【課題】ｇ線及びｈ線に対する露光感度が高く、且つ、現像除去性に優れ、線幅にバラつきのない着色パターンを形成し得る着色硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）顔料と、（Ｂ）酸価が２５０〜３５０ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーと、（Ｃ）重合性化合物と、（Ｄ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、増感色素、及び連鎖移動剤を含む重合開始系と、を含有することを特徴とする着色硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジティブ型感光性樹脂組成物、ポジティブ型感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法、パターン形成方法によって得られるフォトレジストパターンを有する半導体素子を提供する。
【解決手段】ポジティブ型感光性樹脂組成物は、ポリアミド誘導体、感光性化合物、および少なくとも１つの低分子量の添加剤を含む。添加剤は、ポジティブ型感光性樹脂組成物を用いてパターン形成を行うときに、他の物性を低下させずに高解像度、高感度、および熱架橋後の厚さ変化を最小化する役割を実行することができる。さらに、添加剤は、パターン形成を行うときに、熱安定性が優れているだけでなく、熱架橋後のパターンの柔軟性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、一般式（ｂ１−１）で表される化合物を含む酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するレジスト組成物。
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【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、
前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（ｂ１−１１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。式（ｂ１−１１）中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち少なくとも１つは、置換基として下記一般式（Ｉ）で表される基を有する置換アリール基であり、式（Ｉ）中のＷは２価の連結基である。
［化１］
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【課題】 分散度が比較的狭い低分子量ノボラック型フェノール樹脂を添加剤として用いることにより、フォトレジストの原価を低減し、経済性を向上させることができるフォトレジスト用フェノール樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 下記ノボラック型フェノール樹脂添加剤を添加することを特徴とするフォトレジスト組成物。
オルソクレゾールを必須成分として含有し、ＧＰＣ測定により測定される分散度が１．５〜２．５の範囲内で、かつ重量平均分子量が５００〜３０００であることを特徴とするノボラック型フェノール樹脂をフォトレジスト用添加剤として用いることを特徴とするフォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】耐クラック性、パターニング性および耐熱性に優れる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】下記成分（Ａ）及び（Ｂ）を含有することを特徴とする感放射線性組成物。
（Ａ）下記一般式（１）で表される加水分解性シラン化合物、該加水分解性シラン化合物の加水分解物、及び該加水分解物の縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１種


［一般式（１）中、Ｒ^１は、炭素数１〜１２のアルキル基等である。Ｒ^２は、置換基を有してもよい炭素数２〜３０のアルキレン基等である。Ｘは加水分解性基である。Ａは４価の有機基を示す。ｐは各々独立に０〜２の整数であり、ｑは各々独立に１〜３の整数であり、かつｐ＋ｑ＝３である。］
（Ｂ）光酸発生剤 （もっと読む）

【課題】感度、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー（Ｂ）式（１）の化合物を含む光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物。
【化１】


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^３は水素原子又は一価の有機基を示し、Ｒ^４は置換又は無置換の環式炭化水素基を示し、−（ＸＯ）−及び−（ＯＹ）−は、（ポリ）オキシエチレン鎖、（ポリ）オキシプロピレン鎖、又はエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとのブロック共重合鎖若しくはランダム共重合鎖を示し、−（ＸＯ）−及び−（ＯＹ）−に含まれるオキシエチレン基の総数は２〜４０であり、オキシプロピレン基の総数は０〜４０である。］ （もっと読む）

【課題】基板と着色パターンとの密着性を向上させ、パターン形成時の残渣の発生を抑制しうる固体撮像素子用の下塗り層の形成に有用な透明硬化性組成物、それを用いた固体撮像素子用硬化膜、及び、基板と着色パターンとの密着性に優れ、高解像度の着色パターンを有するカラーフィルタを備えた固体撮像素子を提供する。
【解決手段】分子内にアミド基と重合性基を有するポリマーを含有する固体撮像素子用透明硬化性組成物である。この固体撮像素子用透明硬化性組成物を基材上に塗布し、エネルギーを付与して硬化させてなる固体撮像素子用硬化膜が、カラーフィルタにおいて、下塗り層として有用である。 （もっと読む）

【課題】分子量分布が狭い重合体の製造方法を提供することを目的とし、レジスト組成物に用いた場合に重合体の現像液への溶解性並びにレジスト組成物の解像度および焦点深度に優れた性能を発揮できるようにする。
【解決手段】反応開始前の反応容器中の、ヒドロキシ基含有エステルのみからなる重合溶媒（Ａ）に、ヒドロキシ基含有エステルの含有量が４０質量％以下の重合溶媒（Ｂ）、単量体、および重合触媒を供給し、溶液ラジカル重合を行うレジスト用重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】良好な画像解像度、熱安定性、耐薬品及び溶媒溶解性を有し、高感度でかつプレッシャークッカー試験後の基板への密着性が低下しない感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】光カチオン重合開始剤（Ａ）と１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂（Ｂ）を含有してなるＭＥＭＳ用感光性樹脂組成物であって、光カチオン重合開始剤（Ａ）が下記式（１）で表される。
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【課題】重合性化合物が短時間で効率的に重合し得る高感度な感光性組成物の提供。
【解決手段】バインダーと、重合性化合物と、熱硬化性化合物と、光重合開始剤と、増感剤とを少なくとも含有してなり、光重合開始剤が下記一般式（Ａ−１）で表される化合物であり、増感剤が下記一般式（Ｂ−１）で表される化合物である感光性組成物を提供する。


