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Fターム[2H025FA17]の内容

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Fターム[2H025FA17]に分類される特許

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【課題】酸性及びアルカリ性条件におけるエッチング耐性を有し、かつエッチング工程終了後にアルカリ性の剥離液によって剥離することが可能な樹脂パターンをマスクとした被エッチング基体の製造方法等を提供する。
【解決手段】基体上に感光性樹脂層を形成する工程と、前記感光性樹脂層を選択的に露光、現像して樹脂パターンを形成する工程と、前記樹脂パターンをマスクとし、45℃以下の酸性又はアルカリ性のエッチング液を用いて前記基体を選択的にエッチングする工程と、50〜80℃のアルカリ性の剥離液を用いて前記樹脂パターンを剥離する工程と、を含み、前記感光性樹脂組成物が、酸基含有アクリル系樹脂と脂環式エポキシ基含有不飽和化合物との反応により生成したアルカリ可溶性樹脂と、3官能以上の多官能モノマーと、光重合開始剤とを含有する被エッチング基体の製造方法を使用する。 (もっと読む)


【解決手段】被加工基板上に酸不安定基を有する繰り返し単位を有し、酸不安定基の脱離によりアルカリ性現像液に可溶になる樹脂、光酸発生剤又は熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト膜形成用組成物でレジスト膜を形成する工程、該膜に高エネルギー線の繰り返し密集パターンを露光し、未露光部を露光、加熱し、発生酸を樹脂の酸不安定基に作用させ、露光部の樹脂の酸不安定基に脱離反応させた後、現像してポジ型パターンを得る工程、ポジ型パターンを露光又は加熱して、樹脂の酸不安定基を脱離させ、架橋を形成させてポジ型パターンに有機溶剤への耐性を与える工程、反転用膜形成工程、上記架橋形成ポジ型パターンを溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたレジストパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、ポジ型パターン上に反転用膜を成膜し、パターンにダメージを与えずにポジ型パターンの間隙に反転用膜形成用材料を埋め込められ、簡易な工程で高精度なポジネガ反転を行える。 (もっと読む)


【課題】レジスト用樹脂等に応用した場合に耐薬品性等の安定性を保持しつつ、有機溶剤に対する溶解性に優れ、加水分解性及び/又は加水分解後の水に対する溶解性を向上しうる、高機能性高分子等のモノマー成分等として有用な新規なラクトン骨格を含む単量体を提供する。
【解決手段】下記式(1)
【化1】


(式中、Raは水素原子、ハロゲン原子、又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を示し、R1はラクトン骨格を有する基を示し、Yは炭素数1〜6の2価の有機基を示す)
で表されるラクトン骨格を含む単量体。 (もっと読む)


【課題】超薄膜のレジスト膜において、リソグラフィー特性が向上し、良好な形状の微細なレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを有機溶剤(S)に溶解してなるレジスト組成物であって、前記有機溶剤(S)は少なくとも下記3成分の有機溶剤成分(S1)〜(S3)を含有し、かつ前記有機溶剤(S)中の有機溶剤成分(S1)〜(S3)の割合が、前記(S)成分を構成する全有機溶剤成分の合計に対して、それぞれ、50〜90質量%の範囲、5〜40質量%の範囲、0.1〜15質量%の範囲であることを特徴とするレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】高感度であり、耐熱性の高いパターンを形成することができるパターン形成剤を提供すること。
【解決手段】一般式(1):RSi(OR(式中、R1は少なくとも1つのチオール基を有する炭素数1〜8の炭化水素基、または少なくとも1つのチオール基を有する芳香族炭化水素基を表し、Rは水素原子、炭素数1〜8の炭化水素基、または芳香族炭化水素基を表す。)で示されるチオール基含有アルコキシシラン類(a1)を加水分解および縮合して得られるアルカリ処理で除去可能な縮合物(A)および炭素−炭素2重結合を有する化合物(B)を含有するパターン形成剤を用いる。 (もっと読む)


【課題】300nm以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物のベース樹脂に矩形性のよいパターンが形成できる新規な酸性基を有する繰り返し単位を導入する。
【解決手段】下記一般式(2)で示される繰り返し単位(a)を含む重量平均分子量1,000〜1,000,000の含フッ素高分子化合物。
【化】



(式中、R1は重合性二重結合含有基、R2はフッ素原子または含フッ素アルキル基、R3及は水素原子、酸不安定性基、架橋基またはその他の一価の有機基、W1は連結基を表す。) (もっと読む)


