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Fターム[2H025AA01]の内容

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Fターム[2H025AA01]に分類される特許

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【課題】着色剤を高濃度に含有する場合であっても、高感度で硬化し、未硬化部の良好な現像性を維持しつつ、支持体との優れた密着性と耐現像性に優れた硬化部を形成しうる、パターン形成性に優れた硬化性組成物、該硬化性組成物を用いて着色パターンを形成してなる解像力に優れたカラーフィルタ、それを高い生産性で製造しうる製造方法高及び解像度の着色パターンを有するカラーフィルタを備えた固体撮像素子を提供する。
【解決手段】(A)分子内に2つ以上の重合性基と2つ以上の水酸基とを有する重合性化合物、(B)光重合開始剤、及び、(C)着色剤、を含有する硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】高感度化とネガパターン化が可能となり、更に高硬度及び耐熱性と保存性とを両立することができる感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法及びプリント基板の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び下記一般式(I)で表される化合物、好ましくは熱架橋剤を含有してなる感光性組成物である。


XはO、S又はNR(Rは水素原子、アルキル基又はアシル基を表す)を表す。nは0又は1の整数を表す。R、R、R、R、R、R、R及びRは、それぞれ独立に水素原子又は中性の一価の置換基を表す。なお、R、R、R及びRは、それぞれ隣接する2つが互いに連結して環を形成していてもよい。R又はRとR又はRは互いに連結して脂肪族環を形成してもよいが、芳香族環を形成することはない。 (もっと読む)


【課題】解像性に優れ、低コストで、塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体の構造上適用可能な選択肢の範囲が広い感光性樹脂組成物及びその様な感光性樹脂組成物に利用可能な塩基発生剤を提供する。
【解決手段】塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体、及び、特定の構造を有し、電磁波の照射と加熱により、塩基を発生する塩基発生剤を含有することを特徴とする、感光性樹脂組成物、並びに特定の構造を有し、電磁波の照射と加熱により、塩基を発生することを特徴とする、塩基発生剤。 (もっと読む)


【課題】 アルカリ現像性及び感度が良好であり、かつ、その色純度に優れたカラーフィルター形成に使用される感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
カルボキシル基を有する親水性樹脂(A)、多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)、着色粒子(C)及び光ラジカル重合開始剤(D)を含有する感光性樹脂組成物であって、前記カルボキシル基の少なくとも一部が、超強塩基性化合物(E)で中和されていることを特徴とするアルカリ現像可能なカラーフィルター形成用感光性樹脂組成物(Q)である。 (もっと読む)


【課題】クロム化合物を含まず、紫外線露光及び希アルカリ水溶液による現像が可能であって、高感度であり、しかも熱安定性及び現像管理幅が良好で、塗膜が優れた性能を示すソルダーレジストインクとして好適な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(A)三価の有機リン化合物とナフテン酸ジルコニウム及びオクチル酸ジルコニウムの少なくとも1種との存在下で、多官能エポキシ化合物と不飽和一塩基酸とを反応させ、更に多塩基酸無水物を反応させることにより生成したカルボキシル基に不飽和二重結合を有するモノエポキシ化合物及び水溶性モノエポキシ化合物を反応させて得られる感光性樹脂、(B)エポキシ樹脂、(C)光重合開始剤並びに(D)反応性希釈剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】感度、解像性、ラフネス特性、パターン形状及びアウトガス特性に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】一般式(I)で表される化合物を含有する感活性光線性樹脂組成物。


式中、Arは、芳香族環を表し、−(A−B)基以外に更に置換基を有してもよい。nは、1以上の整数を表す。Aは、単結合、アルキレン基、−O−、−S−、−C(=O)−、−S(=O)―、−S(=O)−、及び−OS(=O)−から選択されるいずれか、あるいは2以上の組み合わせ(但し、−C(=O)O−を除く)を表す。Bは、3級若しくは4級炭素原子を含む、炭素原子数が4以上の炭化水素基を有する基を表す。nが2以上のとき、複数の−(A−B)基は同一でも異なっていてもよい。Mは、有機オニウムイオンを表す。 (もっと読む)


