【課題】複雑な表面構造を有する対象物の表面トポグラフィおよび／または他の特性を、走査干渉分光法を用いて測定する。
【解決手段】試験対象物の第１の表面箇所に対する走査干渉分光信号から導出可能な情報と試験対象物の複数のモデルに対応する情報とを比較することを含む方法であって、複数のモデルは、試験対象物に対する一連の特性によってパラメータ化される方法。複数のモデルに対応する情報は、試験対象物の各モデルに対応する走査干渉分光信号の変換分（例えば、フーリエ変換分）の少なくとも１つの振幅成分についての情報を含んでもよい。第２の側面では、モデルは固定された表面高さに対応するとともに、固定された表面高さとは異なる一連の特性によってパラメータ化されている。第３の側面では、比較は、走査干渉分光信号の系統的な影響を明確にすることを含む。 （もっと読む）

【課題】複数の画像を対象とした対応点の探索処理における精度の維持と速度の向上とを両立させることが可能な対応点探索技術を提供する。
【解決手段】次の処理が行われる。第１画像の第１領域が第１周波数成分情報に変換されるとともに、第２画像の第２領域が第２周波数成分情報に変換される。第１および第２周波数成分情報に基づき、第１領域と第２領域との相関を示す第１相関値が算出される。第１相関値に基づき、相関演算部での演算における周波数成分情報の使用が制限される周波数の使用制限範囲が設定される。第１画像に対応する第３画像の第３領域が第３周波数成分情報に変換されるとともに、第２画像に対応する第４画像の第４領域が第４周波数成分情報に変換される。第３および第４周波数成分情報のうちの使用制限範囲外の周波数に係る周波数成分情報に基づき、第３領域と第４領域との相関を示す第２相関値が算出される。 （もっと読む）

【課題】
エッチング完了後の溝底ショート欠陥やスクラッチを検出するための高仰角照明による暗視野欠陥検出方法において、レンズ反射光などの迷光が像面に到達することによる検査感度を阻害することを防止する。
【解決手段】
欠陥検査装置を、本来同一の形状となるべきパターンが繰り返して形成された試料上の異なる領域に異なる光学条件で同時に照明光を照射する照射手段と、照明光を照射した領域からの反射光を異なる領域ごとに検出する検出手段と、検出した反射光の検出信号を処理して異なる領域ごとに異なる光学条件の元での欠陥候補を抽出する欠陥候補抽出手段と、異なる光学条件の元で抽出した欠陥候補を統合して欠陥を抽出する欠陥抽出手段と、抽出した欠陥の特徴量を求めて該求めた特徴量に基づいて前記欠陥を分類する欠陥分類手段とを備えて構成した。 （もっと読む）

【課題】窓フーリエ変換法を用いた解析において、解像度の更なる向上を図ることが可能となる位相情報の解析方法等を提供する。
【解決手段】光あるいはＸ線を含む波長の波の干渉によるモアレ像の周期的パターンを解析し、位相波面を含む位相情報を取得する位相情報の解析方法であって、
前記モアレ像の周期的なパターンの少なくとも一部を、窓関数によって窓フーリエ変換する工程と、
前記窓フーリエ変換されたモアレ像における、位相情報を担うスペクトルの情報と、前記位相情報を担うスペクトルの情報に重畳している位相情報を担っていないスペクトルの情報とを解析的に計算する工程と、
前記位相情報を担っていないスペクトルの情報を、前記位相情報を担うスペクトルの情報から分離し、前記位相波面を含む位相情報を取得する工程と、を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】光コヒーレンストモグラフィ（以下「ＯＣＴ」という。）手法を用いて紙葉類の断面構造情報を検出する。
【解決手段】搬送機構部２０にセットされた検出対象である紙葉類１０に対し、ＯＣＴ信号検出部３０から低干渉性（コヒーレンス）光を照射し、紙葉類１０からの反射光を受光して、参照光との間で得られる干渉光の強さを検出する（ＯＣＴ生信号の検出）。得られたＯＣＴ生信号は、データ処理および判定部５０へ与えられて、データ処理および判定処理として、「反射率の深さ方向のプロファイル算出処理」（Ｓ１）、「反射率の深さ方向プロファイル解析処理」（Ｓ２）および「判定処理」（Ｓ３）が行われる。 （もっと読む）

