【課題】 欠陥検査装置におけるリサイズ処理を高い精度で実現することができ、欠陥検出感度の向上をはかる。
【解決手段】 被検査試料のパターン欠陥を検出するための欠陥検査装置において、試料１に光を照射する光源３と、試料１からの反射又は透過光を検出して測定パターンデータを取得する光電変換部１３と、設計データから複数の画素データを含む展開データを生成する展開回路１７と、展開データの各画素の近傍に存在する隣接図形間の距離に相当する量を求め、隣接図形間の距離に相当する量に基づいて画素毎に係数を求め、求めた係数に基づいて展開データにフィルタ処理を施すリサイズ回路１８と、フィルタ処理が施された展開データに基づいて基準パターンデータを生成する光学フィルタ回路１９と、測定パターンデータと基準パターンデータとを比較する比較回路７とを備えた。 （もっと読む）

【課題】スジ状ムラ欠陥の短辺方向の幅に影響されることなく高い検査性能を得ることができるスジ状ムラ欠陥の検査方法および装置を提供する。
【解決手段】入力画像に対するノイズ除去過程と、ノイズ除去画像に対する検出すべきスジ状ムラ欠陥の方向の平滑化フィルターを適用する平滑化過程と、平滑化画像に対してその欠陥の方向を除く３方向に１次微分フィルタを適用する１次微分過程と、１次微分画像から絶対値画像を得る絶対値化過程と、３方向の絶対値画像に対する最大値化過程と、最大値画像に対する２値化過程と、２値画像に対するラベリング過程と、ラベルＡ領域を抽出する領域抽出過程と、ラベルＡ領域におけるムラ値を演算するムラ値演算過程と、ムラ値に基づいてラベルＡ領域の良否を判定する良否判定過程とを有するようにしたスジ状ムラ欠陥検査方法およびその方法を適用した装置。 （もっと読む）

【課題】画像周辺についても、画像中央部分と同等の特性を持つ、輝度平均を保証した好適なローパスフィルタを実現する。
【解決手段】元画像最外周部分のみにローパスフィルタ処理することにより、外挿時の誤差を防止するために画像最外周部のノイズ低減を図る。次に、画像の領域を外挿により拡張することで、最終のローパスフィルタ処理する際に画像周辺部分において境界処理を行う必要がなくなるようにする。最後に、元画像の存在範囲にローパスフィルタ処理することにより、画像中央部と画像周辺部とで同じ特性を持ったフィルタ結果を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 ムラ欠陥を高精度に検出できるムラ欠陥検出方法及び装置を提供する。
【課題手段】 ムラ欠陥検出方法は、撮像した画像の各画素に対してムラ成分強調フィルタをかけてムラ成分を強調するムラ成分強調処理工程と、前記ムラ成分強調処理工程で得られた各画素のムラ成分強調値に基づいてムラ欠陥を検出するムラ欠陥検出工程とを有する。ムラ成分強調処理工程は、対象画素から所定距離離れてかつ対象画素の周囲に配置された輝度比較画素を、各輝度比較画素の輝度値の大きさの順に並び替えた際に中央部分に位置する所定数の画素の輝度平均値を求め、この輝度平均値と対象画素の輝度値との差分を計算して対象画素のムラ成分強調値とするムラ成分強調フィルタを用いてムラ成分を強調する。ムラ欠陥検出工程は、前記各画素のムラ成分強調値を所定の閾値と比較してムラ欠陥候補の画素を抽出してムラ欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】印刷版の傷や異物による画像欠陥と描画ミスによる画像欠陥とを識別することができる検版装置を提供する。
【解決手段】読取画像データをバンドパスフィルタ２５により処理することで通常の印刷版に存在する色範囲に属する画素を除去した傷検査用画像データｂ１，ｂ２を生成する。一方、ノッチフィルタ２８により処理された読取画像データと基準画像データとを比較することで基準画像データよりも高濃度または低濃度の領域がラベリングされた描画相違点データｃ１〜ｃ５を生成する。傷検査用画像データとの対応関係により描画相違点データにおける個々のラベルが印刷版の傷等に由来する欠陥であるか描画ミスに由来する欠陥であるかを判定する。 （もっと読む）

【課題】 大部分が平面で、一部に凹凸などの非平面部を有する物品表面を、非平面部は欠陥として検出せず、非平面部内の欠陥は検出可能な表面検査方法及び装置の実現。
【解決手段】 ほぼ平面に近い連続した表面11と仕様上設けられた凹凸などの非平面部12,13とを有する物品表面10の欠陥を検査する表面検査方法であって、物品表面の画像を撮影し103、非平面部の画像と平面の画像との差から、非平面部の画像を平面の画像と同等の画像にする非平面部補正データを演算し108、非平面部補正データに基づいて非平面部の画像を補正し109、非平面部の画像を補正した後の物品表面の画像を処理して物品表面の欠陥を検出する110-114。 （もっと読む）

