【課題】 テント強度に優れ、また、十分な光感度、解像度、密着性、及び剥離特性を有する感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内に少なくとも１つのエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤、を含有する感光性樹脂組成物であって、前記（Ｂ）成分が、（Ｂ１）下記一般式（Ｉ）で表される化合物と、（Ｂ２）分子内に２つのエチレン性不飽和基、並びに、オキシエチレン基及び／又はオキシプロピレン基を有する化合物と、を含有する感光性樹脂組成物。
【化１】


（一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を示す。） （もっと読む）

【課題】パターン加工時において、Ｓｉ原子を有しない無機物で構成される基板表面や素子表面との現像時接着性に優れたネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）カルボキシル基および／またはフェノール性水酸基と、エチレン性不飽和二重結合基を有する重合体、
（Ｂ）光ラジカル重合開始剤、および
（Ｃ）水酸基を有する不飽和カルボン酸エステル残基を１分子中に３個以上有する化合物
を含有することを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れており、Ｓｉ含有量が多く且つレジスト材料の染み込み量が少ないシリコン含有膜を形成することができると共に、裾引き等のないボトム形状に優れるレジストパターンを安定して形成することができる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本シリコン含有膜形成用組成物は、（Ａ）シラノール基を有するポリシロキサンと、（Ｂ）２つ以上のオキセタニル基を有するオキセタニル基含有化合物と、（Ｃ）有機溶媒と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】 １液型又はドライフィルムとして保存安定性に優れ、感度、アルカリ現像性及びビア形状が良好で、且つ硬化膜の耐クラック性、ＨＡＳＴ耐性に優れる感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、ソルダーレジスト及びプリント配線板を提供する。
【解決手段】 （Ａ）バインダーポリマーと、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）熱硬化剤と、を含有し、前記（Ｂ）成分が、（Ｂ−１）分子内にフルオレン骨格、及びオキシエチレン基又はオキシプロピレン基を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】波長８００〜１０００ｎｍの近赤外線を吸収し、また、微細パターンを形成することが可能な近赤外吸収材用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】近赤外線領域に吸収極大波長を有するフタロシアニン化合物を含む着色剤（Ａ）、バインダー樹脂（Ｂ）、光重合性化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）及び溶剤（Ｅ）を含む近赤外吸収材用感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】波長３６５ｎｍや４０５ｎｍの光に対する感度が高く、経時安定性に優れ、加熱経時による着色が抑制された硬化膜を形成可能な感光性組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）重合性化合物、（Ｂ）バインダー樹脂及び（Ｃ）オキシムエステル化合物と一般式（１）〜（４）で示される化合物から選択された少なくとも１種の化合物とを含む光重合開始系を含む感光性組成物。
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【課題】反射防止膜を使用したレジストパターニング工程におけるパターニング性に優れる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置の製造方法は、半導体ウェーハ１０上に第１の反射防止膜１１を形成する工程と、第１の反射防止膜１１上に第２の反射防止膜１２を形成する工程と、第２の反射防止膜１２上にレジスト膜１３を形成する工程と、レジスト膜１３を選択的に露光する工程と、この露光後にレジスト膜１３及び反射防止膜１１、１２を現像する工程と、この現像により得られたレジスト膜１３のパターンをマスクに半導体ウェーハ１０に対する処理を行う工程とを備え、第１の反射防止膜１１の感光剤濃度は第２の反射防止膜１２の感光剤濃度よりも高い。 （もっと読む）

【課題】 ハロゲン系難燃剤を用いずに十分な難燃性を確保することができ、且つ十分な耐電食性を有する硬化物を得ることが可能な硬化性樹脂組成物、並びに、これを用いた永久レジスト、プリプレグ、金属張積層板、封止材、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板を提供する。
【解決手段】 樹脂と、エチレン性不飽和結合を有する三価のリン化合物と、を含有する硬化性樹脂組成物。前記エチレン性不飽和結合を有する三価のリン化合物の含有量が、硬化性樹脂組成物の固形分全量を基準として１〜６０質量％であると好ましい。 （もっと読む）

【課題】波長３６５ｎｍや４０５ｎｍの光に対する感度が高く、経時安定性に優れ、現像性が良好な感光性組成物、およびカラーフィルタ用着色感光性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性化合物、（Ｂ）バインダー樹脂、および（Ｃ）光重合開始系を含み、該（Ｃ）光重合開始系が、（Ｃ−１）オキシムエステル化合物と、（Ｃ−２）増感剤と、（Ｃ−３）下記一般式（１）〜（４）から選ばれた少なくとも１種以上の化合物とを含有する感光性組成物。
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【課題】 ポストベークが不要でも、硬化速度が速く、耐エッチング性の良好なフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 少なくとも２個のプロペニルエーテル末端基を有する重合性化合物であって、プロペニルエーテル末端基を有するモノマー（Ａ１）、ポリエーテルオリゴマー（Ａ２）およびポリエステルオリゴマー（Ａ３）からなる群より選ばれる１種以上の重合性化合物（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）を必須成分とし、重合性化合物（Ａ）の水酸基価が０〜１０ｍｇＫＯＨ／ｇであるポストベークが不要なことを特徴とするフォトレジスト組成物を使用する。 （もっと読む）

