【課題】ＥＢ欠陥検査をしなければならないマスク上の最小限の領域を自動的に検査することを可能にし、高精度の欠陥検査を最小時間で行うマスク欠陥検査方法、マスク欠陥検査装置、および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一形態のマスク欠陥検査方法は、被検査マスクに対して、光を用いた欠陥検査のための光欠陥検査感度を設定し、前記被検査マスクに対して、電子ビームを用いた欠陥検査のためのＥＢ欠陥検査感度を設定し、前記被検査マスクのパターンデータと必要欠陥検査感度に関する情報とを関連付けて欠陥検査データを作成し（Ｓ３）、前記欠陥検査データと前記光欠陥検査感度を光欠陥検査装置に入力し、前記光欠陥検査感度に関連する前記パターンデータの領域を欠陥検査し（Ｓ７）、前記欠陥検査データと前記ＥＢ欠陥検査感度をＥＢ欠陥検査装置に入力し、前記ＥＢ欠陥検査感度に関連する前記パターンデータの領域を欠陥検査する（Ｓ９）。 （もっと読む）

【課題】
半導体デバイス等の基板上に回路パターンを形成するデバイス製造工程において、製造
工程中に発生する微小な異物やパターン欠陥を、高速で高精度に検査できる装置および方
法を提供すること。
【解決手段】
表面に透明膜が形成された被検査対象物に対し、高ＮＡ対物レンズを真空チャンバ内に設置し、対物レンズ内に照明光路を設けたことにより、暗視野照明を可能にし被検査対象物表面の異物または欠陥の反射散乱光を高感度に検出できるようにした。 （もっと読む）

【課題】従来、定量基準となるハンダ試料が存在しないため、蛍光Ｘ線分析装置によるハンダ材料の定量分析が行えない。また、溶融ハンダは冷却固化の際に含有成分が偏析するため、表面分析装置では、十分な分析精度が得られない。
【解決手段】溶融状態のハンダ材料を冷却固化してハンダ試料とする工程と、冷却固化したハンダ試料を折畳んで重ね合わせる工程と、前記ハンダ試料を圧延する工程により、含有成分の偏析の少ないハンダ試料が作製でき、前記ハンダ試料を表面分析装置で定量分析することにより、簡便かつ高精度な分析ができる。 （もっと読む）

【課題】
半導体デバイスの検査装置で、欠陥検出のための画像処理のようなある領域データに対する繰り返し演算を実行する場合、繰り返し演算数分の命令・データロード、演算、データストアを繰り返す必要があり、高速化にも限界がある。また、微細画像を扱う大容量画像処理で並列コンピューティング処理を行う場合、非常に多くのプロセッサが必要となり、装置コスト引き上げる要因となっている。
【解決手段】
前記課題を解決するために、本発明は次のような構成をとる。
まず、同時にリード・ライト可能なアクセス手段を持つデータメモリと、複数の数値演算手段と、該データメモリと数値演算手段とを接続する手段と、前記複数の数値演算手段の処理内容を一括制御する制御手段と、該数値演算手段と前記一括制御手段とを接続する手段と、数値演算手段同士のデータ移動制御手段とを設ける。 （もっと読む）

【課題】異物検査と気泡検査とを同時に行い、手間と時間をかけずに全ての被検査物の検査を行う。
【解決手段】制御手段１３は、被検査物２にＸ線を曝射したときのＸ線透過量と予め設定された異物混入用のしきい値とを比較して異物の混入を判別して被検査物２の良否を判定する。制御手段１３は、被検査物２にＸ線を曝射したときにＸ線透過量が予め設定された気泡判別用のしきい値以上の部分を気泡と判別する気泡有無判別手段１３ａと、気泡有無判別手段１３ａによって気泡と判別された部分の面積を算出する面積算出手段１３ｂと、面積算出手段１３ｂで算出された面積の合計値が予め設定された基準面積以上のときに被検査物２の良否を判定する良否判定手段１３ｃとを有し、被検査物２の異物有無の良否判定と気泡量の良否判定とを同時に行う。 （もっと読む）

【解決手段】 封入物検査装置１１において、封書投入ステーションＡに封書２が投入されると、外観検査手段２７及びＸ線検査手段３３により、封書の厚さと、封書に封入された封入物が所定の擬似対象物であるか否かが判定される。
所定厚さ以上の封書は第１選別ステーションＤでリジェクトされ、所定厚さ以下で擬似対象物の検出されなかった封書は第２選別ステーションＧまでそのまま搬送され、所定厚さ以下で擬似対象物の検出された封書は位置決めステーションＥにおいて封書内の擬似対象物の位置が位置決めされた後、擬似対象物査ステーションＦではテラヘルツ波を用いて上記擬似対象物が爆薬や麻薬などの所定の対象物であるか否かが判定される。
【効果】 大量の封書であっても、迅速に対象物の有無を検出することができる。 （もっと読む）

