【課題】分析領域にダメージを与えることなく分析可能な試料をつくることができる、分析試料の形成方法を提供する。
【解決手段】分析試料１１の形成方法は、まず、クラック１４や異物１５のある分析領域２１の周囲に、収束イオンビーム加工装置２３によって亀裂防止溝２２を形成する。次に、分析領域２１の近傍に形成された、クラック１４や異物１５を分析する際に邪魔となる障壁１２に応力を加えて除去する。このとき、障壁１２と繋がっていた基板１３の一部分１３ａから分析領域２１に亀裂３１が伝わったとしても、分析領域２１の周囲に形成した亀裂防止溝２２によって、分析領域２１に亀裂３１が進行することを抑えることができる。これにより、クラック１４や異物１５の状態を、障壁１２を除去する前の状態に維持することができ、クラック１４を観察したり異物１５の元素を特定したりすることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】欠陥レビュー装置において、装置が取得する多種多様な情報の中から必要な情報を選択し、目的に対して最適なレビューレポートフォーマットを容易に設定する。
【解決手段】レポートの構成要素をモジュール単位でアイコン８２１〜８３０を用いてＯＳＤ表示したテンプレート編集画面８００を生成する。マウス等のポインティングデバイスを用いてアイコン８２１〜８３０を選択し、ドラッグ＆ドロップ操作Ｓ０１により、同じ画面上に形成した出力フォーマット設定領域８５０の所望の位置に配置し、さらにドラッグ＆ドロップ操作Ｓ０２により、所望のサイズに設定する。そして、同じ画面上の詳細設定領域８６０で、配置したアイコンが表すモジュールの詳細設定ができる。設定したフォーマット情報は、保存機能３９により、テンプレートして保存され、呼び出すだけで簡単に使用できる。また、保存したテンプレートは編集も可能で、新規作成だけでなく、既存テンプレートを修正することも簡単に実現できる。 （もっと読む）

【課題】
欠陥の特徴を的確に提示することが可能な欠陥画像表示画面を提供する。
【解決手段】
欠陥のサムネイル表示画面において、検査情報や欠陥種類等から、欠陥毎にその欠陥の特徴を最も顕著に表すような画像を決定し、表示する。また、欠陥の詳細表示画面において、検査情報や欠陥種類等を基に、その欠陥の特徴を顕著に表すように表示する画像やその画像の表示順序を定め、表示する。さらに、欠陥画像撮像中または欠陥画像撮像後に、予め指定した規則に基づいて別の欠陥画像取得装置や別の撮像条件により表示用の画像を撮像するためのステップを撮像シーケンスに追加する。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスの外観検査と内部検査とを単一化して検査効率を極大化させる半導体デバイス検査装置を提供する。
【解決手段】表面実装型半導体チップパッケージや半導体モジュールなどの半導体デバイスに対する外観及び内部検査において、半導体デバイスの外観映像を獲得する外観映像検出部１２１と半導体デバイスにＸ線を照射して透過映像を獲得する透過映像検出部１３１と外観映像検出部１２１の検査情報と透過映像検出部１３１から獲得された映像情報とを基準映像と比較して良好/不良を判定するコントローラー１４１とを備える。 （もっと読む）

【課題】 被測定物の全ての測定点の位置を容易に把握することができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 被測定物Ｓを配置するステージ１４と、被測定物Ｓの所定の領域の透視Ｘ線像を撮影するＸ線検出器１２とＸ線検出器１２に向けて透視用Ｘ線を照射するＸ線源１１とを有するＸ線測定光学系１３と、ステージ１４を移動させるステージ駆動機構１６と、透視Ｘ線像に基づいて作成されたＸ線画像と被測定物Ｓの所定の領域を含むマスター画像との画像表示が行われる表示装置２３とを備えるＸ線検査装置１であって、マスター画像の特定の位置に測定点情報の画像表示を行うティーチング情報記憶制御手段３５を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】筋引きの少ない良好な観察用断面を作製することができるとともに、スループットを向上させることが可能な集束イオンビーム装置、及び、良好な観察用断面を作製して、正確な観察像を得ることができる試料の断面加工・観察方法を提供する。
【解決手段】集束イオンビーム装置１は、試料Ｓを載置する試料台２と、試料台２を水平面上の二軸及び鉛直軸の三方向に移動させることが可能な三軸ステージ３と、試料Ｓに対して集束イオンビームＩ１、Ｉ２を照射する第一の集束イオンビーム鏡筒１１及び第二の集束イオンビーム鏡筒１２とを備え、第一の集束イオンビーム鏡筒１１及び第二の集束イオンビーム鏡筒１２は、互いの集束イオンビームＩ１、Ｉ２の照射方向が、平面視略対向するとともに、側方視鉛直軸に対して略線対称に傾斜するように配置されている （もっと読む）