【課題】光学システムにおいて、位相および振幅情報を含む波面分析、ならびに３Ｄ測定を実行する方法および装置、特に、光学システムの画像面のような、中間面の出力の分析に基づく方法および装置を提供する。
【解決手段】 薄膜コーティング、または多層構造の個々の層が存在する表面トポグラフィの測定について記載する。多重波長分析を、位相および振幅マッピングと組み合わせて利用する。マクスウェルの方程式の解に基づき、仮想波面伝搬を用いて、波面伝搬および再合焦によって位相および表面トポグラフィの測定を改良する方法について記載する。このような位相操作方法によって、または広帯域およびコヒーレント光源の組み合わせを利用する方法によって、光学撮像システムにおいてコヒーレント・ノイズの低減を達成する。本方法は、集積回路の分析に適用され、コントラストを高めることにより、または１回のショット撮像における３Ｄ撮像によってオーバーレイ測定技法を改善する。 （もっと読む）

【課題】低コストであり、且つ手間をかけずに迅速に粒径を測定することができるテラヘルツ波を用いた粒径測定装置及び粒径測定方法を提供する。
【解決手段】レーザ光を発するレーザダイオード１と、レーザダイオード１により発せられたレーザ光を第１レーザ光と第２レーザ光とに分割するビームスプリッタ２と、第１レーザ光が照射されることによりテラヘルツ波を発振するテラヘルツ波発振アンテナ５と、第２レーザ光に基づいた検出タイミングでテラヘルツ波を検出し、検出したテラヘルツ波の強度に応じた検出信号を生成するテラヘルツ波受信アンテナ８と、テラヘルツ波路中に測定対象物１００を設置した場合のテラヘルツ波受信アンテナ８により生成された検出信号に基づく信号強度データのみから特徴量を算出し、特徴量に対応する粒径のデータを保持するデータベース５８を参照することにより測定対象物１００の粒径を推定するデータ保持部５２、データ処理部５６とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の表面に機能層が形成されたウエーハの内部に機能層を損傷することなく変質層を形成することができるレーザー加工方法を提供する。
【解決手段】基板の表面に機能層が積層された基板の内部にレーザー光線を照射し、基板の内部にストリートに沿って変質層を形成するレーザー加工方法であって、レーザー加工装置のチャックテーブル上にウエーハを基板の裏面を上側にして保持するウエーハ保持工程と、保持されたウエーハの基板の裏面側から照射し、基板の裏面および表面で反射した反射光に基づいてチャックテーブルの上面から基板の裏面までの第1の高さ位置およびチャックテーブルの上面から基板の表面までの第２の高さ位置を計測する高さ位置計測工程と、計測された第1の高さ位置と第2の高さ位置との中間部にレーザー光線の集光点を位置付けて照射することにより基板の内部に機能層に達しない変質層を形成する変質層形成工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】 参照光と被検光との相対位置及び光路長差を独立して調整することにより、被検物の面位置を高精度に計測する。
【解決手段】 白色光源からの光を用いて被検物の表面の位置を計測する計測装置は、白色光源からの光を参照光と被検光とに分割し、被検光と参照光とを合成する光学系と、被検光と参照光との干渉光を検出する検出器と、参照光又は被検光の光路内に配置された光学部材であって、参照光と被検光との光路長差及び相対位置とを変更するための光学部材と、光学部材の位置を可変とする位置可変機構とを有する。位置可変機構を用いて光学部材の位置を変更することにより参照光と被検光との光路長差及び相対位置を独立して調整する。 （もっと読む）

【課題】凹凸マーク上に重なるように凹凸欠陥が存在する場合にも、本来の凹凸マークの高さ分だけを差し引いて凹凸欠陥のみの高さを算出・取得する。
【解決手段】サンプルタイヤのサイドウォール面の二次元画像であるサンプル原画像において、凹凸マークの輪郭である境界線を検出し、境界線の位置を示すマスク画像を生成するマスク画像生成工程と、サンプル原画像において、マスク画像に示された境界線の位置に対応する領域を除き、残りの領域の高さを離散的な複数の高さ閾値を用いて分類することで得られる高さオフセット画像を生成する高さオフセット画像生成工程と、検査タイヤのサイドウォール面の二次元画像である検査画像から、高さオフセット画像を差し引くと共に、マスク画像が表す境界領域を除去する差分処理工程とを経て、差分処理工程の結果として得られた凹凸除去画像に基づいて、検査タイヤのサイドウォール面の形状欠陥を検査する。 （もっと読む）

