【課題】高い放射線感度を有し、現像工程やラビング工程においてパターンが剥離することがなく、液晶表示素子に使用したときに「焼き付き」を起こさないスペーサーまたは保護膜を形成することができ、しかもスリット塗布方式において塗布ムラの低減が可能であり、保存安定性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）重合性不飽和化合物、および（Ｃ）感放射線性重合開始剤を含有し、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が、重合性不飽和カルボン酸および／または重合性不飽和カルボン酸無水物を含む単量体を、下記式（１）で表される化合物の存在下で重合する工程を経て製造された共重合体を含む感放射線性樹脂組成物によって達成される。
【化１】


〔式（１）において、Ｚ^１およびＺ² は相互に独立に炭素数４〜１８のアルキル基または置換されていてもよいベンジル基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】遮光顔料の分散性が高く、経時後も遮光顔料、特にチタンブラック顔料が沈降せず、分散性、および保存安定性の高い分散組成物を提供し、パターン成形した場合であっても、遮光性の硬化物を形成することができ、感度が良好な重合性組成物を提供し、それを用いて遮光性の高い着色パターンを有する遮光性カラーフィルタ、および高画質の固体撮像素子、及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】（Ａ）遮光顔料、（Ｂ）ラジカル重合可能な基を少なくとも１つの末端に有し、且つ遮光顔料に吸着する基を他の末端に有する分散剤、および、（Ｃ）溶媒を含む分散組成物。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー光等に対して高感度で、人体蓄積性にも問題がなく、しかも発生する酸（光発生酸）の酸性度が十分高く、かつ、レジスト溶剤に対する高い溶解性及び樹脂に対する優れた相溶性を有する光酸発生剤及び、そのような光酸発生剤を含有するレジスト材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（２）で示されるスルホン酸を発生することを特徴とする光酸発生剤を用いることによって、前記課題は解決する。
【化１０２】


（式中、ｎは１〜１０の整数を示す。Ｒは置換もしくは非置換の炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、アルケニル基、置換もしくは非置換の炭素数６〜１５のアリール基、又は炭素数４〜１５のヘテロアリール基を示す。）。このような光酸発生剤を使用して形成されたレジストパターンは基板密着性、エッチング耐性においても優れた性能を発揮する。
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【課題】放射線に対し高い感度を有し、密着性、高耐熱性、解像度、高透過率、高信頼性の層間絶縁膜を形成でき、またマイクロレンズの形成に用いる場合にあっては高い透過率と良好なメルト形状を有するマイクロレンズを形成でき、保存安定性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、（Ａ）共重合体、（Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物を含有する感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）共重合体が、（ａ１）不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物、並びに（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物を含む単量体を、下記式（１）で表される化合物の存在下で重合する工程を経て製造された共重合体を含む感放射線性樹脂組成物によって達成される。
【化１】



〔式（１）において、Ｚ^１およびＺ² は相互に独立に炭素数４〜１８のアルキル基または置換されていてもよいベンジル基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】高感度であり、基板依存性がなく、塩基性基板を用いた場合でもプロファイル形状の優れたポジ型レジスト組成物及びこのポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基、及び、ニトロ基を少なくとも１つずつ有する化合物（Ｎ）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜できる感放射線性樹脂組成物等を提供する。
【解決手段】本組成物は、樹脂と、式（ｂ１）の酸発生剤と、低分子化合物とを含有しており、該低分子化合物は、式（ｃ１）の化合物、窒素原子を２個有する化合物、窒素原子を３個以上有する化合物等のうちの１種である。
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【課題】 基板に対する密着性に優れ、高感度、高解像度のパターンを形成できる感光性樹脂として有用な共重合体を提供する。
【解決手段】 分子内に炭素炭素二重結合を複数個有するビニル単量体［（メタ）アクリル酸エステル誘導体及び（メタ）アクリル酸アミド誘導体を除く］（ビニル単量体Ａ）と、カルボキシル基又はカルボン酸無水物基を有するビニル単量体（ビニル単量体Ｂ）とを少なくとも含む単量体混合物を重合して得られる共重合体。ビニル単量体Ａには、下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ¹は水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示し、Ｘは連結基を示す。ｎは１〜３の整数を示す）で表される化合物が含まれる。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、基板依存性がなく、塩基性基板を用いた場合でもプロファイル形状の優れたポジ型レジスト組成物及びこのポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ジアゾ基及び酸基を有する化合物（Ｎ）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びこのポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】固体状の組成物であるにも拘わらず、高い熱を掛けなくてもモノマー間の移動（拡散移動）が容易であり、感度も高く、屈折率変調（Δｎ）も０．０１以上ある、耐熱性の高い体積ホログラム記録用感光性組成物の提供。
【解決手段】（ａ）分子内に芳香環を有さず、プロピレンオキシド鎖を有するラジカル重合性モノマー、
（ｂ）芳香環を分子内に有するエポキシ化合物、
（ｃ）分子内にカチオン重合性基および芳香環を有する数平均分子量５，０００〜５０，０００の高分子バインダー
（ｄ）特定波長のレーザー光に感光して成分（ａ）を重合させる光ラジカル重合開始剤系、および
（ｅ）成分（ｄ）を感光させる光に対しては低感光性であり、別の波長の光に感光して成分（ｂ）を重合させる光カチオン重合開始剤系
を含有し、かつ成分（ａ）の平均の屈折率が成分（ｂ）の平均の屈折率より低いことを特徴とする体積ホログラム記録用感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度で、ポリイミド前駆体の種類を問わず溶解性コントラストを得られ、結果的に十分なプロセスマージンを保ちつつ、形状が良好なパターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される光塩基発生剤、及びポリイミド前駆体を含有する、感光性樹脂組成物。