【課題】 従来の電子顕微鏡用試料作製技術では、試料の断面薄膜化試料を作製するのみで、薄膜の状態のデバイス試料に電圧を印加し、デバイスを動作させることができなかった。
【解決手段】 収束イオンビーム装置内に複数のプローブを設け、プローブ間には自由に電圧を印加できる構成とする。また、プローブ間の電流を測定し、電流の有無を判定できる検知器を設ける。プローブは半導体デバイスのコンタクトプラグに接触させ、デポジションガスを装置内に導入し、プローブの接触位置に収束イオンビームを照射することで、プローブをコンタクトプラグに接着し、電流導入端子とする。電子顕微鏡の試料ホルダには、この電流導入端子に接触し、電子顕微鏡外部から電圧を印加できる電流導入機構を設ける。 （もっと読む）

【課題】温度変化によって膨張、収縮したとしても保持している試料の位置を変化させること無く、正確に位置決め、保持することが可能な試料保持機構、及び、この試料保持機構を備えた試料加工・観察装置に提供する。
【解決手段】試料加工・加工観察装置１は、試料保持機構２０を備えている。試料保持機構２０は、試料Ｓを保持する試料ホルダ２１と、試料ホルダ２１を着脱可能に支持するベース２２とを備える。これらの間には、回転可能に支持する回転支持部２７と、回転中心２７ａからＸ方向に向って摺動可能に支持するスライド支持部２８と、Ｘ方向及びＹ方向に摺動可能に支持する当接支持部とが、着脱可能に設けられている。上面２１ａには、回転中心２７ａからＹ方向及びＸ方向に沿って配置され、試料Ｓの一辺Ｓ１及び他辺Ｓ２に当接するＸ方向位置決めピン３１及びＹ方向位置決めピン３２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 高分解能の電子顕微鏡の特徴であるノイズ成分を多く含む画像に対し、ノイズの低減と画像の輪郭の強調という、従来技術では相反する画像処理を同時に行うことのできる電子顕微鏡の画像処理システムを提供する。
【解決手段】 走査電子顕微鏡１０は、電子銃から電子線を試料に照射し、試料から発生した二次電子を検出することによって顕微鏡画像を生成する。パーソナルコンピュータ２０は電子顕微鏡１０によって生成された顕微鏡画像を取得し、前記顕微鏡画像に最大エントロピー法を用いた画像処理を施す。パーソナルコンピュータ２０は、前記顕微鏡画像に最大エントロピー法を用いた画像処理を施す際に、あらかじめ取得された大照射電流量の電子顕微鏡画像と、最大エントロピー法を用いた画像との比較に対する評価結果に基づいて前記画像処理のためのフィルタリング条件を決定する。 （もっと読む）

【課題】断層画像を利用して異常を表示する装置の価格が上昇してしまうという課題があった。
【解決手段】回路形成体２０３を保持する回路形成体回転機構２０２と、回路形成体２０３にＸ線を照射するＸ線発生手段２０１と、回路形成体２０３を透過してきたＸ線を検出するＸ線検出手段２０４と、Ｘ線を利用して、回路形成体２０３の透過画像を作成し、あらかじめ用意された、良品の透過画像と、回路形成体２０３の透過画像とを比較し、比較の結果に応じて、回路形成体２０３における異常の有無を判定し、良品の透過画像を含む、その枚数よりも多い枚数の作成された良品の透過画像のセットを利用して、良品の断層画像を作成する制御コンピュータ２０８と、異常が有ると判定された場合には、回路形成体２０３の異常が有る透過画像に対応する良品の透過画像に基づいて決まる断層画像の部位に、異常を表示する表示手段２０９とを備えた、Ｘ線ＣＴ装置３０１である。 （もっと読む）

