【課題】熱処理時に処理対象基板にダメージを与えることを防止することができる熱処理装置を提供する。
【解決手段】光学測定系を用いて反射率が既知の標準ウェハー、パターン形成がなされていない無地ウェハーおよび実際に処理対象となる半導体ウェハーの反射強度を測定する。それぞれの反射強度にはスペクトル分解処理がなされる。そして、標準ウェハーの反射強度と無地ウェハーの反射強度とから無地ウェハーが吸収した光エネルギー値が算出され、標準ウェハーの反射強度と処理対象ウェハーの反射強度とから処理対象ウェハーが吸収した光エネルギー値が算出される。これらに基づいて無地ウェハーに対する処理対象ウェハーの光エネルギー吸収比率が算出され、その値と無地ウェハーに照射する光の適正エネルギー値とから処理対象ウェハーに照射すべき適正エネルギー値が算出される。 （もっと読む）

本発明は、読取り体積（ｒｅａｄｉｎｇ ｖｏｌｕｍｅ）内に配列される物品からシグネチャを決定するように操作可能な装置を提供できる。装置は、焦束された非コヒーレント光線を生成し該光線を読取り体積の複数の異なる領域の各々上へ順序に導くことが可能な発生器と、読取り体積の異なる領域から光線が散乱するときに、得られた信号からデータ点のグループから成るセットを集めるように操作可能な検出器配置構成（ｄｅｔｅｃｔｏｒ ａｒｒａｎｇｅｍｅｎｔ）であってデータ点のグループのうち異なるものが読取り体積のそれぞれの異なる領域からの散乱に関連する検出器配置構成と、データ点のグループのセットから物品のシグネチャを決定するように操作可能なデータ収集処理モジュールと、を備える。
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【課題】
堆積物中のガスハイドレートの生成・分解状況を検知する方法及びガスハイドレートの生成・分解状況検知装置を提供する。
【解決手段】
ガスハイドレートを含む測定対象物を波長が2.5 μm〜4.0
μmの範囲において赤外分光測定し、測定対象物中の水分子のOH伸縮振動吸収バンドの変化を測定することにより、ガスハイドレートの生成・分解状況を検知することを特徴とするガスハイドレートの生成・分解状況を検知方法及びこれを利用したガスハイドレートの生成・分解状況検知装置。
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【課題】細胞等の対象物の詳細な情報を得ることができる観察装置および観察方法を提供する。
【解決手段】観察装置１は、観察対象物９の表面または内部を観察するものであって、光源１１，１２、レンズ２１〜２５、アパーチャ３１、光合波器４１、光分波器４２、ハーフミラー４３、撮像部５１、解析部５２、表示部５３、受光部６１、変位検出部６２、ピエゾアクチュエータ７１、駆動部７２、ミラー７３、ステージ８１、駆動部８２、制御部９０を備える。撮像部により撮像された干渉光像に基づいて、観察対象物で生じた第２反射光の強度成分および位相成分の像を求め、位相成分の像に基づいて観察対象物の膜で第２分岐光が反射されて生じた第２反射光による干渉光像が得られた観察範囲を特定し、強度成分の像のうち少なくとも観察範囲内の像を時系列に画像表示して、観察対象物の膜および膜の近傍における顆粒の挙動を観察する。 （もっと読む）

【課題】 周囲の媒質よりも光吸収係数の低い組織と高い組織とを区別して画像化することのできる光音響イメージング装置および光音響イメージング方法を提供する。
【解決手段】 光吸収体のイメージングを行う光音響イメージング装置であって、光源と、光源から照射された光エネルギーを吸収した光吸収体から発生する音響波を検出する検出器と、光吸収体の画像を形成する信号処理部を有する。この信号処理部は、検出器により検出された音響波を波形処理する前に、該音響波の圧力変化時における変化率の正負を記憶する。 （もっと読む）

