【課題】効率的に高解像度で長尺状の被検査物をＸ線検査する。
【解決手段】被検査物であるテープ２２を一定速度で搬送しながらＸ線を透過させ、透過したＸ線を、外周面に輝尽性蛍光体を備えた回転する回転ドラム６０に照射する。Ｘ線の照射位置よりも回転方向下流側で励起光Ｌａを走査照射し、輝尽性蛍光体から発する輝尽発光光Ｌｂをフォトマルチプライヤー７８で受け、２次元のＸ線画像を得る。励起光Ｌａを走査照射した位置よりも回転方向下流側では、消去光を照射して残像を消去する。残像の消去された輝尽性蛍光体は、回転ドラム６０の回転により再び、Ｘ線照射位置に戻るので、長尺状のテープ２２を順次Ｘ線検査することができる。 （もっと読む）

【課題】高感度で小型化が容易であり、しかも放射線損傷が少ない一次元イメージセンサを提供する。
【解決手段】被検体を透過した放射線１の入射方向に延在し、多数の粒状、柱状あるいは針状構造のシンチレータ粒子をそれぞれに集積した構造体のシンチレータシート２と、放射線１の入射方向に対し直交する方向であってシンチレータシート２に隣接して配置された光学素子３と、光学素子３に隣接した受光素子４とを有する。これ等は、スリット状の開口部５を有する遮蔽体６に覆われる。開口部５の所定の箇所には、シンチレータシート２で発生するシンチレーション光の遮光膜７が取り付けられる。受光素子４の光電変換で生成した電気信号の出力を外部に伝送するケーブル８、電気回路９が取り付けられる。 （もっと読む）

【課題】被評価水の水質評価を精度よく行うことが可能な水質評価方法と、この水質評価方法に用いられる基板接触器具とを提供する。
【解決手段】基板接触器具１０は、内部を真空度−０．０９４ＭＰａ以下に維持することが可能な密閉性能を有している。基板接触器具１０内に基板Ｗを収容して被評価水を通水し、通水停止後、基板接触器具１０内部を密閉し、この基板接触器具１０内に基板Ｗを収容したまま分析設備に搬送する。 （もっと読む）

【課題】本発明はＸ線分光器に関し、遮蔽板の調整を確実かつ正確に行なうことができるＸ線分光器を提供することを目的としている。
【解決手段】電子顕微鏡に搭載されたＸ線分光器であって、試料から発生した特性Ｘ線を回折格子７に導き、該回折格子７で分光したＸ線の強さを検出してＸ線分析を行なうＸ線分光器３において、Ｘ線分光器３内に入射される分光Ｘ線の内、０次光Ｘ線１２を遮蔽する０次光遮蔽板１３と、該０次光遮蔽板１３をＸ線検出器５のＸ線分光方向に移動する移動機構と、該移動機構にＸ線分光器内の真空状態を保持するための保持手段を設けて構成される。 （もっと読む）

【課題】 エックス線分析装置による測定時にエックス線の照射領域が大気雰囲気にある場合には、エックス線が吸収され減衰して検出効率を低下させることに鑑みて、エックス線の進行域をエックス線を殆ど吸収しないシールガスの雰囲気とすることができるエックス線分析装置を提供する。
【解決手段】 エックス線の発生装置２と検出装置３のそれぞれにエックス線の照射方向と検出方向を案内するために設けられたキャピラリー12、13にヘリウムガスを供給して、キャピラリー12、13の先端からヘリウムガスを噴出させる。キャピラリー12、13は測定対象物Ｏの測定位置を指向しているから、噴射されたヘリウムガスは被測定位置に吹き付けられ、エックス線の進行域の雰囲気を形成し、エックス線の減衰が抑制される。 （もっと読む）

バッグおよびパッケージに対するＸ線イメージング検査システム。透過イメージングが、扇形ビームおよびセグメント型検出器を使用して実行され、一方、散乱イメージングが、走査ペンシルビームで実行され、両方のビームは同時にアクティブである。ビーム間のクロストークは、シールド、散乱検出器設計、配置および向きの組み合わせによって軽減され、イメージ処理は、透過ビームから散乱されて散乱検出器の中に入る測定された放射線を差し引き、クロストークを低減する。
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【課題】エックス線分析装置での測定ではエックス線の照射方向と検出方向とを被測定位置で交差させる必要があり、エックス線の集中手段の指向方向を簡便に調整でき、さらに照射エックス線のうち集中手段に導かれないエックス線が周囲に漏洩することを防止したエックス線分析装置を提供する。
【解決手段】キャピラリー12、13を挿入したキャピラリーチャックの先端部にロックナットを締め付けてキャピラリー12、13を保持させ、該キャピラリーチャックをキャピラリーホルダ16に挿入し、該キャピラリーホルダ16を発生装置２と検出装置３にそれぞれカバー14、15を介して取り付ける。キャピラリーホルダ16の周壁に植設した調整ネジの締め付け状態を調整することによりキャピラリーチャックの姿勢を調整してキャピラリー12、13の指向方向を調整する。 （もっと読む）