【課題】 検査対象物のタイヤ内側が撮影された画像から欠陥と刻印文字とを判別することができる画像処理方法、画像処理装置、画像処理プログラムおよび記録媒体を提供する。
【解決手段】 テンプレート領域設定工程ａ２では、判別対象が含まれる位置にテンプレート領域を設定する。自己相関値算出工程ａ３では、自己相関値を算出し、差分処理工程ａ４では、相関差分値を算出する。極大位置検出工程ａ５では、相関差分値の極大位置を検出する。偏差値算出工程ａ６では、極大位置の間隔を算出し、極大位置の間隔の偏差値を算出する。線状模様数算出工程ａ１０では、画像中のブラダーグルーブの合計数を算出する。判定工程ａ７，ａ８，ａ１１，ａ１３では、極大位置の間隔の偏差値とブラダーグルーブの合計数とに基づいて、判別対象が刻印文字および欠陥のうちのいずれであるかの判定を行う。 （もっと読む）

【課題】 タイヤの種類、タイヤ表面の状態および照明の位置関係に依存することなく、検査の安定化および高精度化を図ることができる画像処理方法、画像処理装置、プログラムおよび記録媒体を提供する。
【解決手段】 制御部１２は、タイヤ回転方向に直交する方向のラインごとに、取込画像の各画素の濃度を、各画素が含まれるライン上の平均濃度に変換して、濃度射影変換する。次に、濃度射影変換が行われた画像に対して、タイヤの回転方向のラインのうちの１つのライン上の画素について、フーリエ展開する。フーリエ展開された周波数成分からコード露出帯域の周波数成分を除いた残余の周波数成分を逆フーリエ展開し、逆フーリエ展開手段によって求めた逆フーリエ変換濃度と濃度射影変換によって求めた射影変換濃度との差分濃度を求め、差分濃度について、周期性があればコード露出と判定し、周期性がなければ刻印文字と判定して、コード露出欠陥検出処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 タイヤの種類、タイヤ表面の状態および照明の位置関係に依存することなく、検査の安定化を図ることができる画像処理方法、画像処理装置、プログラムおよび記録媒体を提供する。
【解決手段】 制御部１２は、タイヤ回転方向に直交する方向のラインごとに、取込画像の各画素の濃度を、各画素が含まれるライン上の平均濃度に変換して、濃度射影変換する。次に、濃度射影変換が行われた画像に対して、タイヤの回転方向のラインのうちの１つのライン上の画素について、フーリエ展開する。また、濃度射影変換を行う前の取込画像から自己相関値を算出し、算出した自己相関値に基づいてブラダーグルーブの本数を算出する。フーリエ展開された周波数成分から、算出されたブラダーグルーブの本数で決まる周波数成分を除去し、残余の周波数成分を逆フーリエ展開し、逆フーリエ展開された画像に基づいて欠陥検出処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 画像中のブラダーグルーブを検出し、検出したブラダーグルーブを画像中から除去する画像処理方法、画像処理装置、画像処理プログラムおよび記録媒体を提供する。
【解決手段】 画像処理方法は、濃度射影変換工程と、フーリエ展開工程と、周期算出工程と、逆フーリエ展開工程と、出力工程とを含む。濃度射影変換工程では、第１画像に第１方向の濃度射影変換を行って第２画像を作成する。フーリエ展開工程では、第２画像中の第２方向に並ぶ画素の濃度値をフーリエ展開する。周期算出工程では、第１画像中の線状模様の第２方向の周期を算出する。逆フーリエ展開工程では、フーリエ展開された周波数成分から、線状模様の周期を表す周波数成分を除去し、残余の周波数成分を逆フーリエ展開して第３画像を作成する。出力工程では、逆フーリエ展開工程で作成された第３画像を表す除去済画像情報を出力する。 （もっと読む）

