【課題】超微細領域での、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定のオキシムスルホネート構造を有する繰り返し単位及び酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を有する繰り返し単位を有する樹脂を含有することを特徴とする電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト法において、フォトレジスト膜の良好なパターン形成が可能であり、良好なドライエッチング耐性を有するエッチングマスク用金属酸化物含有膜を形成でき、保存安定性が良好であり、剥離プロセスで使用される溶液で剥離が可能な金属酸化物含有膜形成用組成物、金属酸化物含有膜形成基板、更にパターン形成方法を提供する
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト法において成膜される金属酸化物含有膜を形成するための熱硬化性金属酸化物含有膜形成用組成物であって、少なくとも、（Ａ）加水分解性ケイ素化合物と、加水分解性金属化合物とを加水分解縮合することにより得られる金属酸化物含有化合物、（Ｂ）熱架橋促進剤、（Ｃ）炭素数が１〜３０の１価又は２価以上の有機酸、（Ｄ）３価以上のアルコール、（Ｅ）有機溶剤とを含むことを特徴とする熱硬化性金属酸化物含有膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】最終的に得られるポリイミドの化学構造を問わず溶解性コントラストを得られ、形状が良好なパターンを得ることができ、簡便に合成できて安価に入手可能な、感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】側鎖にヘミアセタール構造を有する下記式（１）で表わされる繰り返し単位を有するポリイミド前駆体、及び、光の作用によりカルボン酸を発生させる化合物を含有する、感光性樹脂組成物である。
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【課題】画像部の耐薬品性、耐傷性に優れ、さらには、現像後に高温で加熱処理した場合、著しく耐刷性が向上する赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、下記一般式（Ｉ）で示される重合性モノマーに由来する単位を少なくとも有する共重合体及び赤外線吸収剤を含有する下層と、ホスホン酸基及び燐酸基から選ばれる少なくともいずれかの基を側鎖に有する高分子化合物を含有する上層と、をこの順に有することを特徴とする。


式中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を、Ｒ^２はメチレンまたはエチレンを、Ｒ^３は水素原子またはメチル基を、ＸはＯまたはＮＨを表わす。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物に好適な高いアルカリ可溶性を有し、熱処理工程において水分等の低分子成分を発生することなく、解像性や耐熱性に優れた高い耐熱性を有する硬化物を生成することができるアルカリ可溶性樹脂であり、該アルカリ可溶性樹脂を用いたポジ型レジスト組成物及びネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】ベンゾオキサジン環の開環構造を有するアルカリ可溶性樹脂であり、該樹脂は、ベンゾオキサジン環を有する化合物と、フェノール性水酸基を１つのベンゼン環上に１以上有する芳香族化合物を交互共重合させた繰り返し単位からなり、絶縁性、機械強度、難燃性、耐水性等、ベンゾオキサジン樹脂が有する基本的な特徴を兼ね備え、フェノール性水酸基含有化合物由来の高いアルカリ可溶性が発現される。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物及びその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物並びにレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、
前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物［式中、Ｒ^１は、少なくとも１の水素原子がフッ素置換されている炭素数１〜１０のアルキル基であり；Ｒ^２は、置換基を有していてもよい炭化水素基であり；Ａ^＋はカチオンである。］。
［化１］
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【課題】後退接触角が高くかつ前進接触角が低い、つまり、スキャン速度を上げることが可能な上層膜にもかかわらず、バブル欠陥が少ない上層膜を形成することが可能な上層膜形成組成物を提供する。
【解決手段】フォトレジスト膜の表面上に上層膜を形成するために用いられる上層膜形成組成物であって、（Ａ）下記式（１）で示される繰り返し構造単位を有する重合体、（Ｂ）上記（Ａ）以外の重合体であって、スルホン酸基を有する重合体および（Ｃ）溶剤を含有する上層膜形成組成物。
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【課題】赤外線レーザによる画像形成が可能であり、画像部の耐薬品性、耐傷性に優れた強固な被膜を形成しうるとともに、非画像部における現像性、現像ラチチュードが良好であり、さらに、現像後に高温で加熱処理した場合に、著しく耐刷性が向上する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）側鎖にヒドロキシ基を有する（メタ）アクリルアミド構造単位を有する高分子化合物を含有する下層と、（Ｂ）側鎖にカルボキシル基を有するマレイミド構造単位を有する高分子化合物、及び（Ｃ）光を吸収して熱を発生する化合物を含有する記録層と、を順次備える平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスを低くし、ガス発生量を減らし、高い感度や高い熱安定性などの特性を有する化学増幅型レジスト組成物とそれに用いられる光酸発生剤を含有した新規な高分子化合物を提供する。
【解決手段】化学式１で表される化合物。


（化学式１） （もっと読む）

【課題】高感度であり、基板依存性がなく、塩基性基板を用いた場合でもプロファイル形状の優れたポジ型レジスト組成物及びこのポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する
【解決手段】ニトロ基及び酸基を有する化合物（Ｎ）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びこのポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 （もっと読む）