【課題】
光硬化性樹脂の光硬化において良好な光硬化性を発現する光塩基発生剤、及びそれを用いた光硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
下記式(1)で表される2−アミノトロポン誘導体を含有する光塩基発生剤。
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【課題】感光性樹脂として必要なタックフリー性、現像性および硬化性が良好で、かつ、高度な可撓性を有する硬化物を与える感光性樹脂を提供する。
【解決手段】1分子中に2個以上のエポキシ基と1個以上の2級ヒドロキシル基とを有するエポキシ樹脂(A)の2級ヒドロキシル基に対し、1分子中に1個以上のイソシアネート基と1個以上のラジカル重合性二重結合とを有する化合物(B)を反応させる工程(1)、工程(1)の反応生成物であるエポキシ樹脂(A’)のエポキシ基に対し、1分子中に、エポキシ基と反応し得る官能基を1個以上と、1個以上の1級ヒドロキシル基とを有する化合物(C)を反応させる工程(2)、工程(2)の反応生成物に対し、多塩基酸無水物(D)を反応させる工程(3)をこの順に含む製造方法により得られる感光性樹脂である。 (もっと読む)


【課題】ArFエキシマレーザー光等に対して高感度で、発生する酸(光発生酸)の酸性度が十分高く、かつレジスト被膜中での拡散長が適度に短く、またマスクパターンの疎密度への依存性が小さい新規な光酸発生剤、当該光酸発生剤を構成する新規なスルホン酸塩、当該光酸発生剤から発生するスルホン酸、当該光酸発生剤を合成する原料ないし中間体として有用なスルホン酸誘導体、並びに当該スルホン酸塩を製造するための方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(2)で表される重合性含フッ素スルホン酸オニウム塩およびこれを重合させた重合体。
【化】


(式中、ZおよびRは前記一般式(1)におけるZおよびRと同義である。Q+は、スルホニウムカチオンまたはヨードニウムカチオンを表す。) (もっと読む)


【課題】 はく離片を細分化させる効果を有し、また感度、解像度・密着性、さらに、耐めっき性及びスカム分散性に優れる感光性樹脂組成物、この組成物を用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供する。
【解決手段】 (A)バインダーポリマーの成分(重合性単量体)として、(1)メタクリル酸を有し、かつ、その含有量が18〜23質量%であり、(2)アクリル酸エチル及びアクリル酸ブチルをいずれも有し、(3)スチレン及びその他、芳香族系化合物(重合性単量体)を含まないことを特徴とし、この(A)バインダーポリマーの成分に、さらに(B)エチレン性不飽和光重合性モノマ、(C)光重合開始剤及び増感剤を含有してなる感光性樹脂組成物、この組成物を用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法。 (もっと読む)


【課題】黒色を濃くしても深部の光硬化性を維持することができる黒色ソルダーレジスト組成物を提供する。
【解決手段】カルボキシル基含有樹脂(A)と、光重合開始剤(B)と、希釈剤(C)と、1分子中に複数のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物(D)と、着色剤(E)とを具備し、この着色剤(E)が、黄色着色剤と紫色着色剤、黄色着色剤と青色着色剤と赤色着色剤、緑色着色剤と紫色着色剤、及び緑色着色剤と赤色着色剤の群から選択されたいずれかの組合せを含むことにより黒色化することを特徴とする黒色ソルダーレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】エネルギー線の照射により活性なラジカルを効率よく発生する高感度な重合性組成物を提供する。更には、硬化速度が極めて速く、かつ非常に鮮明なパターン露光あるいは直接描画に好適に用いられ、基板との密着性に非常に優れた、フォトレジスト材料に好適に用いられるネガ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】特定のオキシムエステル系ラジカル重合開始剤(A)、ラジカル重合性化合物(B)、およびアルカリ可溶性樹脂を含んでなる重合性組成物。 (もっと読む)