【課題】 タイヤの種類、タイヤ表面の状態および照明の位置関係に依存することなく、凹凸欠陥を検出することができ、検査の安定化を図ることができる画像処理方法、画像処理装置、プログラムおよび記録媒体を提供する。
【解決手段】 制御部１２は、第１の方向、たとえばタイヤ回転方向での各画素の濃度を微分した微分値に基づいて、欠陥候補が大規模凹凸欠陥であるか否かを、凹凸の種類ごとに予め定める専用しきい値に基づいて判定する。次に、画像を構成する画素のうち最小の濃度の画素の位置を中心とする第１の方向での予め定める微分範囲について、画素の濃度を微分した微分値を加算した微分和に基づいて、小規模凹欠陥であるか否かを判定する。さらに、各画素を中心とする第１の方向での予め定める微分幅での微分値に基づいて、鋭角凹欠陥であるか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】多層膜に光を照射して、その反射光のパワースペクトルのピーク位置から多層膜を構成する層の膜厚を算出する膜厚測定装置では、膜厚が同程度の層が複数あると、ピークが重なって層を同定できないという課題があった。本発明は、膜厚が同程度の層が複数あっても各層の膜厚を測定できる多層膜の膜厚測定方法及び装置を提供することを目的にする。
【解決手段】膜厚を測定する多層膜と一定距離離隔して光を反射するミラー板を設け、各層の境界およびミラー板で反射された反射光から膜厚を算出するようにした。多層膜とミラー板の距離を多層膜の厚さより厚くすることにより、ミラー板で反射されたピークと反射されないピークが分離でき、正確に膜厚を測定できる。 （もっと読む）

【課題】テクスチャ情報の少ない被写体を高密度に距離計測することを目的とする。
【解決手段】光源から照射される光が投影光学系のレンズを透過する透過率を空間的に符号化する符号化素子を含む投影部と、投影部により光が投影された距離計測対象を撮像する撮像部と、撮像部により撮像された撮像画像と、予め定められた距離ごとに撮像部により予め撮像された複数のキャリブレーション画像との類似度を示す相関値を算出する算出部と、算出部により算出された相関値が最大となるキャリブレーション画像に対応する距離を距離計測対象までの距離として決定する決定部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】偏光膜を有する多層構成の積層体に含まれる被膜の膜厚を、光干渉法によって高精度に測定するための手段を提供する。
【解決手段】複数の被膜を有する多層構成の積層体に含まれる被膜の膜厚測定方法。前記積層体に測定光を照射し、該積層体から反射された反射光を受光することにより反射スペクトルを求める反射スペクトル測定工程と、求められた反射スペクトルに基づき測定対象被膜の膜厚を求める膜厚算出工程と、を含み、前記積層体は、複数の被膜中の一つとして偏光膜を含み、前記反射スペクトル測定工程において、前記測定光を照射する出射口部および／または前記反射光を受光する受光部と、前記積層体との間に偏光素子を配置し、かつ、上記偏光素子を、前記求められる反射スペクトルの振幅が、偏光素子を配置しない状態で得られる反射スペクトルの振幅から変化するように配置する。 （もっと読む）

【課題】周期構造の電磁散乱特性の正確な数値計算を迅速に実行する。
【解決手段】構造の電磁散乱特性を計算する体積積分法（ＶＩＭ）の改良型収束は、電場ではなく、ベクトル場の体積積分方程式を数値的に解くことによって達成される。ベクトル場は、基底変換によって電場に関連付けることができ、電場が不連続部を有する材料の境界で連続することができる。ベクトル場の畳み込みは、有限離散畳み込みに従って畳み込み演算子を使用して実行する。可逆畳み込み及び基底変換演算子は、周期構造の材料及び幾何学的特性に従って基底変換を実行することにより、ベクトル場を電場に変換する。ベクトル場について体積積分を解いた後、追加の後処理ステップを使用して、ベクトル場から電場を得ることができる。ベクトル場は、連続的な成分をフィルタリングするために法線ベクトル場を使用することにより、電場の場の成分と電束密度の組合せから構築することができる。 （もっと読む）

【課題】物体の表面の形状を測定する精度の点で有利な測定方法を提供する。
【解決手段】物体の表面の形状を測定する測定方法であって、他の領域と重なり合う領域を有する前記表面の複数の領域のそれぞれに対する表面測定によって前記複数の領域のそれぞれの形状のデータを得るステップと、得られた前記形状のデータに基づいて、前記重なり合う領域での形状の差が最小になるように、前記表面測定の誤差を求めるステップと、前記形状のデータと前記誤差とに基づいて、前記表面の形状を求めるステップと、を有し、前記形状のデータは、要求精度に基づいて決定された閾値を超える空間周波数を有する成分を含まないように得られる、ことを特徴とする測定方法を提供する。 （もっと読む）