【課題】煩雑な焦点補正の作業を行うことなく、試料上の線分析や面分析を簡便かつ自動的に行うことができる斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法を提供すること。
【解決手段】斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法は、電子線が照射された試料から発せられる特性Ｘ線をＸ線検出器により検出する際に、試料ステージを傾斜させることにより特性Ｘ線の取出角度を制御し、試料内部で励起された特性Ｘ線が全反射現象により検出さない角度に特性Ｘ線の取出角度を設定する斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法において、前記取出角度が得られるように試料ステージを傾斜させた状態で予め任意の分析点の焦点調整を完了させた後、その焦点を維持しつつ試料表面の他の分析点を分析するのに必要な試料ステージの制御データを求め、求めた制御データに基づいて試料ステージを移動させることにより試料表面の微粒子又は薄層の線分析又は面分析を行う。 （もっと読む）

【課題】試料の種類及び濃度を検出しながら、外観では判断できない装置自体の性能上の
異常を、自動的かつ即座に検出することにより、より正確な試料の検査を行うことができ
る検査装置、該検査装置を用いた検査方法を提供する。
【解決手段】試料３を構成する第１の元素の種類及び濃度を検出するＸＲＦ装置１００に
おいて、試料３と、第１の元素とは異なる、種類及び濃度が既知な第２の元素から構成さ
れた基準部材４とに、１次Ｘ線２０を照射するＸ線管１と、１次Ｘ線２０の照射により、
試料３から発生する第１の元素特有の第１の２次Ｘ線２１を検出するとともに、基準部材
４から発生する第２の元素特有の第２の２次Ｘ線２２を検出する検出器５とを具備し、基
準部材４は、１次Ｘ線２０の光路上に設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＣＰＵ負荷を軽減して物品選別装置のコスト低減と小型化を図るとともに、ネットワーク上の資源を有効活用可能で信頼性に優れトレーサビリティ情報の管理要求等にも柔軟に応え得るシステムを構築可能な物品選別装置を提供する。
【解決手段】物品Ｗが搬送される搬送路５上に検出領域１１を有し、その領域を通過する物品の品質状態を表す検出信号を出力する検出手段１０と、その検出信号に基づいて物品に対応する第１の識別情報とその物品の検出信号とを含む個別検出情報を生成して外部のデータ処理装置５０に出力する個別検出情報出力手段２２及び２３と、データ処理装置５０によって演算処理された個別検出情報の処理結果を第２の識別情報と共に入力する結果入力手段２４と、第１の識別信号と第２の識別信号との対応を判断して判断結果を出力する判断手段２１ａと、前記判断結果及び処理結果を受けて選別制御信号を生成する選別制御手段２１ｂとを備える。 （もっと読む）

【課題】 被測定物の全ての測定点の位置を容易に把握することができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 被測定物Ｓを配置するステージ１４と、被測定物Ｓの所定の領域の透視Ｘ線像を撮影するＸ線検出器１２とＸ線検出器１２に向けて透視用Ｘ線を照射するＸ線源１１とを有するＸ線測定光学系１３と、ステージ１４を移動させるステージ駆動機構１６と、透視Ｘ線像に基づいて作成されたＸ線画像と被測定物Ｓの所定の領域を含むマスター画像との画像表示が行われる表示装置２３とを備えるＸ線検査装置１であって、マスター画像の特定の位置に測定点情報の画像表示を行うティーチング情報記憶制御手段３５を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 同一形状の被測定物を次々測定する際に、ティーチングを行う必要なく簡単な入力操作で各測定点を入力することがＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 同一形状の被測定物群を一定間隔ごとに規則的に配列する搭載治具１５を用いてステージ１４上に複数の被測定物群Ｓを載置し、初回測定点位置、測定点間距離、測定繰り返し回数を含む測定位置情報の入力を促す測定位置情報入力制御部３３と、入力された測定位置情報に基づいて各測定点位置を算出する測定点位置算出部３４と、算出された各測定点位置を順次Ｘ線測定光学系の測定視野内に移動するステージ駆動機構制御部３５とを備える。 （もっと読む）

【課題】高精度の試料ステージ機構を用いることなく、メモリーセルをカウントし、特定のセルの位置を検出する。
【解決手段】本発明の荷電粒子ビーム装置では、試料が繰り返しセルを有するとき、セルに対応したスケールパターンを生成し、それを試料の繰り返しセルの画像に重畳させることにより、目的セルを特定する。更に、試料の繰り返しセルの少なくとも３つの端の位置に基づいてセルの配列を求め、このセルの配列から目的セルの位置を特定する。ビーム偏向機能によるズームとソフトウエアによるズームを組み合わせてズーム画像を生成し、試料ステージを移動させることなく、ソフトウエアによって画像シフトを行う。 （もっと読む）