【課題】高感度で硬化し、未硬化部の除去性に優れ、良好なパターン形成性を有する光硬化性組成物、及びカラーフィルタ用光硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】(A)下記一般式(1)で表される化合物、(B)光重合開始剤を含有することを特徴とする光硬化性組成物〔一般式(1)中、Zは酸基を有する2価の連結基を表し、X及びXは各々独立に置換基を有していてもよい2価の連結基を表し、R及びRは各々独立に水素原子又はメチル基を表す。〕。
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【課題】YAGレーザーを用いて、カラーフィルター用青色画素が得られるYAGレーザーで露光硬化する高感度のレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】クリアレジスト(a)と、青色系顔料(b)と、フッ素系界面活性剤(c)と、式(1)、(2)、(3)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物(z)と活性エネルギー線光重合開始剤とを含有するYAGレーザー重合開始剤(d)とを含有することを特徴とするYAGレーザーで硬化するブルーレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】遮光材料を大量に含有する場合であっても露光により高感度で硬化し、且つ保存安定性及びセーフライト適性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、高解像度で画像形成が可能であり、画像エッジ部の直線性の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、(A)下記一般式(I)で表される増感色素と、(B)重合開始剤と、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物と、(D)バインダーポリマーと、(E)遮光材料と、を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。一般式(I)中、Xは、窒素原子又は−C(R)−を表し、R、R、R、R、R、R、R及びRは、それぞれ独立して、水素原子又は一価の置換基を表す。但し、R〜Rのうち隣接する2つ、RとR、RとRのうちの1又は2以上の組み合せで結合して環を形成していてもよい。
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【課題】感度、解像性、密着性及びレジスト形状に優れ、且つ剥離特性を十分に満足するレジストパターンを形成し得る感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】(A)アルカリ可溶性基含有バインダーポリマー、(B)光重合性化合物、及び(C)光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物であって、水晶振動子上に形成された前記感光性樹脂組成物の硬化膜を、25℃、1質量%炭酸ナトリウム水溶液に浸漬し、浸漬直後の水晶振動子マイクロバランス(QCM)の指示値を0Hzとしたとき、浸漬後60秒における振動数変化量が、硬化膜の膜厚1μmあたり−80Hz以上−20Hz以下である、感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】高顔料濃度条件化においても、微細分散性および分散安定性が良好で、感度が高く、且つ現像性が良好な着色硬化性組成物を提供し、前記着色硬化性組成物を使用することによって基板密着性に優れ、パターン形状が良好で、しかもコントラストや色ムラ等の色特性が良好なカラーフィルタ、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】(A)主鎖にアミノ基を有する分散樹脂、(B)顔料、(C)光重合開始剤、(D)重合性化合物、(E)溶剤、及び(F)一般式(1)で表される繰り返し単位を含むアルカリ可溶性樹脂、を含有する着色硬化性組成物。
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【課題】 良好な感度・解像度を有し、高耐熱性で高残膜性をもち、その他特性についても汎用のものより劣ることのないフォトレジスト用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 フェノール類とアルデヒド類とを酸触媒の存在下、110−220℃の温度下で反応して得られるハイオルソノボラック型フェノール樹脂とポリアミドフェノール樹脂、ナフトキノンジアジド誘導体、溶媒を含有することを特徴とするフォトレジスト用樹脂組成物であって、ハイオルソノボラック型フェノール樹脂とポリアミドフェノール樹脂の比率(wt)が95:5から50:50であり、フェノール類がメタクレゾールとパラクレゾールの混合物であり、メタクレゾールとパラクレゾールの比率が60:40から30:70であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】超微細領域での、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する電子線、X線又はEUV光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定のオキシムスルホネート構造を有する繰り返し単位及び酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を有する繰り返し単位を有する樹脂を含有することを特徴とする電子線、X線又はEUV光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】短波長をカットした光源を使用した場合であっても高感度であり、例えば1,000J/m以下の露光量でも十分なスペーサー形状が得られ、弾性回復性、ラビング耐性、透明基板との密着性、解像性等にも優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 上記感放射線性樹脂組成物は、〔A〕(a1)不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも1種と、(a2)前記(a1)以外の不飽和化合物の共重合体、〔B〕重合性不飽和化合物、ならびに〔C〕下記化合物No.1に代表される特定のオキシムエステルを含有する。
【化1】
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