本発明はガスセンサ関連構成Ａ、より具体的には第１の発光手段１、第２の受光手段２、およびガスサンプルを通じて第１および第２の手段間の光学測定距離を形成および定義する第３の手段３、ならびに関連算出回路３０、１２５を有する制御ユニット２０、１２３を利用する構成に関する。ユニットＥ１は複数の第１の電気コネクタ装置または手段４、４ａ、４ｂに割り当てられ、コネクタ装置はユニット用のプリント回路カードまたはプリント配線板などのキャリアＢ１に関連する他の電気コネクタ装置または手段４、４ａ、４ｂへの電気的接続を可能にするため、ユニットの第１の表面部５に沿って適合および配分される。第１の手段１および第２の手段２は、第１の表面部１ａおよび第２の表面部２ａとして個別ユニットＥ１内で互いに密に関連している。個別ユニットＥ１は、小熱質量を提供するような形状と寸法を有する。メモリ回路１２４の全部または少なくとも一部、制御ユニット１２３の全部または少なくとも一部は、すべてのまたは選択された関連算出回路１２５とともに、個別ユニットＥ１に統合しており、個別ユニットと連携する内部配線１２１、１２２上で、選択された第１の電気コネクタ装置４、４ａ、４ｂと接続される。
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【課題】比較的迅速且つ簡単に赤外分光法によるフィールド測定を行うことを含む、従来技術の欠点の少なくとも一部を克服する赤外分光法による測定法と赤外分光計とを提供する。
【解決手段】一実施形態において、高分子含有表面の一分類方法が提供され、本方法は、一定のスペクトルの波長に亘り表面から反射された赤外エネルギーの一又は複数のスペクトルを収集するステップ、一又は複数の波長において多変量処理を実行するステップ、多変量処理の結果を、一又は複数のモデル材料表面から収集されたモデル材料赤外エネルギースペクトルに基づく一又は複数の所定の材料分類モデルと比較するステップであって、一又は複数のモデル材料表面の各々が既知の高分子材料組成を有しているステップ、並びに、一又は複数の波長における多変量処理の結果と、所定の材料分類モデルとの類似性に基づいて、高分子含有表面を適切な分類にソーティングするステップを含む。 （もっと読む）

【課題】ウェハ上の回折構造体の格子型パラメータを決める。
【解決手段】半導体ウェハ１２ａ上の回折構造体１２ｃからの回折の前に、必要な場合は、分光反射率計６０または分光エリプソメータ３４を使って構造体の下に位置する膜１２ｂの膜厚と屈折率とをまず測定する。そして、厳密なモデルを使って回折構造体１２ｃの強度またはエリプソメトリックなパラメータを計算する。次に、偏光放射線および広帯域放射線を用いた分光散乱計を使って回折構造体１２ｃを測定して回折構造体１２ｃの強度またはエリプソメトリックなパラメータを得る。これらパラメータと参照データベースを用いて格子型パラメータを決める。 （もっと読む）

【課題】経路変調によって信号を抽出する改良されたシステムを提供する。
【解決手段】システムが、電磁信号を受信機３０に送信するように構成された送信機１２を備えており、この受信機は、この電磁信号とこれと混合するための別の電磁信号を受信するように構成されている。送信機と受信機への信号の伝搬経路は、送信機に向かう電磁信号の第１の伝搬経路と、受信機に向かう別の電磁信号の第２の伝搬経路を備えている。送信機及び受信機に向かう信号の伝搬経路のいずれか又はそれぞれに沿って配置された装置は、それぞれの伝搬経路の長さを変えるように構成されている。そして、プロセッサは、送信された電磁信号の振幅及び位相を回復するように構成され、さらに受信された電磁信号の一連のサンプルを受信し、またこの一連のサンプルを離散フーリエ変換処理するように構成される。 （もっと読む）