本発明の１つの態様によれば、基板処理システムが提供される。このシステムは、チャバを囲むチャンバ壁と、基板を支持するようにチャンバ内に位置付けられた基板支持体と、基板上の材料から光電子を放出させる電磁放射線を基板支持体上の基板に放出させる電磁放射線源と、基板から放出された光電子を捕らえるアナライザと、チャンバ内に磁場を発生させ基板からアナライザに光電子を誘導する磁場発生器と、を含む。
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【課題】 試料室内の水分を低ランニングコストで効率よく吸着・再生すると同時に、外部の磁気の影響を受けにくし、総じて検出性能を高めた試料分析装置を提供する。
【解決手段】
試料分析装置１において、コールドトラップ装置１０の低温パネル８０として、特に透磁率が大きいパーマロイと、熱伝導率が大きい無酸素銅と、によるクラッド材を用いて内外で二層構造となるように形成した。低温パネル８０のパーマロイは外部からの磁気を吸収させる機能を有し、また、無酸素銅により熱の昇降速度を向上させる機能を有するため、検出性・操作性を向上させた試料分析装置１とした。 （もっと読む）

【課題】構造が簡単で、試料の交換作業を短時間で行なえる真空搬送装置を実現し、しかも、占有面積が小さく、スループットを向上させた荷電粒子線検査装置を提供する。
【解決手段】２つの駆動源２，１０により回転および上下動作が可能なアーム１と、このアーム１の両端に、アーム１の回転に伴って回転するように支持されて試料を載置する第１のハンド２２と第２のハンド２３とを上下方向に離間させて配置して、アーム１の回転と上下動作の制御のみにより試料の搬送とその交換を可能した真空搬送装置２６を構成し、また、この真空搬送装置２６を荷電粒子線検査装置の予備排気室ではなく真空試料室内に配置した。 （もっと読む）

【課題】増強された分解能をもつＸ線散乱測定を用いた試料の検査方法を提供する。
【解決手段】その試料の検査方法は、試料に向かってＸ線ビームを誘導する段階と、試料から散乱させられたＸ線を捕捉すべく検出器素子のアレイを構成する段階とを含む。試料は、アレイのピッチの整数倍数でない増分だけ相互に分離された少なくとも第１および第２の位置との間で該アレイの軸に平行な方向にシフトされる。試料がそれぞれ少なくとも該第１および第２の位置のそれぞれにあるときに検出器素子が捕捉したＸ線に応答して、該検出器素子により少なくとも第１および第２の信号が生成される。この第１および第２の信号は、前記軸に沿った位置の関数として、試料のＸ線散乱プロファイルを決定すべく合成される。 （もっと読む）

【課題】電子写真感光体を破壊、加工することなく、連続して検査することのできるＥＰＭＡ法による検査装置および検査方法を提供することである。
【解決手段】試料に電子線を照射する電子線光学手段が接続され、所定の真空度に保持された試料室と、真空排気手段および給気手段とが接続され、前記試料室との間で試料の出し入れを行う第１開口部および外部との間で試料の出し入れを行う第２開口部を有する予備排気室と、前記第１開口部を開閉するための第１仕切り弁と、前記第２開口部を開閉するための第2仕切り弁と、試料を保持して外部と予備排気室と試料室との間を移動する試料台と、この試料台の移動に対応して、前記第１仕切り弁および第２仕切り弁の開閉、予備排気室の給・排気を行う制御手段とを備えたことを特徴とするＥＰＭＡ法による検査装置である。 （もっと読む）

【課題】 製造ラインを停止させずに検査結果が正しいか否か、或いは検査結果の確からしさを容易に確認できることから検査結果の検証が容易となり、検査結果の誤差を自動的に補正できる。
【解決手段】 被検査物２を所定の搬送方向Ｙに搬送しながら計量する計量手段３と、計量手段３による計量値と設定値とを比較判定して判定信号を出力する制御手段６と、判定信号を受けて被検査物２を良品と不良品とに選別する排出手段７と、計量値を出力する出力手段９とを備える重量検査装置１において、計量値の確からしさを確認するために被検査物２ａを搬送方向Ｙと異なる方向に排出するようにモード切換信号を出力する排出指示手段５を備え、制御手段６は、モード切換信号を受けて計量値を確認用計量値として記憶するとともに被検査物２ａを搬送方向Ｙと異なる方向に排出する排出信号を出力し、出力手段９は、確認用計量値を出力する。 （もっと読む）

【課題】非破壊分析を用いたテストピースの自動欠陥認証において、誤った検出を少なくし信頼性を高める。
【解決手段】Ｘ線管と、検出器と、Ｘ線検査ユニットのビーム経路にテストピースを位置決めするための機械マニピュレータとを備えたＸ線検査ユニットにおいて、テストピースの位置決め画像を理想的な参照画像と正確に一致するようにすべく、回転軸、回転角及び変位ベクトルを計算し、回転軸、回転角及び変位ベクトルの値を機械マニピュレータに中継すると共に、テストピースをこれらの値に対応する位置に移動させ、この位置において、Ｘ線参照画像と比較するために提供されるテストピースの比較画像を、Ｘ線検査ユニットにおけるＸ線によって作成する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハ単位でインラインで効率的に欠陥を分析するための装置および技術を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態は、単一のセットアッププロシージャにおいて検査および欠陥分析プロセスの全体をセットアップする簡単なインタフェース（１５８、５００）を提供する。ある実施形態において、試料（１００）上の欠陥を分析する装置が開示される。この装置は、潜在的な欠陥（１０２）を探して試料を検査する検査ステーション、およびそのような潜在的な欠陥（１０４）の分類を決定するために、前記潜在的な欠陥の試料を分析するレビューステーションを含む。
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【課題】視野を移動させながら、目的の領域の画像を画像のぶれなどの劣化無く取得する。
【解決手段】視野を移動させながら目的の領域の前後で複数枚の画像を取得し、それらを数枚ごとのグループに分けて各グループの積算画像を作成し、積算画像同士を比較することで算出した像移動量と撮像枚数との関係式を算出する。その関係式より取得した複数枚の画像間の移動量を算出して、その移動量だけ画像を補正し積算することで、目的の領域の画像を再構成する。 （もっと読む）

