【課題】ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_２エキシマレーザー、ＥＵＶ又は電子線等によるレジスト膜のリソグラフィーにおいて、解像性を損なわずに感度を向上させることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供できる。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、およびベンゾジオキソールまたはその誘導体（Ｇ）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高屈折率な光デバイスを高感度に得ることが可能な２光子吸収重合性組成物を提供すること並びに、上記の２光子吸収重合性組成物を用いた光リソグラフィーによって得られる光デバイス、およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】（ａ）重合性化合物、（ｂ）ジチオカルバメート基含有高分子化合物及び（ｃ）２光子吸収化合物、を含有することを特徴とする２光子吸収重合性組成物、該組成物を用いた光硬化方法、並びに該組成物を用いた光デバイス構造体。 （もっと読む）

【課題】高感度、高耐熱性、高い透明性と、高い耐薬品性を併せ持つポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ポリシロキサン、（ｂ）ナフトキノンジアジド化合物、（ｃ）４級アンモニウム塩、（ｄ）溶剤を含有するポジ型感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザ露光により高感度で硬化するとともに、プレヒート処理における加熱ラチチュードが広く、低温でプレヒート処理した場合においても、画像形成可能であるとともに、非画像部における残膜の発生が抑制されたネガ型平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物、（Ｂ）下記一般式（Ｉ）で示される架橋剤、（Ｃ）バインダーポリマー、及び、（Ｄ）赤外線吸収剤を含有する画像記録層を備えるネガ型平版印刷版原版である。下記式中、Ｌ^１は、総原子数５０個以下の連結基を表し、Ｒ^１，Ｒ^２はそれぞれ炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は、ニトロ基を表し、Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ水素原子又は炭化水素基を表す。
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【課題】赤外線レーザ露光により高感度で硬化するとともに、プレヒート処理における加熱ラチチュードが広く、低温でプレヒート処理した場合においても、支持体との密着性、画像部の強度に優れ、耐刷性が良好な画像部を形成しうるとともに、非画像部における残膜の発生が抑制されたネガ型平版印刷版原版及びその製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、一般式（Ｉ）で示される化合物を含有する中間層と、（Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物、（Ｂ）架橋剤、（Ｃ）バインダーポリマー、及び、（Ｄ）赤外線吸収剤を含有する画像記録層と、を順次備えるネガ型平版印刷版原版。下記一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数１〜１０のｎ価の炭化水素基を表す。Ｌ^１、Ｌ^２はそれぞれ独立に炭素数１〜６の２価の炭化水素基を表す。Ｍはそれぞれ独立に水素原子、金属原子又はアンモニウム基を表す。ｎは１〜５の整数を表す。
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【課題】電子線、Ｘ線、あるいはＥＵＶ光によるパターニングにおいて、ラインエッジラフネス低減とともに、高感度、高解像度、パターン形状が良好であるポジ型レジスト組成物、及び、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ラクトン構造を有するスルホニウム塩化合物を、ポジ型レジスト組成物中の全固形分に対し、２１質量％含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＰＧＭＥＡ等のエステル溶媒に対する高い溶解性に加えて、アルカリ溶媒への溶解性を有しているとともに、安価な原料のみで簡便に製造できるフラーレン誘導体並びにその溶液、及びその膜を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表わされる
ことを特徴とするフラーレン誘導体。



（式（Ｉ）において、
Ｒ^１は１以上３以下の水酸基を含み、且つ水酸基以外の置換基を有していてもよい炭素数６〜１８の芳香族性を有する炭化水素基を表し、
ａは１以上１５以下のＲ^１の平均付加数を表し、
ｂは１以上１５以下のＨ（水素原子）の平均付加数を表し、
丸で示される構造はフラーレン骨格を表す。） （もっと読む）

【課題】レジスト膜を形成する工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度、特に半導体レーザーを照射源とした最大発光波長が４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲内にある活性エネルギー線に対して高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）


で表される構造単位を有するビニル系重合体、（Ｂ）特定の構造で表される光酸発生剤、及び（Ｃ）特定の構造で表される増感色素を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜を形成する工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度、特に半導体レーザーを照射源とした最大発光波長が４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲内にある活性エネルギー線に対して高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）


で表される構造単位を有するビニル系重合体、（Ｂ）特定の構造で表される光酸発生剤、及び（Ｃ）特定の構造で表される増感色素を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザ露光により高感度で硬化するとともに、プレヒート処理における加熱ラチチュードが広く、低温でプレヒート処理した場合においても、耐刷性に優れた画像が形成でき、且つ非画像部における残膜の発生が抑制されたネガ型平版印刷版原版及びその製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物、（Ｂ−１）下記一般式（Ｉ）で表される部分構造を有し、分子量が２０００以下である架橋剤、（Ｂ−２）レゾール樹脂、（Ｃ）バインダーポリマー、及び（Ｄ）赤外線吸収剤を含有する画像記録層を有することを特徴とするネガ型平版印刷版原版。一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数１〜２０の炭化水素基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表し、Ｒ^２は、水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、ｍ_１は、１〜３の整数を表し、ｎ_１は、０〜３の整数を表し、ｎ_２は、１〜３の整数を表す。
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【課題】 感度、解像度及びレジストの剥離特性に特に優れたレジストパターンを得る事ができる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）で示される構造単位の共重合組成からなるバインダーポリマー、
【化１】


