【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の構造を有する酸分解性の繰り返し単位を有し、酸の作用によりネガ現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】樹脂パターンの基板への密着性がより向上した感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物を用いて形成されたカラーフィルター、及び当該カラーフィルターを有する液晶表示ディスプレイを提供する。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、ブロックイソシアネート化合物から誘導される構成単位を有するポリマー（ａ）と、光重合性モノマー（ｂ）と、光重合開始剤（ｃ）と、を含有する。上記ブロックイソシアネート化合物は、ラクタム系、オキシム系、アルコール系、又はフェノール系ブロック基によりブロック化されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高感度及び高解像度のフォトレジスト材料を提供する。
【解決手段】カリックスレゾルシナレン化合物と酸解離性溶解抑制基を有する化合物とを１〜３種の塩基性有機化合物を縮合剤として縮合し下記式（４）で表される化合物を合成し、これを高感度及び高解像度のフォトレジスト組成物に使用する。
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【課題】感度、解像度、密着性、レジスト形状、硬化後の剥離特性及びスラッジ除去性がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、（Ｃ）ヘキサアリールビイミダゾール系化合物を含む光重合開始剤及び（Ｄ）下記一般式（４）で表される化合物を含む増感色素を含有する感光性樹脂組成物。
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【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】側鎖に、連結基を介してその環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を有するエステル基を有する（メタ）アクリレート構造で表される構成単位（ａ０−１）、側鎖に、酸解離性基を有するエステル基と、連結基を介したエステルを縦に連結した（メタ）アクリレート構造で表される構成単位（ａ０−２）、および側鎖に酸解離性基を有する（メタ）アクリレート構造で表される構成単位（ａ１−０−１）を有し、全構成単位に対し、構成単位（ａ０−１）の割合は１０〜４０モル％であり、構成単位（ａ０−２）の割合は５〜２０モル％であり、構成単位（ａ１−０−１）の割合は１０〜５５モル％である高分子化合物（Ａ１）。 （もっと読む）

【課題】放射線に対する透明性が高く、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れる。
【解決手段】アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって、下記式（１）で表される酸解離性基を有する繰り返し単位と、下記式（２）で表されるラクトン構造を有する繰り返し単位との２成分のみからなる共重合体である酸の作用によりアルカリ易溶性となる樹脂成分と、放射線により酸を発生する酸発生成分とを含有するポジ型レジスト組成物。
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【課題】より高感度でマスク忠実性の高い厚膜用化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物と、当該フォトレジスト組成物を用いた厚膜レジストパターンの製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、厚膜フォトレジスト層を形成するために用いられる厚膜用化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物であって、電磁波または粒子線を含む放射線照射により酸を発生する酸発生剤（Ａ）と、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂（Ｂ）と、を含有する。酸発生剤（Ａ）は、カチオン成分としてジフェニル［４−（フェニルチオ）フェニル］スルホニウムカチオンと、アニオン成分としてテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートアニオンとを含む。 （もっと読む）

【課題】基板の凸凹を気泡なくラミネートさせ、感度向上効果を有する感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法、及び該レジストパターンの用途を提供すること。
【解決手段】支持体上に、感光性樹脂層、保護層を順次積層してなる感光性樹脂積層体であって、該保護層は、感光性樹脂層と接する面の平均粗さ（Ｒａ）が０．５μｍ以上であり、該感光性樹脂層は、（ａ）カルボキシル基含有の熱可塑性共重合体２０〜９０質量％、（ｂ）分子内に少なくとも一つの重合可能な末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー５〜７５質量％、及び（ｃ）光重合開始剤０．０１〜３０質量％を含むドライフィルムレジストであり、そして該（ｃ）光重合開始剤としてヘキサアリールビスイミダゾール誘導体を含むことを特徴とする感光性樹脂積層体。 （もっと読む）

【課題】感度、経時安定性、解像性、ラフネス特性、パターン形状及びアウトガス特性に優れたレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）アリール環上に電子供与性基を合計３つ以上有するジアリールヨードニウム塩を含有することを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、および良好なラインエッジラフネスを同時に満足するパターンを形成可能な感活性光線または感放射線性樹脂組成物、それを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ水溶液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）製膜により膜表面に偏在する化合物、を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】特定の波長のレーザ露光方式において、高感度であっても、断面形状に優れたフィルタセグメントおよびブラックマトリックスを形成可能な着色組成物、それを用いたカラーフィルタの製造方法、およびその方法により製造されたカラーフィルタの提供。
【解決手段】基板上に着色組成物を用いて着色塗膜を形成する工程と、前記着色塗膜のフィルタセグメントまたはブラックマトリックスとなる部分に、波長３４０〜３８０ｎｍのレーザを照射して硬化させる工程と、前記着色塗膜の未硬化部分を除去してフィルタセグメントまたはブラックマトリックスを形成する工程とを具備するカラーフィルタの製造方法に用いられる着色組成物であって、顔料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー、光重合開始剤および重合禁止剤を含有する着色組成物。 （もっと読む）