不活性ガス雰囲気にある試料を分析する蛍光Ｘ線分析装置において、分光室は不活性ガスで置換しないですむとともに試料室と連通せず、かつ十分な強度の２次Ｘ線を得ることができ、さらに隔壁が長寿命である装置を提供する。試料４が収納される試料室１と、試料４に１次Ｘ線６を照射するＸ線源７が収納され、前記試料室１と連通する照射室２と、試料４から発生する２次Ｘ線８を分光して検出する検出手段９が収納される分光室３と、前記照射室２と分光室３とを仕切るように配置されて前記２次Ｘ線８を通過させる隔壁１０とを備え、前記試料室１および照射室２が不活性ガスで置換されるとともに、前記分光室３が真空排気される。
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【課題】 Ｘ線の吸収が少ない被検査体の透視画像の画質を向上させる。
【解決手段】 Ｘ線管１で発生したＸ線４をベルトコンベア５で運ばれてくる被検査体７に照射してラインセンサ３により透過Ｘ線を検出し透過像を得る。この透過像から被検査体７内部に存在する異物を検出する。Ｘ線管１とラインセンサ３の間に内部を真空としたケース２を配置すると、Ｘ線４はこのケース２内を通過するから、このケース２を通過する間ではＸ線４が空気によって吸収されることがない。これによりＸ線管１で発生したＸ線のうち、とくに波長の長い低エネルギーのＸ線が減衰することなく被検査体７に到達することになる。したがって、高エネルギーＸ線では透視画像にコントラストが付かず、低エネルギーＸ線で検査することが適当な種類の被検査体に対しても効果的に異物検出を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構成で、大気圧で分析すべき試料が真空で分析されるのを防止できる蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】 真空と大気圧に雰囲気が切り替えられる分析チャンバ11内で、試料ホルダ8 に収納された試料3 に１次Ｘ線2 の照射などを行う分析装置本体10と、複数の試料ホルダ8 が載置される試料テーブル21を有し、分析装置本体10に対して試料ホルダ8 の搬出入を行う試料交換機20と、試料テーブル21における試料ホルダ8 の載置場所21a ごとに、試料3 に適用される雰囲気などの分析条件が設定される分析条件設定手段33と、その分析条件に従い分析装置本体10および試料交換機20の動作を制御する制御手段34とを備える。試料テーブル21における試料ホルダ8 の各載置場所21a に、分析チャンバ11内のいずれかの雰囲気が割り当てられており、その割り当て状況が表示手段31または試料テーブル21自体に表示される。 （もっと読む）

【課題】半導体基板を処理する方法及び装置、特に、半導体基板の処理に用いるための計測ツールを提供する。
【解決手段】本発明の１つの態様により、半導体基板を処理するための半導体基板処理装置及び方法が提供される。本方法は、表面と各形態が第１の座標系の第１のそれぞれの点でこの表面上に位置決めされたこの表面上の複数の形態とを有する半導体基板を準備する段階と、第２の座標系の第２のそれぞれの点で各形態の位置をプロットする段階と、第１及び第２の座標系の間の変換を発生させる段階とを含むことができる。変換を発生させる段階は、第１及び第２の座標系の間のオフセットを計算する段階する段階を含むことができる。オフセットを計算する段階は、第１の座標系の基準点と第２の座標系の基準点の間のオフセット距離を計算する段階、及び第１の座標系の軸線と第２の座標系の軸線の間のオフセット角度を計算する段階を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】 薄膜化した試料に電子線を照射して観察、特にX線検出による元素分析を、背景雑音を低減して高精度、高分解能で行える試料観察装置および試料観察方法を実現することを目的とする。
【解決手段】 薄膜試料の直後に孔部を有する軽元素材料からなる部材５６を配置して、電子線８で該試料２２の特定部位を観察する。
【効果】 本発明により、薄膜試料に電子線を照射して観察する際に、該試料以外の部分から発生するX線、および、該試料以外の箇所で散乱されて再び該試料に入射する電子線を低減できる。これにより高精度、高感度な２次電子像観察および元素分析が可能となり、一段と微細化が進むＬＳＩデバイス等の内部観察等を、高精度、高分解能で実施できる試料観察装置および試料観察方法を提供できる。 （もっと読む）