（ここでＲ^１はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^２はそれぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基又はアルコキシ基、ＯＨ基、ハロゲンを表し、Ｒ_３はラジカル重合性不飽和二重結合含有の置換基を示し、ｍは０〜５の整数である。）
（Ｂ）光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の形成工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度、特に半導体レーザーを照射源とした最大発光波長が４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲内にある活性エネルギー線に対して高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）［式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子または直鎖もしくは分岐鎖の炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^２は置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基または置換もしくは非置換のアラルキル基を表す。］で表される構造単位を有するビニル系重合体、（Ｂ）特定の構造で表される光酸発生剤、及び（Ｃ）特定の構造で表される増感色素を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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【課題】良好な感度、パターン形状を示し、残渣が少なく、かつ未露光部の残膜の少ないネガ型レジスト組成物、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）ラジカル重合性基とアルカリ可溶性基とを有する化合物、および、（Ｃ）光ラジカル発生剤、を含有する、ネガ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】感度が良好で、良好なパターン形状の微細パターンを形成可能で、未露光部の残膜の少ないネガ型レジスト組成物、該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）少なくとも１種のカチオン重合性基を持つ化合物、（Ｃ）光カチオン重合開始剤、とを含有するレジスト組成物であって、該レジスト組成物中に異なる複数のカチオン重合性基が存在することを特徴とする、ネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 水系現像が可能で、良好なパターン形状が得られ、耐熱性、加水分解耐性、接着性等の諸物性と、感光性、難燃性、十分な機械強度、低そり及び柔軟性とを両立させることが可能であり、電子機器における電子部品の小型化、軽量化に十分に対応できる配線基板の製造に好適に用いることができる新規鎖状ホスファゼン化合物と、該ホスファゼン化合物を用いてなる感光性樹脂組成物と、その代表的な利用方法とを提供することにある。
【解決手段】 少なくとも、側鎖に、アリール基、炭素−炭素二重結合及びカルボキシル基を有する鎖状ホスファゼン化合物を用いることにより、上記課題を解決し得る。 （もっと読む）

【課題】透明性、硬度、耐熱性等の被膜性能と感度、解像度等のレジスト性能との両立を図ることができるアルカリ現像性ネガ型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ現像性ネガ型樹脂組成物は、下記の成分Ａ、成分Ｂ、成分Ｃ及び成分Ｄを含有し、カルボキシル当量(ｇ／モル)／エポキシ当量（ｇ／モル）の比ａ／ｅ＝０．５〜１．５、（成分Ａ＋成分Ｃ）／成分Ｂの質量比＝０．７〜５．６及び成分Ｄ／（成分Ａ＋成分Ｂ＋成分Ｃ）の質量比＝０．０１〜０.１２である。成分Ａ：イタコン酸モノエステル由来の構成単位（ａ１）及びビニル単量体又はビニルエステル単量体由来の構成単位（ａ２）より構成され、質量平均分子量が３，０００〜３００，０００及び酸価が５０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであるアルカリ可溶性共重合体。成分Ｂ：光重合性多官能（メタ）アクリレート。成分Ｃ：エポキシ樹脂。成分Ｄ：光重合開始剤。 （もっと読む）

【課題】感度が良好で、良好なパターン形状の微細パターンを形成可能なネガ型レジスト組成物、該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）カチオン重合性基を持つ化合物、（Ｃ）光カチオン重合開始剤、を含有し、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が下記一般式（ＳＦ）で表されるスルホンアミド構造を有する繰り返し単位、を含む樹脂であることを特徴とする、ネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。式（ＳＦ）中、＊は結合手を表し、Ｒ^SFは少なくとも１つのフッ素原子を有する有機基を表す。
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【課題】感度が良好で、良好なパターン形状の微細パターンを形成可能なネガ型レジスト組成物、該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）ラジカル重合性基を持つ化合物、（Ｃ）光ラジカル重合開始剤、を含有し、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が下記一般式（ＳＦ）で表されるスルホンアミド構造を有する繰り返し単位、を含む樹脂であることを特徴とする、ネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。式（ＳＦ）中、＊は結合手を表し、Ｒ^SFは少なくとも１つのフッ素原子を有する有機基を表す。
（もっと読む）

【課題】感度、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性がいずれも良好な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー、式（１）の化合物を含む（Ｂ）光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物。
【化１】


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^３及びＲ^４のうち少なくとも１つ並びにＲ^５〜Ｒ^１２のうち少なくとも１つはアルキル基、シクロアルキル基又はフェニル基を示し、−（ＡＯ）−及び−（ＯＢ）−は（ポリ）オキシエチレン鎖又はエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合鎖を示し、オキシエチレン基の総数は２〜４０であり、オキシプロピレン基の総数は０〜４０である。］ （もっと読む）

【課題】微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物等を提供する。
【解決手段】本感放射線性組成物は、酸解離性基含有重合体（Ａ）と、酸発生剤（Ｂ）とを含有するものであって、前記重合体（Ａ）として、下式で表される繰り返し単位を含む重合体を含有する。


〔Ｘは置換若しくは非置換のメチレン基、炭素数２〜２５の置換若しくは非置換の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基、又は炭素数３〜２５の脂環式炭化水素基。〕 （もっと読む）