【課題】ラインスキャン方式において、電子ビームの位置ずれを補正して正確な二次元マッピング画像を得る。
【解決手段】ビーム走査部により電子ビームで試料表面の所定の領域を走査して得られた二次元画像の１つを参照画像として記憶しておき、予め設定された本数のラインスキャンごとにビーム走査部を駆動させて二次元画像を得、参照画像記憶部に記憶されている参照画像と比較して電子ビームのズレ量を算出する。その算出されたズレ量に基づいて偏向レンズにより電子ビームの位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】ＬＭＩＳ汚染を発生させることなく、膜中の異物を正確に検出し電子顕微鏡による観察を迅速に行うことができる荷電粒子線装置、試料加工方法及び半導体検査装置を提供する。
【解決手段】他の光学式検査装置によって検出された、膜６６中に存在する欠陥の原因となる異物６５を他の光学式検査装置で取得された位置情報を基に光学式顕微鏡４３で検出し、電子顕微鏡画像やイオン顕微鏡画像による異物６５の観察やＥＤＸによる異物６５の元素分析ができるように非金属のイオンビーム２２で試料３１を加工する。 （もっと読む）

【課題】
被検査基板の帯電状態を任意に制御でき、信頼性の高い電子ビームを用いた回路パターンの検査装置を提供する。
【解決手段】
回路パターンが形成されたチップを複数有する基板表面に電子ビームを照射し、該照射によって基板から発生する信号を検出して画像化し、該画像と他の画像とを比較して回路パターン上の欠陥を検出する回路パターンの検査装置において、電子ビームで走査しながら一方向に移動する基板のひとつの移動であるラインに含まれるチップ列に電子ビームを照射する検査スキャンにより検査用の画像を取得した後に、検査スキャンにより電子ビームが照射された領域の帯電状態を飽和状態にする、あるいは帯電状態を元に戻すことによって画像の質が均一になるように、該照射された領域に再び電子ビームを照射するポストスキャンの電子光学条件を設定する条件設定手段を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 検査対象とすべき最適な断層像を特定することが困難であり、結果として高精度の検査を行うことができなかった。
【解決手段】 Ｘ線によって検査対象を検査するにあたり、Ｘ線を基板上の検査対象品に照射して異なる方向から撮影した複数のＸ線画像を取得し、上記複数のＸ線画像に基づいて再構成演算を実行し、当該再構成演算によって得られた再構成情報に含まれる上記基板の配線パターンの情報に基づいて上記検査対象品の検査位置を決定する。 （もっと読む）

原子力発電所の伝熱面の表面から物質の試料を摘出し、試料の高解像度走査電子顕微鏡/エネルギー分散型X線分光法と、試料の走査透過電子顕微鏡/制限視野電子線回折/スポット分析および元素マッピング分析との少なくとも1つを行うことをも含む、原子力発電所の伝熱面の表面上の堆積物中の結晶を分析する方法。
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【課題】製造されたデバイスの内部構造をテストするために薄いサンプルを準備して像形成する。
【解決手段】物体のサンプルを形成し、物体からサンプルを抽出し、真空チャンバーにおいて表面分析及び電子透過度分析を含むマイクロ分析をこのサンプルに受けさせるための方法及び装置が開示される。ある実施形態では、抽出されたサンプルの物体断面表面を像形成するための方法が提供される。任意であるが、サンプルは、真空チャンバー内で繰り返し薄くされて像形成される。ある実施形態では、サンプルは、任意のアパーチャーを含むサンプル支持体に位置される。任意であるが、サンプルは、物体断面表面がサンプル支持体の表面に実質的に平行となるようにサンプル支持体の表面に位置される。サンプル支持体に装着されると、サンプルは、真空チャンバー内でマイクロ分析を受けるか、又はロードステーションにロードされる。 （もっと読む）

【課題】煩雑な焦点補正の作業を行うことなく、試料上の線分析や面分析を簡便かつ自動的に行うことができる斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法を提供すること。
【解決手段】斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法は、電子線が照射された試料から発せられる特性Ｘ線をＸ線検出器により検出する際に、試料ステージを傾斜させることにより特性Ｘ線の取出角度を制御し、試料内部で励起された特性Ｘ線が全反射現象により検出さない角度に特性Ｘ線の取出角度を設定する斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法において、前記取出角度が得られるように試料ステージを傾斜させた状態で予め任意の分析点の焦点調整を完了させた後、その焦点を維持しつつ試料表面の他の分析点を分析するのに必要な試料ステージの制御データを求め、求めた制御データに基づいて試料ステージを移動させることにより試料表面の微粒子又は薄層の線分析又は面分析を行う。 （もっと読む）