【課題】ＰＤＰ、ＳＥＤ等の透明電極を形成する際にハレーションの影響を防止することが可能な透明電極形成用光硬化性樹脂組成物、及びそれを用いた透明電極の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る透明電極形成用光硬化性樹脂組成物は、３６０ｎｍの波長の光に対する透過率が８０％未満の光重合開始剤（ａ）と、酸基を有する樹脂（ｂ）と、エチレン性不飽和基を有するモノマー（ｃ）と、３００〜３５５ｎｍの波長の光を実質的に透過し、かつ、３６０〜４００ｎｍの波長の光を実質的に吸収する光吸収剤（ｄ）と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れており、Ｓｉ含有量が多く且つレジスト材料の染み込み量が少ないシリコン含有膜を形成することができると共に、裾引き等のないレジストパターンを安定して形成することができる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本シリコン含有膜形成用組成物は、（Ａ）テトラアルコキシシラン由来の構造単位（ａ１）、及びヘキサアルコキシジシラン由来の構造単位（ａ２）を含有しており、前記構造単位（ａ１）の含有割合を１００モル％とした場合に、前記構造単位（ａ２）の含有割合が１０〜３０モル％であるポリシロキサンと、（Ｂ）有機溶媒と、を含有するものである。 （もっと読む）

【課題】吸水性が十分に低く、アルカリ現像性に優れ、厚膜で像形成を行うことが可能な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
下記一般式（１）、（２）及び（３）でそれぞれ表される構成単位を有するポリアミック酸と、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含む感光性樹脂組成物。


ここで、Ａｒ^１は炭素数５〜２０のアルキレン基を有する４価の基を示し、Ａｒ^２は炭素数５〜２０のアルキレン基を有する２価の基を示し、Ａｒ^３は芳香族炭化水素基を有する２価の基を示す。 （もっと読む）

【課題】アルカリ現像性を低下させることなく、基板に対する密着性が向上した感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】１分子中に１個以上のラジカル重合性不飽和結合と１個以上のカルボキシル基を有する酸価２０〜１４０ｍｇＫＯＨ／ｇの感光性樹脂、１分子中に１個以上のアミド基と１個以上のヒドロキシル基を有する化合物、光重合開始剤、着色剤を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】厚膜でも無機物の微細パターン形成が可能なポジ型感光性ペーストを提供する。
【解決手段】ノボラック樹脂、ウレタン化合物、光酸発生剤および無機粉末を含むポジ型感光性ペーストであって、該ノボラック樹脂と該ウレタン化合物の合計量に対し、該ノボラック樹脂を９０〜９９質量％、該ウレタン化合物を１〜１０質量％含有することを特徴とするポジ型感光性ペーストである。 （もっと読む）

【課題】十分な薬品耐性を有しながら良好な剥離性をもち、かつ基材上の金属膜との間で良好な接着性を示すような樹脂パターンを得るための感光性樹脂組成物を提供すること、及びそのような樹脂パターンを使用した被エッチング基体の製造方法を提供する。
【解決手段】酸基含有アクリル系樹脂と脂環式エポキシ基含有不飽和化合物との反応により生成したアルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、３官能以上の多官能モノマー（Ｂ）と、窒素含有単官能モノマー（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）と、を含有する感光性樹脂組成物を使用する。 （もっと読む）

【課題】
アルカリに対する溶解速度が速く、耐熱着色性、現像性、表面平滑性に優れた不飽和基含有樹脂、ならびに感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
ビスフェノール型エポキシ樹脂に（メタ）アクリル酸を付加させ、更に無水コハク酸および／または無水マレイン酸を付加させた後に、更にビスフェノール型エポキシ樹脂を付加させた不飽和基含有樹脂、ならびに更に無水コハク酸および／または無水マレイン酸を付加させた不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂、および光重合性モノマー、光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物を見出した。 （もっと読む）

【課題】超薄膜のレジスト膜において、リソグラフィー特性が向上し、良好な形状の微細なレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、前記有機溶剤（Ｓ）は少なくとも下記３成分の有機溶剤成分（Ｓ１）〜（Ｓ３）を含有し、かつ前記有機溶剤（Ｓ）中の有機溶剤成分（Ｓ１）〜（Ｓ３）の割合が、前記（Ｓ）成分を構成する全有機溶剤成分の合計に対して、それぞれ、５０〜９０質量％の範囲、５〜４０質量％の範囲、０．１〜１５質量％の範囲であることを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度なポジ型のリソグラフィー性能を有し、かつ角のないパターン形状を形成可能な感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、並びに該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置を提供すること。
【解決手段】以下の：
（Ａ）アルカリ水溶液可溶性重合体１００質量部、
（Ｂ）光酸発生剤１〜５０質量部、及び
（Ｃ）置換基を有していてもよいベンゼン環、ナフタレン環又はアントラセン環からなる化合物であって、そのα位に、ＯＨ基と少なくとも一つの電子供与基とを有し、かつ、ＯＨ基をその分子内に1つのみ有する化合物１〜３０質量部、
を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】
高い遮光性を有し、現像性、解像性（感度等）及びパターン形状（直線性等）に優れる感光性黒色組成物を提供することにある。又、本発明の他の目的は、遮光性が高く、解像性及びパターン形状（直線性等）に優れるブラックマトリックスを備えたカラーフィルタを提供することにある。
【解決手段】
カーボンブラック、光重合開始剤、エチレン性不飽和化合物、並びに、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物の存在下に、エチレン性不飽和単量体をラジカル重合してなる、片末端領域に２つの水酸基を有するビニル重合体中の水酸基と、テトラカルボン酸無水物中の酸無水物基と、を水酸基過剰で反応させてなる水酸基を有する化合物中の水酸基と、１つのイソシアネート基を有し且つ光硬化性部位を有する化合物中のイソシアネート基と、を反応させてなる感光性樹脂等からなる群から選ばれる感光性樹脂を含有してなる感光性黒色組成物により解決。 （もっと読む）