【課題】
比較検査の性能向上のためには位置合せの精度向上。
【解決手段】
代表画素領域における代表注目画素の位置ずれ量を算出するときに、統計処理領域（投票対象領域）である代表画素領域の周辺に切り出される周辺画素領域群における各周辺注目画素の位置ずれ量を統計処理する（投票処理して集計する）ことによって得られる頻度の高い位置ずれ量を利用することで、位置合せの正解率を向上させる。 （もっと読む）

【課題】対象物の濃淡ムラを検査するムラ検査において、エッジ近傍におけるムラ検査の精度を向上する。
【解決手段】基板９に塗布されたレジストの濃淡ムラを検査するムラ検査装置１では、基板９の撮像画像が圧縮された後にローパスフィルタ処理が行われ、さらにハイパスフィルタ部４２１４によりハイパスフィルタ処理が行われる。ハイパスフィルタ部４２１４では、ハイパスウィンドウがエッジ近傍に存在する場合には、ハイパスウィンドウが縮小されてフィルタ処理による画素値算出の対象となる注目画素が属する領域以外の領域を避ける。このように、ムラ検査装置１では、ハイパスフィルタ処理に利用される画素群を、ハイパスウィンドウ内の画素、すなわち、実質的に注目画素が属する領域内の画素に制限することにより、エッジ近傍におけるムラ検査の精度を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】カット面形状に歪みが存在する場合でも反射光を均一に受光できるように照射し、中空部と樹脂部のコントラストを向上させて誤検出を低減することができ、併せて端面のカッター異常を早期に発見することのできる中空糸膜モジュール検査装置および中空糸膜モジュールの検査若しくは製造方法を提供する。
【解決手段】平面型照明と中空糸膜モジュールからの反射光を受光する第１の撮像手段と、リング型照明と中空糸膜モジュールからの散乱光を受光する第２の撮像手段と、それぞれの撮像手段で得られた画像を処理する欠陥判別手段と、モジュールを移動させるモジュール走査手段とを有し、中空糸膜モジュール端面に発生する欠陥を検出するようにしたことを特徴とする中空糸膜モジュール検査装置。 （もっと読む）

【課題】熱可塑性接着剤の塗布異常を速やかに検出して、熱可塑性接着剤が正常に塗布されていない箱体が搬出されることを防止することができる熱可塑性接着剤検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】熱可塑性接着剤検査装置１は、箱体成形装置２において、箱体成形装置２によって成形される箱体６に塗布された熱可塑性接着剤４０及び４１に光を照射する光源装置３ａ及び３ｂと、熱可塑性接着剤４０及び４１からの反射光を撮像する撮像装置４ａ及び４ｂと、撮像装置４ａ及び４ｂから送られてきた画像データを処理し、規定値と比較することにより、前記熱可塑性接着剤４０及び４１が正常に塗布されているかを判定する画像処理装置５ａ及び５bとを有する。 （もっと読む）

【課題】 液晶パネルや液晶セルの欠陥、特に真上からでは見えにくい欠陥や小さく見える欠陥等を確実に検出することができるとともに、安価な装置構成とすることができる被検査体の検査方法及びその装置を提供する。
【解決手段】 被検査体の液晶パネル１を構成する一方の基板側から照明装置２により照明し、被検査体の画面を被検査体を構成する他方の基板側より撮像手段３により撮像することにより取り込まれる検査画像に基づいて被検査体の欠陥を検出する被検査体の検査方法において、照明装置２の照明方向を被検査体に対し垂直方向にして被検査体を検査する第１の検査工程と、照明装置２の照明方向を被検査体に対し斜め方向に変更して被検査体を検査する第２の検査工程とを含むものとする。 （もっと読む）

【課題】
透過像と反射像とに基づいて正確に異物検査を行うことができる検査装置及び検査方法ならびにパターン基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる検査装置は、落射照明光源２１と、落射照明光源２１からの光を集光してフォトマスク３３に出射するレンズ３２と、レンズ３２から出射した光のうち、フォトマスク３３で反射した反射光をレンズ３２を介して検出する反射側センサ４４と、透過照明光源１１と、透過照明光源１１からの光を集光してフォトマスク３３に出射するレンズ１６と、レンズ１６からフォトマスク３３に出射した光のうち、フォトマスク３３を透過した透過光をレンズ３２を介して検出する透過側センサ４３とを備え、落射照明光源からの光と透過照明光源からの光とがレンズ３２の視野の一部の異なる位置を通過するものである。 （もっと読む）

【課題】 水浸割粒の小さな割れをも検出できる粒状被検査物の状態判別装置を得る。
【解決手段】 反転２値画像の画素値Ｉ₂（０，０）が黒であるか否かを判定する（１３２）。判定が否定されると合成画像の画素値Ｉ_m（０，０）を白に設定する（１３４）が、判定が肯定されると、輪郭２値画像の画素値Ｉ_E（０，０）が黒であるか否かを判定する（１３６）。判定が否定されると、合成画像の画素値Ｉ_m（０，０）を白に設定する（１３４）が、判定が肯定されると、合成画像の画素値Ｉ_m（０，０）を黒に設定する（１３８）。同様に、全ての画素値に対して白又は黒に設定し、反転２値画像の白米部分の画素から、輪郭２値画像の輪郭部分の画素に対応する画素を除いた画素を黒と設定した合成画像を生成する。 （もっと読む）