【課題】光学顕微鏡によって検出した分析位置におけるＸ線分析において、試料の移動、および試料の移動に伴う分析対象位置の位置合わせを要することなくＸ線分析を行う。
【解決手段】光学顕微鏡の対物レンズと、Ｘ線分析装置のＸ線発生器とを、同一光軸上で切り換え自在とすることによって、光学顕微鏡によって検出した分析位置に対して、試料の移動、および試料の移動に伴う分析対象位置の位置合わせを行うことなく、同じ試料位置のままでＸ線発生器からの一次Ｘ線を照射し、試料から放出される特性Ｘ線を検出しＸ線分析する。複合装置１は、光学顕微鏡系２とＸ線分析系３とを備えると共に、光学顕微鏡系２とＸ線分析系３が共有する回転自在のレボルバ５を備える。 （もっと読む）

【課題】分析点の位置合わせを精度よく行うための浅い焦点深度及び高倍率観察と、薄片試料の分析点探しを透過光学像によって行うときの広い視野及び低倍率観察という両方の要求を満たす光学観察系を備える電子プローブマイクロアナライザの提供。
【解決手段】 分析点の位置合わせを精度よく行うための反射光学像の観察は、落射照明装置Ｓ３と観察装置Ｋ２と有孔反射対物レンズ１０とこれらを結ぶ光路に配置された光学機構を用いる。広い視野及び低倍率を要求される透過光学像を観察する場合は、観察装置Ｋ３とＯＭが備えている落射照明装置Ｓ３と有孔反射対物レンズ１０とこれらを結ぶ光路に配置された光学機構を利用する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、良品から不良品への経時変化を同一試料、同一視野で追跡し、不良発生のメカニズムを観察することのできる内部構造観察用又は電子顕微鏡用の試料ホルダーを提供することにある。
【解決手段】本発明は、内部構造観察用の試料ホルダーであって、試料ホルダー本体と、複数本の探針と、試料を保持する試料保持台を有し、前記探針及び試料の少なくとも一方を移動可能とする圧電素子と、前記探針に接続され、前記試料に電圧を印加する配線を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】集光素子上の金属薄膜は、帯電を防ぐ大きな効果をもたらすが、逆にこの金属薄膜による軟Ｘ線の吸収が行われ、信号強度の大きな減衰を招き、結果として検出感度の大幅な劣化となる。
【解決手段】試料と集光素子の間に接地電位の金属グリッドを置くことにより集光素子上での帯電による電界を遮蔽し、照射電子線の位置変動を抑える。又、集光素子上の金属薄膜の蒸着を止めることにより、軟Ｘ線の金属薄膜による吸収を無くし、検出感度の向上を行う。 （もっと読む）

【課題】試料の３次元的な元素構成を原子レベルで高精度に分析する際に、分析中の試料の移動を不要とし、試料の取り付け・取り外し等の作業が不要な元素分析装置および当該元素分析装置に使用可能な試料ホルダ等を提供する。
【解決手段】被測定体を搭載する電子顕微鏡用の試料ホルダ１０において、前記被測定体に照射される電子線が通過可能な開口２８、２８’を有する筐体１６と、前記筐体１６の内部に設けられ、前記被測定体から離脱した元素の位置および飛行時間を測定する検出手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】分析時間の短縮を図れるとともに分析対象体表面のコンタミネーションの発生を抑制して分析精度の向上を図れるといった、優れた電子顕微鏡装置と共に用いる分析装置を提供する。
【解決手段】
電子顕微鏡装置Ｐが電子線を照射した際に試料Ｓから放射され且つ前記電子顕微鏡装置Ｐでの解析に用いるエネルギー線とは別のエネルギー線に関するデータを一時的に記憶するデータ記憶部１と、電子線照射条件に変化が生じたか否かを監視する電子線照射条件変化監視部２と、前記試料Ｓの分析を前記別のエネルギー線を利用して行う際に、前記電子線照射条件変化監視部２を参照し前記電子線照射条件に変化が生じていないとの監視結果を得た場合には、前記データ記憶部１に一時的に記憶している前記別のエネルギー線に関するデータを読み出して、前記試料Ｓの分析に用いるエネルギー線分析部３と、を具備して成ることを特徴とする電子顕微鏡装置Ｐと共に用いる分析装置。 （もっと読む）