【課題】複数の色素で多重染色された標本を撮像した標本画像を表示する際の視認性を向上させること。
【解決手段】本発明のある実施の形態において、高解像画像取得処理部４５３は、顕微鏡装置２に対する動作指示を行い、標本領域を部分毎に撮像した複数の標本領域区画画像を取得する。そして、高解像画像取得処理部４５３は、各標本領域区画画像を繋ぎ合せてＶＳ画像を生成する。色素量算出部４５５は、ＶＳ画像の画素毎に、対応する標本位置における染色色素毎の色素量を算出する。色素選択処理部４５６は、染色色素の中から表示対象色素を選択する。表示画像生成部４５７は、ＶＳ画像の各画素における表示対象色素の色素量をもとに、表示対象色素による標本Ｓの染色状態を表した表示画像を生成する。そして、ＶＳ画像表示処理部４５４は、生成した表示画像を表示部４３に表示する処理を行う。 （もっと読む）

【課題】組織に蓄積された蛍光物質を観察するための顕微鏡システムおよび顕微鏡検査方法を提供する。
【解決手段】顕微鏡システムは、可視光と蛍光との両方で同時に組織を観察することを可能にするフィルタ８４を含む。一連の先に記録された蛍光像を可視光像と重ねて観察することができる。一連の像の終了は自動的に決定され得る。熱保護フィルタが、このような一連の像の自動的に決定された終了時に照射システム６３のビーム路に挿入し得る。さらに、蛍光像は、そのコヒーレント蛍光部を同定するために分析され得る。コヒーレント部分の外周線の表示を生成し得、深さプロファイルデータは、コヒーレント部分からのみ得られ得る。蛍光を励起させるための照射光ビーム８１は、蛍光像のコントラストを向上させるために変調させ得る。 （もっと読む）

【課題】小型でかつ簡便なセンサ形状を有し、測定ガスの流量変化や温度変化などの外乱変化に対して安定して測定することができるようにした赤外線センサの製造方法及び赤外線センサを提供すること。
【解決手段】ウェハ１０を切り離して複数のセンサ素子１３を形成する第１のダイシング工程と、この第１のダイシング工程により切り離されたセンサ素子１３をリードフレーム１４に搭載し、ワイヤ１６とともに樹脂によりモールドされたセンサ素子１３とリードフレーム１４を個片化する第２のダイシング工程と、第１のダイシング工程の前段において、ンサ素子１３の受光面１３ａに光学フィルタ１２を形成するフィルタリング工程とを有し、センサ素子１３の受光面１３ａに光学フィルタ１２を直接一体的に形成する。 （もっと読む）

【課題】ウェハ上の回折構造体の格子型パラメータを決める。
【解決手段】半導体ウェハ１２ａ上の回折構造体１２ｃからの回折の前に、必要な場合は、分光反射率計６０または分光エリプソメータ３４を使って構造体の下に位置する膜１２ｂの膜厚と屈折率とをまず測定する。そして、厳密なモデルを使って回折構造体１２ｃの強度またはエリプソメトリックな特徴的パラメータを計算する。次に、偏光放射線および広帯域放射線を用いた分光散乱計を使って回折構造体１２ｃを測定して回折構造体１２ｃの強度またはエリプソメトリックな特徴的パラメータを得る。この特徴的パラメータをデータベース内の特徴的パラメータと適合させて構造体の格子型パラメータを判定する。 （もっと読む）

【課題】 連続的に塗布膜中の成分量を正確に測定することができる塗布膜中の成分量の測定方法を及び機能性フィルム製造方法を提供する。
【解決手段】 塗布膜２２から蒸発した気体を送風ファン２４及び吸引機２６により除去しながら、塗布膜２２に第一の光源１２と第二の光源１４から光照射をし、第一のセンサ１６と第二のセンサ１８により光吸収量を測定し、測定された光吸収量から塗布膜２２中の成分量を計算機２８により算出する。 （もっと読む）