【課題】被検査物の寸法を測定して被検査物がある程度決まった寸法のものか否かを検査する。
【解決手段】幅算出手段１９ａは、Ｘ線検出器１０の素子間の距離に対し、Ｘ線発生器９から被検査物Ｗの表面までの距離Ｙ１とＸ線発生器９からＸ線検出器１０までの距離Ｙ２との比率を乗じた値を濃度データに対する搬送幅方向Ｙの単位寸法とし、この搬送幅方向Ｙの単位寸法を基に被検査物Ｗの搬送幅方向Ｙの各種幅寸法を算出する。長さ算出手段１９ｂは、搬送速度を繰り返し速度で除算した値を濃度データに対する搬送方向Ｘの単位寸法とし、この搬送方向Ｘの単位寸法を基に被検査物Ｗの内容物の搬送方向Ｘの各種長さ寸法を算出する。この算出による得られる被検査物Ｗの外形寸法が設定入力手段１５から設定された外形寸法の許容範囲外のときに被検査物Ｗを寸法不良と判別する。 （もっと読む）

【課題】接触センサを用いることなく、また、オペレータの入力ミスがあったとしても確実にＸ線検出器と試料との干渉を防止することのできるＸ線透視装置を提供する。
【解決手段】試料ステージ３の上面と平行に平行光を出力する光電スイッチ２０を設けるとともに、その光電スイッチ２０と試料ステージ３を相対的に上下動させる上下動機構（ステージ移動機構）４を設ける一方、試料高さｈを入力する入力手段（操作部）１１を設け、光電スイッチ２０と試料ステージ３の上下方向（ｚ軸方向）距離を入力内容ｈと略一致させた状態で、試料ステージ２０をその上面に沿って移動させ、そのときの光電スイッチ２０の検出出力があった場合には、自動的に規定量δだけ光電スイッチ２０と試料ステージ３の上面との距離を増大させ、光電スイッチ２０の検出出力がなくなったときの両者間の距離Ｈを記憶し、その距離Ｈ以下に試料ステージ３とＸ線検出器２がｚ軸方向に接近しないように移動範囲やＸ線検出器２の傾動範囲を制限する。 （もっと読む）

【課題】高速中性子及び連続エネルギー・スペクトルX線による材料識別の方法と装置を提供する。
【解決手段】本発明の方法は、（a）高速中性子源及び連続エネルギー・スペクトルX線源でそれぞれ産生された高速中性子ビーム及び連続エネルギー・スペクトルX線ビームを被検対象に照射する；（b）X線検出器アレー及び中性子検出器アレーにて、透過したX線ビーム及び高速中性子ビームの強度を直接計測する；（c）被検対象の異なる材料を透過した中性子ビームとX線ビームの減衰差によって形成された曲線により、被検対象の材料に対して材料識別を行う；ステップを含む。 高速中性子と連続エネルギー・スペクトルX線との透過減衰強度が異なるように構成され、被検対象の厚さと無関係に被検対象の等効原子番号Zとのみ関係するn-X曲線を利用して材料識別を行う。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、上記問題点を解決すべく、ホルダー本体の長手方向に直交する軸回りの傾斜を大幅に改善可能な試料ホルダーを提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明の試料ホルダーは、ホルダー本体と、試料を保持するための試料固定台と、前記ホルダー本体の長手方向に直交する軸回りに回転可能な軸傾斜機構とを有し、前記軸傾斜機構は、前記長手方向に直交する所望の軸回りに回転させるための支点保持部材とは無関係に軸傾斜可能な機構であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】分散染色法は、浸液とアスベストの屈折率差で分散色がつくが、結晶によっては分散色が薄くアスベストかどうか判別ができない場合がある。大気中から採取した試料から作成した標本では透明化したろ紙とアスベストとを同じ視野内で位相差観察する。アスベストによるコントラストが少ない場合、ろ紙繊維の影響を排除する必要がある。
【解決手段】アスベストに偏光特性があるので、顕微鏡光路中に偏光板が配置されていれば、偏光板の回転により見ている結晶がアスベストであれば観察する色が変化する。顕微鏡において偏光板を回転可能に設けて、観察しながら、偏光板を回転すると、偏光特性を有するアスベストは色が変化して観察されることにより、アスベストと、他のロックウールやろ紙繊維と区別することができる。 （もっと読む）