（各符号は、明細書中で定義したとおりである。） （もっと読む）

【課題】感度、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性がいずれも良好な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物であって、（Ｂ）が式（１）の化合物を含む感光性樹脂組成物。
[化１]


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又はメチル基を示し、Ｙは炭素数３〜９の脂環式環を示し、２個のベンゼン環は上記脂環式環の同一炭素に結合し、−（ＡＯ）−及び−（ＯＢ）−は、（ポリ）オキシエチレン鎖、（ポリ）オキシプロピレン鎖、又はエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合鎖を示し、オキシエチレン基の総数は１〜４０であり、オキシプロピレン基の総数は０〜４０である。］ （もっと読む）

【課題】ＹＡＧレーザーを用いて、液晶ディスプレイ用のカラーフィルターが得られる、ＹＡＧレーザーに対して非常に高感度で露光硬化する感光性組成物を提供すること。
【解決手段】分子内に下記の構造（１）を有する活性エネルギー線重合開始剤（Ｘ成分）と、分子内に少なくとも２個のメルカプト基を有する多官能チオール化合物（Ｙ成分）とを含有するＹＡＧレーザーで硬化する感光性組成物。
Ｒ１−Ｃ（＝ＮＯ−Ｒ２）−Ｒ３ （１）
（上記構造（１）においてＲ１は、炭素数が１〜２０のアルキル基、または置換されていてもよいアルキル基、フェニル基、ＣＮ、ＮＯ₂、ハロアルキル基を表し、また、Ｒ２は、水素原子、アシル基またはアルケノイル基を表し、また、Ｒ３は、式（２）で示される分子内にカルバゾル構造を有する基である。） （もっと読む）

【課題】高い放射線感度を有し、低露光量であっても所望のパターン寸法を有し且つ強度に優れるパターン状薄膜が得られ、短い時間で現像可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）下記一般式（１）で表される化合物群から選択される少なくとも１種の（メタ）アクリレート化合物、及び（Ｃ）感放射線性重合開始剤を含有する感放射線性樹脂組成物。


式（１）中、Ｘは各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基のいずれかを表す。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザーによる直接描画が可能で、なおかつ感度、経時安定性、及び、耐刷性に優れたネガ型平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）下記式（I）で表されるシアニン色素、（Ｂ）ウレタン結合を有するエチレン性不飽和化合物、（Ｃ）重合開始剤、及び、（Ｄ）バインダーポリマーを含有する感光層を有することを特徴とする平版印刷版原版。式（I）中、Ｘ¹及びＸ²はそれぞれ独立にＳ、Ｏ、ＮＲ及びＣ（アルキル）₂よりなる群から選ばれた二価の連結基を表し、Ｒ^1a及びＲ^1bはそれぞれ独立にアルキル基、アルキルスルホネート基、アルキルカルボキシレート基又はアルキルアンモニウム基を表し、Ｒ²は、ＳＲ、ＳＯ₂Ｒ又はＯＲを表し、Ｒはアリール基を表し、Ｚは一価以上のアニオンを表し、ｎ１及びｎ２はそれぞれ独立に０〜３の整数を表す。
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【課題】感度が高く、特性のバラツキが少なく、製造工程が単純で、製造コストの低廉な感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】一般式（１）で示される置換基が、一般式（２）で示される置換基を1つ以上有するコア分子の炭素−炭素二重結合に付加した化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。


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【課題】リソグラフィー特性が向上し、良好な形状のレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分（Ｆ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（Ｉａ）で表されるアニオン部を有する酸発生剤（Ｂ１）を有し、前記光塩基発生剤成分（Ｆ）が下記一般式（ｆ１）で表される化合物からなる光塩基発生剤（Ｆ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【解決手段】側鎖に、芳香族炭化水素基および三級炭素を含有する鎖状または環状のアルキル基を有する繰り返し単位を有する高分子化合物を含有するポジ型レジスト材料。
【効果】本発明の材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。また、マスク加工における、ＥＢ描画において、微細パターンの解像性、高感度で高加速電圧ＥＢ露光に相応しく、エッチング耐性に優れたポジ型レジスト材料を提供でき、マスク加工に極めて有用でもある。 （もっと読む）

【課題】 ３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長範囲内にピークを有する光（特に波長４０５ｎｍの青色レーザー）での露光法によるブラックマトリクスの形成において、十分な感度、解像度及び密着性が得られる黒色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）増感剤、及び、（Ｅ）黒色顔料を含有し、上記（Ｃ）光重合開始剤が、（Ｃ１）２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビスイミダゾール、及び、（Ｃ２）２−メルカプトベンゾオキサゾールを含み、３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長範囲内にピークを有する光に露光してブラックマトリクスを形成するために用いられる、黒色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、酸発生剤成分（Ｂ）は式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有するレジスト組成物。［式中、Ｒ^１”〜Ｒ^３”はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基又はアルキル基を表し、少なくとも１つは水素原子の一部が式（ｂ１−０−０１）で表される基で置換された置換アリール基であり、Ｗは炭素数２〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基である。］
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【課題】着色剤を高濃度に含有する場合であっても、高感度で硬化し、未硬化部の良好な現像性を維持しつつ、支持体との優れた密着性と耐現像性に優れた硬化部を形成しうる、パターン形成性に優れた硬化性組成物、該硬化性組成物を用いて着色パターンを形成してなる解像力に優れたカラーフィルタ、それを高い生産性で製造しうる製造方法高及び解像度の着色パターンを有するカラーフィルタを備えた固体撮像素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子内に２つ以上の重合性基と２つ以上の水酸基とを有する重合性化合物、（Ｂ）光重合開始剤、及び、（Ｃ）着色剤、を含有する硬化性組成物。 （もっと読む）