【課題】複雑な表面構造を有する対象物の表面トポグラフィおよび／または他の特性を、走査干渉分光法を用いて測定する。
【解決手段】試験対象物の第１の表面箇所に対する走査干渉分光信号から導出可能な情報と試験対象物の複数のモデルに対応する情報とを比較することを含む方法であって、複数のモデルは、試験対象物に対する一連の特性によってパラメータ化される方法。複数のモデルに対応する情報は、試験対象物の各モデルに対応する走査干渉分光信号の変換分（例えば、フーリエ変換分）の少なくとも１つの振幅成分についての情報を含んでもよい。第２の側面では、モデルは固定された表面高さに対応するとともに、固定された表面高さとは異なる一連の特性によってパラメータ化されている。第３の側面では、比較は、走査干渉分光信号の系統的な影響を明確にすることを含む。 （もっと読む）

【課題】シース部材と測定対象との接触状態を安定に維持し、確実に測定対象に光波あるいは超音波を照射する。
【解決手段】ＯＣＴプローブ６００の挿入部６０２は、挿入部長手軸方向Ｙにおける摺動抵抗Ｒ１とし、測定対象Ｓに接触している挿入部長手軸方向Ｙに直交した断面外周の接線方向Ｘにおける摺動抵抗Ｒ２とした場合、Ｒ１＜Ｒ２の特性を満たす異方性摺動抵抗特性を有する異方性摺動抵抗部６１０が挿入部６０２の先端に設けられている。 （もっと読む）

【課題】基板上のタンパク質と他のタンパク質および／またはタンパク質以外の化合物との相互作用を解析する方法および装置の提供。
【解決手段】基板上にタンパク質を高密度で整列固定化したタンパク質アレイおよび分光光度計を含み、分光光度計を用いて前記タンパク質アレイに光を照射し、タンパク質アレイを透過した光を測定することによりアレイ上のタンパク質および／または固定化タンパク質と相互作用するタンパク質以外の他の化合物による通過光量の減少割合を測定し、タンパク質アレイ上のタンパク質および／またはタンパク質以外の他の化合物を検出・解析するシステムであって、タンパク質を固定する基板がモノリスゲルである、タンパク質アレイ上のタンパク質および／またはタンパク質以外の他の化合物を検出・解析するシステム。 （もっと読む）

本発明は、最大反射率ポイントを有するサンプルから、スペクトル光コヒーレンス断層映像法を用いて構造データを収集するための方法および装置に関する。この最大反射率ポイントは、走査された経路パターンを調整するのに使用する。
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【課題】万が一、逆火が発生した場合でも、使用者による安直な操作による装置使用継続を禁止し、安全性が確認された状態で使用できるようにする。
【解決手段】逆火発生検知部２３はフレーム燃焼中に逆火の発生を検知すると、所定の消火シーケンスに従って消火を行うとともに、逆火発生フラグを１にセットし、逆火回数カウント値をインクリメントする。点火ボタン２６が押されても逆火発生フラグが１であれば点火を許可しない。製造メーカにより安全性が確認された上で発行されたパスワードを操作部４１から入力すると、ＰＣ４のパスワード照合部４０は逆火回数カウント値を取得する。それに対応した参照パスワードと入力されたパスワードとが一致すれば、装置制御部２０の逆火発生フラグをリセットし、点火禁止状態を解除する。逆火回数カウント値が規定値以上になると参照パスワードが存在しないので、装置を製造メーカに預け点検修理を依頼することになる。 （もっと読む）

【課題】光沢計において、光源から出る検査光の光量を変化させた場合に、当該光量毎の光源の温度特性を考慮して光沢度を算出する。
【解決手段】被測定面Ｗに対して検査光Ｌ１を照射する光源２１１と、被測定面Ｗで反射される反射光Ｌ２を受光する光検出器２２３と、光源２１１の温度を検出する温度検出部２６と、光源２１１から出る検査光Ｌ１の光量を設定する光量設定信号に基づいて、検査光Ｌ１の光量を調整する光源制御部３０１と、光量設定値に対応する光源２１１の温度特性データ、温度検出部２６により得られた温度信号、及び光検出器２２３により得られた反射光Ｌ２の光量データに基づいて、被測定面Ｗの光沢度を算出する光沢度算出部３０２と、を具備する。 （もっと読む）