【課題】分散染色法は、浸液とアスベストの屈折率差で分散色がつくが、結晶によっては分散色が薄くアスベストかどうか判別ができない場合がある。大気中から採取した試料から作成した標本では透明化したろ紙とアスベストとを同じ視野内で位相差観察する。アスベストによるコントラストが少ない場合、ろ紙繊維の影響を排除する必要がある。
【解決手段】アスベストに偏光特性があるので、顕微鏡光路中に偏光板が配置されていれば、偏光板の回転により見ている結晶がアスベストであれば観察する色が変化する。顕微鏡において偏光板を回転可能に設けて、観察しながら、偏光板を回転すると、偏光特性を有するアスベストは色が変化して観察されることにより、アスベストと、他のロックウールやろ紙繊維と区別することができる。 （もっと読む）

【課題】 マウスを用いて移動方向と移動速度を同時に制御することができるようにしたＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線源１１とＸ線検出器１２との間において被測定物を載置するステージ１４と、ステージ上の被測定物とＸ線測定光学系１３との位置関係を調整する駆動部１５と、モニタ画面２４ａと、Ｘ線検出器１２により撮影された映像信号に基づいて透視Ｘ線画像を作成するＸ線画像作成部３１と、モニタ画面に透視Ｘ線画像の画像表示を行うＸ線画像表示制御部３２と、モニタ画面の任意の位置にポインタを表示するとともにクリック操作によりポインタの位置を指定するマウス２３と、モニタ画面２４ａに表示した透視Ｘ線画像２４ｂ上でマウスのクリック操作による位置指定が行われたときに、指定位置に応じて駆動部１６に対する駆動信号を発生する駆動信号発生部３３とを備える。 （もっと読む）

【課題】回転可能なベースの回りに配置されたサンプルを顕微処理する複数器具を含むクラスタ器具を提供すること。
【解決手段】ベースの上のサンプル・ホルダが、器具の作業領域間においてサンプルを回転させる。スライド可能真空封止が、真空を必要とする器具のサンプル室において真空を維持する。 （もっと読む）

本発明の１つの態様によれば、基板処理システムが提供される。このシステムは、チャバを囲むチャンバ壁と、基板を支持するようにチャンバ内に位置付けられた基板支持体と、基板上の材料から光電子を放出させる電磁放射線を基板支持体上の基板に放出させる電磁放射線源と、基板から放出された光電子を捕らえるアナライザと、チャンバ内に磁場を発生させ基板からアナライザに光電子を誘導する磁場発生器と、を含む。
（もっと読む）

【課題】ＥＢ欠陥検査をしなければならないマスク上の最小限の領域を自動的に検査することを可能にし、高精度の欠陥検査を最小時間で行うマスク欠陥検査方法、マスク欠陥検査装置、および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一形態のマスク欠陥検査方法は、被検査マスクに対して、光を用いた欠陥検査のための光欠陥検査感度を設定し、前記被検査マスクに対して、電子ビームを用いた欠陥検査のためのＥＢ欠陥検査感度を設定し、前記被検査マスクのパターンデータと必要欠陥検査感度に関する情報とを関連付けて欠陥検査データを作成し（Ｓ３）、前記欠陥検査データと前記光欠陥検査感度を光欠陥検査装置に入力し、前記光欠陥検査感度に関連する前記パターンデータの領域を欠陥検査し（Ｓ７）、前記欠陥検査データと前記ＥＢ欠陥検査感度をＥＢ欠陥検査装置に入力し、前記ＥＢ欠陥検査感度に関連する前記パターンデータの領域を欠陥検査する（Ｓ９）。 （もっと読む）