【課題】印刷結果を読み取って得た読取画像と、印刷結果のもとになった原稿画像との照合の精度を向上させる。
【解決手段】印刷コントローラ４０が供給する原稿画像データを現像ユニット２０及び定着ユニット２５により用紙に印刷し、その印刷結果を画像読取装置３０で読み取る。この結果得られる読取画像データは、画像読取装置３０の空間周波数特性が反映されている。印刷検査装置５０は、印刷コントローラ４０から原稿画像データを取得し、これに対し、画像読取装置３０の空間周波数特性を示す空間周波数フィルタを作用させる。そして、この結果得られた照合用原稿画像と、前述の読取画像データとをそれぞれ二値化した上で、照合する。 （もっと読む）

【課題】 画像の画素位置ズレや伸縮ノイズ、センシングノイズに埋もれるほどの欠陥を可及的に検出することを可能にする。
【解決手段】 検査基準パターン画像と被検査パターン画像との関係を検査中にオンラインで同定して、画像の画素ズレや伸縮ノイズ、センシングノイズを吸収（フィッティング）した数式モデルを構築し、そのモデルのシミュレーションによって得られる新たな検査基準パターン画像（モデル画像）と被検査パターン画像とを比較することによって欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】 発電プラントやタービン等に用いられる材料の脆化度を粒界腐食溝の幅や深さなどで評価する際等に適用して有用な、物体表面にある凹部或いは凸部の幅やその体積を高精度に画像解析で測定することができる測定方法を提供する。
【解決手段】 物体表面を測定して得た三次元画像データから、該物体表面上にある測定対象凹部或いは凸部の幅や体積を算出するにあたり、該三次元画像データをコンピュータに入力して、高さ方向の情報を明暗で表した二次元表面形状画像（白黒濃淡画像）を表示し、該表示した二次元表面形状画像の全体に一様に生じている上下および左右の方向に沿った明度勾配をなくすことで該三次元画像データの水平補正処理をし、該水平補正処理後の二次元表面形状画像上で、該画像中の測定対象凹部或いは凸部をトレースしてマスク画像を生成し、該マスク画像で覆われた部分の幅および体積を該三次元画像データに基づいて算出する。 （もっと読む）

【課題】補正処理パラメータを最適化できて設計画像中のパターンにおけるコーナー部を簡易に精度良く補正し得る画像パターン補正方法を提供すること。
【解決手段】本発明の画像パターン補正方法を実施する装置には、設計データ入力手段からの設計画像に対して設計画像補正処理フィルタ係数計算手段で算出された加工過程特性フィルタと加工過程応答関数とを用いてパターンの補正処理を行うための設計画像補正実行手段５が備えられ、その細部構成は連続量の補正処理フィルタ係数で制御されてフィルタ処理を設計画像に施す加工過程特性フィルタ処理実行手段１１と、連続量の補正処理応答関数パラメータ（何れの補正処理パラメータも公知の統計的学習則により算出される）で制御されてその出力結果を加工過程応答関数に入力して出力値を計算することで補正処理後の設計画像として出力する加工過程応答関数計算手段１２とから成る。 （もっと読む）

【課題】 レティクルやマスクなどパターンが形成された基板上の異物検査において、パターンからの散乱や回折光による誤検出を低減しながら、かつ、異物の見逃しも低減することができる異物検査装置および異物検査方法を提供する。
【解決手段】 検査対象基板１の表面に対して一定の偏光角を有するレーザ光Ｌを走査しながら照射する光源部２と、検査対象基板１の表面に形成されたパターンによる散乱／回折光を消光する光学手段１１を設け、その出力信号Ｒｍを検出する主検出器１３と、前記散乱／回折光Ｒを透過する光学手段１２を設け、その出力信号Ｒｒを検出する参照用検出器１４と、主検出器１３の偏光成分出力から参照用検出器１４の偏光成分を減算して差信号Ｄを求め、この差信号Ｄに含まれるパターンによる幅の広い信号Ｐad, Ｐbdと異物Ａａ，Ａｂによる鋭いピークを持つ信号Ａad, Ａbdをその周波数によって弁別して取出す信号処理部２０とを有する。 （もっと読む）

ウェブ上の異常領域の識別を第１の時間および場所で行うことが可能であるとともに、実際の欠陥の定位およびマーキングが第２の時間および場所で可能であるウェブ（３０）の特徴付けのためのシステム（２０）。
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基板上に堆積された物質の画像を分析する方法であって、画像は複数の画素を含み、この方法は、画像内で興味の対象となる領域を規定するステップと、第１および第２の垂直な軸に、興味の対象となる領域を関連付けるステップとを含み、画像内の１組の画素は、第１の軸に沿って位置し、この方法はさらに、興味の対象となる領域内の画素を、第１の軸にアライメントされかつ第２の軸に沿って突出する一次元アレイに変換するステップと、一次元アレイに少なくとも１つのしきい値を適用するステップとを含み、しきい値は、予め定められた限度に少なくとも部分的に基づく。
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