【課題】未知サンプルを測定するのに用いられる分光計と同様の分解能及び効率である基準物質からのスペクトルを測定するのに用いられる分光計を提供する。
【解決手段】Ｘ線放射特性を用いた物質同定方法が提供される。監視されるＸ線放射特性を表すＸ線データは、入射エネルギービームに応答して試料から得られる。同様に、複数の物質の組成データを含むデータセットが得られる。試料物質はデータセット内に含まれる。組成データを用いてデータセット内の物質の各々について予測Ｘ線データが計算される。取得Ｘ線データと予測Ｘ線データとが比較され、この比較に基づいて試料物質の可能性のある素性が判定される。 （もっと読む）

認証システム、装置および方法は、ナノ結晶材料を含む識別マーキングを認証する。マーキングの１または複数の特性が確認され、測定プロファイルが提供される。測定プロファイルを参照プロファイルの閉集合の少なくとも１つのメンバーと比較する。各参照プロファイルは１または複数の特性の予め決められた値を有する。各参照プロファイルは集合内でユニークである。少なくとも１つの参照プロファイルはナノ結晶形態のインジケータ材料の特徴を示し、バルク形態の同じインジケータ材料の特徴は示さない。
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【課題】 試料から微小サンプルを切り出す作業を迅速に且つ正確に行うことができ、また、微小サンプルを試料台に配置させる作業を迅速に且つ正確に行うことができる装置及び方法を提供する。
【解決手段】 プローブに負の電圧を印加し、試料の輝度を計測する。プローブによって試料から微小サンプルを切り出す場合には、輝度が減少したときに、プローブが試料に接近したと判定し、輝度が更に減少した後に急激に増加したとき、プローブが試料に接触したと判定する。プローブに接続された微小サンプルを試料台に配置する場合には、輝度が減少したときに、プローブに接続された微小サンプルが試料台に接近したと判定し、輝度が更に減少した後に急激に増加したとき、プローブに接続された微小サンプルが試料台に接触したと判定する。 （もっと読む）

【課題】 硬組織についてより精密な評価を行なうことを可能とする配向性の分析方法を提供することにある。
【解決手段】 本発明の硬組織の配向性の分析方法は、Bragg角度がa軸、ｃ軸の配向性を判断できるようにX線の入射方向と硬組織の試料表面との角度を設定し、かつ、前記ｃ軸の配向性の場合に、前記角度を2θ＝26°前後に設定するとともに、試料揺動を行う条件下で、X線で硬組織における結晶の配向性の評価を、前記a軸、c軸、及びそれ以外の方向に対する回折強度を比較することにより行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 化合物の結晶粒を確実に識別して、その構造解析を容易に行うことができる化合物の観察方法及び該方法に用いる着色溶液を提供すること。
【解決手段】 Ｘ線回折実験において、試料である化合物の結晶画像を撮影し、撮影した画像により結晶を観察しながら試料のＸ線照射位置決め作業を行うに際し、結晶を着色溶液６に入れた後、結晶を着色溶液６とともにすくい上げて固化し、結晶に透過光を照射して結晶画像を撮影するようにした。 （もっと読む）

【課題】非破壊分析を用いたテストピースの自動欠陥認証において、誤った検出を少なくし信頼性を高める。
【解決手段】Ｘ線管と、検出器と、Ｘ線検査ユニットのビーム経路にテストピースを位置決めするための機械マニピュレータとを備えたＸ線検査ユニットにおいて、テストピースの位置決め画像を理想的な参照画像と正確に一致するようにすべく、回転軸、回転角及び変位ベクトルを計算し、回転軸、回転角及び変位ベクトルの値を機械マニピュレータに中継すると共に、テストピースをこれらの値に対応する位置に移動させ、この位置において、Ｘ線参照画像と比較するために提供されるテストピースの比較画像を、Ｘ線検査ユニットにおけるＸ線によって作成する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハ単位でインラインで効率的に欠陥を分析するための装置および技術を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態は、単一のセットアッププロシージャにおいて検査および欠陥分析プロセスの全体をセットアップする簡単なインタフェース（１５８、５００）を提供する。ある実施形態において、試料（１００）上の欠陥を分析する装置が開示される。この装置は、潜在的な欠陥（１０２）を探して試料を検査する検査ステーション、およびそのような潜在的な欠陥（１０４）の分類を決定するために、前記潜在的な欠陥の試料を分析するレビューステーションを含む。
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【課題】
小欠陥から大欠陥までの広範囲の欠陥サイズにおいて、高精度且つ高スループットな欠陥検出性能を実現する優れた検査装置および検査方法を提供する。
【解決手段】
試料に電子線ビームを繰り返し走査させ、試料から発生する２次電子または反射電子に基づき検査画像および参照画像を生成し、それらの差分画像から欠陥部を求めるＳＥＭ式検査装置において、生成画像における電子線ビームの繰り返し走査方向の画素数を可変にする機能を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、微小試料片およびまたはその周辺領域を汚染することなく、確実で安定的な微小試料片の分離、摘出、格納を行う装置および方法を提供することにある。
【解決手段】試料基板から観察すべき領域を含む試料片をイオンビームスパッタ法により分離し、試料を押し込んで保持し、引き抜いて分離するための、根元に比較して先端が細く、該先端部が割れている形状で、該形状により得られる試料片を保持する部位の弾性変形による力で試料片を保持する棒状部材からなるはり部材を用いて、前記試料片を試料基板から摘出し、試料片を載置するための載置台上へ移動させた後、前記はり部材と前記試料片を分離することで該試料片の格納を行う。 （もっと読む）