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【課題】本発明の目的は、低ｐＨの現像液での現像処理でも、感度、現像性（画像形成能力、現像開始時間）に優れた、従って、作業性、安全性、環境適性にも優れた、ポジ型平版印刷版材料およびポジ型平版印刷版の画像形成方法を提供することにある。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、少なくとも（Ａ）重量平均分子量１０００以上のフェノール性水酸基を有する高分子結合材、（Ｂ）光熱変換材、及び（Ｃ）２５℃の純水に１質量％以上溶解する水溶性化合物を含有してなる感光層を設けてなるポジ型平版印刷版材料であって、全感光層組成分中に該（Ｃ）の水溶性化合物を２０質量％以上含有し、且つ（Ｃ）／（Ａ）≧１であることを特徴とするポジ型平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高透明性の特性を有し、かつ高感度で高解像度のパターン形成が可能なポジ型感光性組成物の提供、および、上記のポジ型感光性組成物から形成されたＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、コアやクラッド材などの硬化膜、およびその硬化膜を有する表示素子、半導体素子、固体撮像素子、光導波路などの素子の提供。
【解決手段】（ａ）下記一般式（１）で表されるオルガノシランの１種以上と下記一般式（２）で表されるオルガノシランの１種以上を加水分解し縮合させることによって合成されるポリシロキサンと（ｂ）ナフトキノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤を含有するポジ型感光性組成物である。


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【課題】波長３６５ｎｍ近傍の光源に対する感度が高く、保存安定性に優れ、加熱経時による膜物性低下を抑制しうる硬化膜を形成可能な光重合性組成物を提供することにある。
【解決手段】（Ａ）酢酸エチル中での波長３００ｎｍ以上４００ｎｍ未満におけるλｍａｘのモル吸光係数が２００００以上であり、かつ、(λｍａｘ＋２０ｎｍ)におけるモル吸光係数が４００以下のオキシム重合開始剤と、（Ｂ）重合性化合物と、を含有する重合性組成物。 （もっと読む）

【課題】重合性化合物が短時間で効率的に重合し得る高感度かつ現像性が良好な感光性組成物等の提供。
【解決手段】バインダーと、重合性化合物と、熱硬化性化合物と、光重合開始剤と、増感剤とを含有し、重合性化合物がメタクリレート化合物から選ばれる少なくとも１種含有し、光重合開始剤が一般式（Ａ−１）で表される化合物、増感剤が一般式（Ｂ−１）で表される化合物である感光性組成物。


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【課題】ＮＭＰ耐性、ＩＴＯ蒸着適性、液保存安定性が良好で、コントラスト、感度高い硬化性樹脂組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタを提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）光重合性化合物、（Ｄ）ヘキサアリールビイミダゾール系重合開始剤、（Ｅ）オキシム系開始剤並びにトリアジン系開始剤から選択される１種以上、及び（Ｆ）４官能以上の多官能エポキシ化合物を含み、全固形分に対する該（Ｆ）多官能エポキシ化合物の含有量が２〜２０質量％の範囲であり、且つ、該（Ａ）着色剤の含有量が２５〜５０質量％の範囲である硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度で高い保存安定性を有する厚膜用ネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される光酸発生剤（Ａ）、ＡＤＲ（アルカリ溶解速度）が１０００Å／ｓ以上であるフェノール樹脂（Ｂ）及び一分子中にエポキシ基を二個以上有するエポキシ樹脂（Ｃ）を含有してなる厚膜用ネガ型レジスト組成物を用いて、厚膜の積層体、パターン等を形成する。
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【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、下記一般式（ｃ−１）で表される含フッ素化合物（Ｃ）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物（式中、Ｒ^１は有機基であって、重合性基を含んでいてもよく；Ｘは酸解離性部位を有する二価の有機基であり；Ｒ^２はフッ素原子を有する有機基である。）；かかる液浸露光用レジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を浸漬露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。
［化１］
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【課題】フォトレジストによるリソグラフィー技術は、非常に高い経時安定性を得る必要がある。また、基板に依存しない良好なパターンプロファイルや高解像度が得られるものでなければならない。本発明はこれらの課題を同時に解決し得る化学増幅型ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターンの形成方法、さらにフォトマスクブランクの製造方法を提供する。
【解決手段】化学増幅型レジスト化合物であって、下記一般式（１）等で表されるモノマー単位を１種あるいは２種以上含有し、ポリマーの水酸基の一部がアセタール基により保護されたアルカリ不溶性ポリマーであって、酸触媒によって脱保護された時にアルカリ可溶性となるベースポリマー、スルホネートアニオンを含有するトリアリールスルホニウム塩、塩基性成分、有機溶剤を主要成分として含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
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【課題】露光感度が高く、露光後、加熱処理に供した際に、シワやムラのない着色膜が得られる着色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】溶剤、下記（Ｂ−１）群より選択される１種と、下記（Ｂ−２）群より選択される１種と、を含む顔料、バインダー樹脂、光重合性化合物、及び、下記（Ｅ−１）群より選択される１種と、下記（Ｅ−２）群より選択される１種と、を、（Ｅ−１）群：（Ｅ−２）群＝８０：２０〜４０：６０（質量比）の範囲で含む光重合開始剤を含有する着色感光性樹脂組成物。
（Ｂ−１）群：ジケトピロロピロール系顔料、アントラキノン系顔料等からなる群
（Ｂ−２）群：アントラキノン系顔料、ジスアゾ系顔料、イソインドリン系顔料等からなる群
（Ｅ−１）群：トリアジン系光重合開始剤、及びオキシム系光重合開始剤からなる群
（Ｅ−２）群：ヘキサアリールビイミダゾール系光重合開始剤、及びアセトフェノン系光重合開始剤からなる群 （もっと読む）