【課題】
従来のアクリレートモノマーでは得られない高いバランスで基板への密着性、解像性、現像性、感度を満たすこと。
【解決手段】
水酸基価７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のジペンタエリスリトールのアクリレート化物をカラーフィルターおよびブラックマトリクス用の感光性組成物に使用する。 （もっと読む）

【課題】高顔料濃度になっても、現像速度が速く、しかも現像ラチチュードが大きく、さらにパターン欠けを生じない着色感光性組成物を得ること。また、前記着色感光性組成物を用いることで、色純度が高く、コントラストが高い色特性が良好で、しかも生産性の高いカラーフィルタを得ることにあり、このカラーフィルタを用いて、輝度の高い鮮明な画像の液晶表示装置を得ること。
【解決手段】（Ａ）ハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料、（Ｂ）黄色顔料、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）バインダー樹脂、および（Ｅ）光重合開始剤を含み、該（Ｃ）重合性化合物がヒドロキシ基を有し、その二重結合密度が９．６ｍｅｑ／ｇ以上１１．５ｍｅｑ／ｇ以下の範囲である重合性化合物である着色感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】 超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、およびアウトガス低減を同時に満足するポジ型レジスト組成物、それを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、酸の作用により分解し、アルカリ水溶液に対する溶解性が増大する構造を有する繰り返し単位（Ｂ）を有する樹脂（Ｐ）、および、製膜により膜表面に偏在し保護膜を形成する化合物（Ｕ）を含有することを特徴とする、感活性光線または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体装置製造に用いられるポジ型フォトレジスト用モノマーあるいは溶解抑止剤などとして有用な、溶解特性、露光感度、解像度、ラフネス、耐熱性等に優れ、特に現像液に対する溶解抑止効果に優れた脂環式化合物、その製造方法、それを含む組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】アダマンタン骨格にコール酸類エステル構造含有基が結合した脂環式化合物、その製造方法、それを含む組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】ＵＶ照射、熱履歴による白色塗膜の変色及び反射率の低下が少なく、かつ、低露光量でパターン形成可能な液状樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、（Ａ）１分子中に少なくとも２個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂、（Ｂ） 酸化防止剤、（Ｃ） 光重合開始剤、（Ｄ） 希釈剤、（Ｅ） 酸化チタン、および（Ｆ） エポキシ系熱硬化性化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤への溶解性に優れ、良好なリソグラフィー特性を示す高分子化合物、当該高分子化合物を用いたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）及び酸発生剤成分（Ｂ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなり、基材成分（Ａ）が、スルホニル基を含む環式基を側鎖に含有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、特定構造を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ５）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】低露光量であっても高い残膜率を有する画素およびブラックマトリックスを形成することができる着色層形成用感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）オキシラニル基またはオキセタニル基と、１個のエチレン性不飽和結合とを有しＱ値が０．２〜１．２である重合性単量体、（Ｄ）光ラジカル発生剤、および（Ｅ）光酸発生剤を含有することを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高感度で経時保存性が改善された、水現像が可能な感光性組成物および平版印刷版を提供することにある
【解決手段】水溶性重合体として、側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有するカチオン性水溶性重合体または側鎖にビニル基が置換したフェニル基およびスルホン酸塩基を有する水溶性重合体、光重合開始剤または光酸発生剤、および下記の一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする感光性組成物およびこれを用いた平版印刷版。
【化１】
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【課題】 テント強度に優れ、また、十分な光感度、解像度、密着性、及び剥離特性を有する感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内に少なくとも１つのエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤、を含有する感光性樹脂組成物であって、前記（Ｂ）成分が、（Ｂ１）下記一般式（Ｉ）で表される化合物と、（Ｂ２）分子内に２つのエチレン性不飽和基、並びに、オキシエチレン基及び／又はオキシプロピレン基を有する化合物と、を含有する感光性樹脂組成物。
【化１】


（一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を示す。） （もっと読む）