【課題】 試料からの微弱な散乱光を、超小角領域まで精度よく検出できる光散乱測定装置を提供する。
【解決手段】 レーザー光源１１と、レーザー光源１１からの光を集光する第１のレンズ１２と、ピンホールｄを有するピンホール板１３と、第１のレンズ１２からピンホールｄを介して入射した光を平行光にする第２のレンズ１４と、第２のレンズ１４から入射した平行光を検出器１７の検出面に備えられたビームストッパー１６で焦点を結ぶように集光する第３のレンズ１５とを設ける。また、ピンホールｄとビームストッパー１６とを光学的に共役な位置に配置する。 （もっと読む）

【課題】原子スケールの空間分解能により元素を同定することを可能にする。
【解決手段】測定対象に対してビーム径が１ｍｍよりも小径な高輝度単色Ｘ線を照射するＸ線照射手段と、上記測定対象に対向して配置される探針と、上記探針を介してトンネル電流を検出して処理する処理手段と、測定対象と上記探針と上記測定対象に対する高輝度単色Ｘ線の入射位置とを相対的に移動するための走査手段とを備える走査型プローブ顕微鏡とを有する。 （もっと読む）

【課題】 干渉縞を確実に防止することができる放射線撮像装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 天板１の長手方向Ｈ_HにＸ線グリッド４が往復移動しながら被検体の撮像を行う場合、駆動部５がＸ線グリッド４を回転させることで、そのＸ線グリッド４を天板１の短手方向Ｈ_Vにも往復移動可能になるようにする。つまり、長手方向Ｈ_Hに沿って金属ピース４ａの縞目が配置されるようにＸ線グリッド４に配設しつつ、長手方向Ｈ_HにＸ線グリッド４が往復移動しながら撮像すると、画像中の干渉縞を防止する。一方、短手方向Ｈ_Vに沿って金属ピース４ａの縞目が配置されるようにＸ線グリッド４を駆動部５によって長手方向Ｈ_Hから短手方向Ｈ_Vに回転させて往復移動させることで、短手方向Ｈ_Vに往復移動させた場合においても、干渉縞を確実に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】液体試料だけでなくスラリー試料であっても、さらに液体中に浸漬した状態の固体粉末試料であっても、電磁波吸収測定により適切なデータが得られる試料測定用セル、及び電磁波吸収測定方法を提供すること。
【解決手段】電磁波透過性の材料で形成された２つの窓を相対する位置に有し、２つの窓の間に試料を存在させることが可能な電磁波通過部位と、電磁波通過部位の下方に設けられた、内部の液体を撹拌可能な攪拌手段を有する撹拌手段設置部位と、を有するセル構造を為しており、（１）セル構造内の電磁波通過部位の上方に、少なくとも１つの空孔を有する仕切り板を有する、又は（２）セル構造内の電磁波通過部位に、固体粉末試料を所定の電磁波通過長となるように配置可能でかつ固体粉末試料中に液体が浸透可能な試料容器を有する、試料測定用セル。 （もっと読む）

【課題】従来測定者が行っていた手作業を簡略化し、精度良く迅速に物質を同定することが可能な物質同定システムを提供する。
【解決手段】電子線装置に、電子線回折像観察用ＴＶカメラ１０によって取り込んだ回折像から格子面間隔を算出する電子線回折像解析部３、ＥＤＸ検出器９に接続され物質組成を求めるＥＤＸ分析部２、物質同定のための検索用データベースとデータベース検索機能を備えた物質同定部４を有する。物質同定部４は、電子線回折像解析部３から送信された格子面間隔データ、ＥＤＸ分析部２から送信された元素データをもとに検索用データベースを検索して物質を同定する。 （もっと読む）