【課題】高感度で、２００℃以下の低温焼成によって機械的強度と屈曲性に優れた硬化膜を得ることのできるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）アルカリ可溶性ポリイミド樹脂、（ｂ）ノボラック樹脂、（ｃ）熱架橋性化合物、（ｄ）光酸発生剤、（ｅ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物であって、（ｃ）熱架橋性化合物の含有量が、樹脂（ａ）および（ｂ）の総量１００重量部に対して１５〜８０重量部であり、（ｃ）熱架橋性化合物が少なくとも（ｃ１）一般式（１）で表される化合物またはその縮合体、および（ｃ２）下記一般式（２）で表される化合物またはその縮合体を含有し、（ｃ１）と（ｃ２）の含有量比（ｃ１）／（ｃ２）が５０／５０〜９０／１０（重量比）であるポジ型感光性樹脂組成物。
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【課題】解像性能に優れ、かつ、ナノエッジラフネスの小さい化学増幅型レジストを形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示されるスルホン酸基含有感放射線性酸発生剤（Ａ）と、樹脂成分全体を１００ｍｏｌ％としたとき、酸解離性基を有する繰り返し単位の合計が２５〜４０ｍｏｌ％である樹脂（Ｂ）と、を含有する感放射線性樹脂組成物である。


〔前記一般式（１）において、Ｒ^１は炭化水素基等を示し、Ｍ^＋は１価のオニウムカチオンを示す。〕 （もっと読む）

【課題】平坦性、低誘電性、吸水性、耐溶剤性、透明性及び耐熱透明性に優れるばかりでなく、密着性にも優れる樹脂膜、この樹脂膜を得るための、ろ過性に優れる感放射線樹脂組成物、及びこの樹脂膜を有する電子部品を提供する。
【解決手段】樹脂（Ａ）、感放射線化合物（Ｂ）、及び溶剤（Ｃ）を含有してなり、樹脂（Ａ）が、特定の５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド誘導体を含む単量体組成物を重合して得られる重合体であることを特徴とする感放射線樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高速スリット塗布を行った場合にも、塗布ムラがなく、塗布膜厚が均一で、被膜の剥離もない、固形分含有量が高いスリット塗布用感光性樹脂組成物およびこれを用いたフラットパネルディスプレイを提供する。
【解決手段】ｍ−またはｐ−位に置換基を有するフェノール性化合物を用いて合成され、かつ重量平均分子量（Ｍｗ）が３，０００〜１６，０００で、ｏ−ｏ’結合率が２０％以上、３０％以下のアルカリ可溶性ノボラック樹脂、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルなどの感光剤、必要に応じフェノール性化合物、活性剤を含む感光性樹脂組成物を、スリットコーターを用いて基板上にスリット塗布する。２００ｍｍ／ｓｅｃ以上の塗布速度で塗布しても、膜厚が均一で、塗布ムラのない塗膜が得られる。 （もっと読む）

【課題】液浸露光による微細パターン形成プロセスにおける現像工程で、良好なレジストパターン形状を与える液浸露光フォトレジスト膜の保護層用塗布組成物、並びにパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】式（１）で示される化合物を５０質量％以上含む溶剤系に、フルオロアルコール基を側鎖に有する水不溶性、かつアルカリ可溶性ビニルポリマーを溶かしてなることを特徴とする液浸露光フォトレジスト膜の保護層用塗布組成物、並びにパターン形成方法。式（１）において、Ｒ₁及びＲ₂は、それぞれ独立に炭素数３〜５のアルキル基である。
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【課題】第一のレジストパターンを不溶化させ、その後の露光処理、並びに現像液及び第二のポジ型感放射線性樹脂組成物に対して十分に安定な不溶化レジストパターンとすることが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（１）第一のレジストパターンを形成する工程と、（２）第一のレジストパターン上にレジストパターン不溶化樹脂組成物を塗布し、第一のレジストパターンを不溶化レジストパターンとする工程と、（３）不溶化レジストパターン上に第二のレジスト層を形成し、選択的に露光する工程と、（４）第二のレジストパターンを形成する工程と、を含むレジストパターン形成方法の工程（１）で用いられる、特定の繰り返し単位を５〜６５モル％含む酸解離性基を有する樹脂を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_２エキシマレーザー、ＥＵＶ又は電子線等によるレジスト膜のリソグラフィーにおいて、解像性を損なわずに感度を向上させることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供できる。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、およびベンゾジオキソールまたはその誘導体（Ｇ）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】放射線に対する透明性が高く、感度、ドライエッチング耐性等のレジストとしての基本物性に優れ、且つ、解像度、焦点余裕度、パターン形状に優れる。
【解決手段】酸解離性基含有樹脂と、感放射線性酸発生剤と、溶剤とを含有する感放射線性樹脂組成物において、上記樹脂は、特定構造の酸解離性基を有する繰り返し単位を含む共重合体を含有し、酸解離性基を有する繰り返し単位は、共重合体を構成する全繰り返し単位に対して、５５モル％を超えて含有し、共重合体は、樹脂全体に対して、９０質量％以上含有する。 （もっと読む）

【課題】焦点深度が広く、ＬＷＲ及びＭＥＥＦが小さく、パターン倒れ特性に優れ、かつ、現像欠陥性能にも優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、感放射線性の酸発生剤（Ｂ）と、酸拡散抑制剤（Ｃ）と、溶剤（Ｄ）とを含有し、前記樹脂（Ａ）が、側鎖に環状炭酸エステル構造を有する繰り返し単位（ａ−１）を有する重合体であり、前記酸拡散抑制剤（Ｃ）が、特定構造の窒素含有化合物である感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】不溶化処理された第一のレジストパターンの間にスカムをほとんど生じさせることなく、微細なレジストパターンを簡便かつ効率的に形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（１）第一のレジストパターンを形成する工程と、（２）第一のレジストパターン上にレジストパターン不溶化樹脂組成物を塗布し、第一のレジストパターンを不溶化レジストパターンとする工程と、（３）不溶化レジストパターン上に第二のレジスト層を形成し、選択的に露光する工程と、（４）第二のレジストパターンを形成する工程と、を含むレジストパターン形成方法の工程（３）で用いられる、特定の光崩壊性塩基を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）