである。
【解決手段】 光反射特性又は光透過特性が互いに異なるマーク部分と非マーク部分とが所定間隔で交互に連続して構成されており、複数あるマーク部分のうちの一部及び複数ある非マーク部分のうちの一部の少なくとも一方に代えて、該マーク部分及び該非マーク部分のいずれとも光反射特性又は光透過特性が異なる特定マーク部分が設けられている。これらの部分は、受光した光特性又は受光量の違いを区別して検知できるマーク検知手段によって、それぞれ個別に検知できる。 （もっと読む）

【課題】（１）安価な装置で実現でき、（２）大きな曲率を有する被測定対象であっても形状検査ができるようにする。
【解決手段】第１の色成分に着目した場合に第１のストライプパタンが認識され、かつ第２の色成分に着目した場合に第２のストライプパタンが認識されるカラーパタン３を、被測定物１の鏡面状の表面に映り込ませるとともに、この表面におけるカラーパタン３の反射像をカラーカメラ５、６、７で撮像するステップと、この反射像から得られる情報を用いて、鏡面状の表面に設定された複数のサンプリング点における法線ベクトルを求めるステップと、これらの法線ベクトルを用いて被測定物１の表面形状を求めるステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】 反射率が異なる部分を有する対象物について時間をかけずに測定することを可能とする。
【解決手段】 結像レンズの一方を光軸方向へ動かすことによって結像倍率を合わせ、撮像装置の一方を回転させることによって撮像領域４１ｒと撮像領域４２ｒとの向きを合わせる。更に、撮像領域４１ｒと撮像領域４２ｒとの中心ずれｘ，ｙの分だけ撮像領域４１ｒ又は撮像領域４２ｒの先頭画素ｐｘ１をシフトさせて撮像領域４１ｒの中心と撮像領域４２ｒの中心とを合わせる。 （もっと読む）

【課題】 複数の受光素子により光ビームの暗線の位置（全反射減衰角θ_ＳＰ）の検出を行う測定装置において、測定精度を向上させる。
【解決手段】 光ビームを検出する各フォトダイオード17ａ、17ｂ、17ｃ……に接続された差動アンプ18ａ、18ｂ、18ｃ……の中から、全反射減衰角θ_ＳＰに対応する微分値Ｉ´＝０に最も近い出力が得られているものを選択し、次に、選択した差動アンプを中心として前後２ｃｈ分の合計５ｃｈの作動アンプの出力に基づいて３次の近似式を算出し、この近似式を作動アンプの出力（微分値）と全反射減衰角θ_ＳＰ（暗線）の位置との関係を示す関係式として、この関係式と上記で選択した作動アンプの出力とに基づいて全反射減衰角θ_ＳＰの位置を求める。
（もっと読む）

【課題】 撮像時の変調パターンが簡単に実現でき、この変調パターンの実装がし易く、且つ測定物体方面から戻る反射パルス光から距離（位相）決定を行うための単純で精度の高い形状測定装置を提供する。
【解決手段】 測定物体２に光パターンである照射パターンを照射する照射手段３と、前記測定物体２表面で反射された光パターンである撮像パターンを得る、前記照射手段３と光学的に同じ位置にある撮像手段４、５、６とを備え、前記撮像パターンから前記測定物体２の表面形状を計算する形状測定装置において、前記測定物体２は前記照射手段３から或る距離の範囲に存在し、前記照射手段３は角周波数ωで変調した或る強度の照射パターンを前記測定物体２に照射し、前記撮像手段４、５、６は、前記測定物体２表面で反射され照射と同じ経路を逆にたどって前記撮像手段４、５、６に戻る反射光を、角周波数ω、位相φｄで変調を行った後に光量の時間平均を検知し、それにより前記測定物体２の距離Ｌを、複数の変調条件で得られた光量に基づいて求める。 （もっと読む）

【課題】 一の材料層に透明或いは半透明の材料層が形成されてなる被検物に対し、一回の走査・撮像工程で、その最表層の高さのみならず、それ以外の層の上面（或いは下面）高さをも測定できるようにする。
【解決手段】 記憶装置３２から走査画像の読み出しを開始した後、最初に検出した光量ピークに対応して求められる焦点面ＦＳの高さ位置から被検部位の高さを算出する構成の高さ測定装置において、走査画像の読み出し順を、走査画像の取得順に対して同順、逆順のいずれについても設定できるようにする。 （もっと読む）