【課題】高感度なポジ型のリソグラフィー性能を有し、かつ角のないパターン形状を形成可能な感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、並びに該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置を提供すること。
【解決手段】以下の:
(A)アルカリ水溶液可溶性重合体100質量部、
(B)光酸発生剤1〜50質量部、及び
(C)置換基を有していてもよいベンゼン環、ナフタレン環又はアントラセン環からなる化合物であって、そのα位に、OH基と少なくとも一つの電子供与基とを有し、かつ、OH基をその分子内に1つのみ有する化合物1〜30質量部、
を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】アルカリ現像性を低下させることなく、基板に対する密着性が向上した感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】1分子中に1個以上のラジカル重合性不飽和結合と1個以上のカルボキシル基を有する酸価20〜140mgKOH/gの感光性樹脂、1分子中に1個以上のアミド基と1個以上のヒドロキシル基を有する化合物、光重合開始剤、着色剤を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】無機物の微細パターンを安定に形成することを可能にするポジ型感光性ペーストを提供する。
【解決手段】有機成分と無機粉末を含むポジ型感光性ペーストであって、有機成分として少なくともアルカリ可溶性樹脂、光酸発生剤、およびヒンダードフェノール化合物を含むことを特徴とするポジ型感光性ペーストである。また、有機成分と無機粉末を含むポジ型感光性ペーストであって、アルカリ可溶基が酸で脱離する基で保護されている樹脂および光酸発生剤、またはアルカリ可溶基がアルカリで脱離する基で保護されている樹脂および光塩基発生剤を含み、さらにヒンダードフェノール化合物を含むことを特徴とするポジ型感光性ペーストである。 (もっと読む)


【課題】十分な薬品耐性を有しながら良好な剥離性をもち、かつ基材上の金属膜との間で良好な接着性を示すような樹脂パターンを得るための感光性樹脂組成物を提供すること、及びそのような樹脂パターンを使用した被エッチング基体の製造方法を提供する。
【解決手段】酸基含有アクリル系樹脂と脂環式エポキシ基含有不飽和化合物との反応により生成したアルカリ可溶性樹脂(A)と、3官能以上の多官能モノマー(B)と、窒素含有単官能モノマー(C)と、光重合開始剤(D)と、を含有する感光性樹脂組成物を使用する。 (もっと読む)


【課題】耐薬品性、有機溶剤に対する溶解性に優れ、加水分解性及び/又は加水分解後の水に対する溶解性を向上できる新規なラクトン骨格を含む高分子化合物を提供。
【解決手段】下記式(I)


(式中、Raは水素原子等を示し、Aは炭素数1〜6のアルキレン基等を示し、Yは炭素数5以上の2価の有機基を示す)で表されるラクトン骨格を含むモノマー単位と、酸の作用により脱離してアルカリ可溶となるモノマー単位を含む高分子化合物。 (もっと読む)


【課題】レジストの解像度を損うことなく、レジストの感度を向上させることができるレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いた半導体装置の製造方法の提供。
【解決手段】本発明のレジスト組成物は、金属塩、樹脂、及び溶剤を含むことを特徴とする。金属塩がアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩のいずれかである態様、金属塩がセシウム塩である態様、金属塩の含有量が、樹脂に対し、5質量%〜50質量%である態様、などが好ましい。 (もっと読む)


【課題】高い解像性で、LWRが小さく、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、側鎖にヒドロキシ基含有ナフタレン誘導体基を有する構成単位(a10)、側鎖に酸解離性基を有する構成単位(a11)および側鎖に酸解離性基含有エステル基を有する構成単位(a12)を有する高分子化合物(A1)を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 画素の透過率を低下させることなく、またコントラスト比制御や色相制御との両立を保ちつつ、リタデーションを効果的に低減できるカラーフィルタ用着色樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 (A)顔料、(B)分散剤、(C)バインダ樹脂、(E)重合性モノマー、(F)光重合開始剤系を含有するカラーフィルタ用着色樹脂組成物であって、(A)顔料が、C.I.ピグメントグリーン58を含有し、(C)バインダ樹脂が、重量平均分子量Mw及び二重結合当量が特定の範囲内にある樹脂((C−0)樹脂)を含有してなるカラーフィルタ用着色樹脂組成物、及びその用途。 (もっと読む)


【課題】耐めっき性、感度、現像性、及び密着性が良好な感光性樹脂組成物、感光性フィルム、並びにそれを用いたパターン形成方法及びプリント基板の提供。
【解決手段】バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、無機充填剤と、密着促進剤とを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
支持体上に、前記感光性樹脂組成物からなる感光層が積層されてなることを特徴とする感光性フィルム。
前記感光性フィルムにおける感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。
前記パターン形成方法により永久パターンが形成されることを特徴とするプリント基板。 (もっと読む)


【課題】異なる表示方式の液晶表示装置において、PG58顔料を使用して緑色画素の高明度を実現しても、斜め方向から画面を見た際に、視認性低下が生じない緑色画素を備えるカラーフィルタ基板及び液晶表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】少なくとも、C.I.Pigment Green 58、メラミン化合物、C.I.Pigment Green 36、C.I.Pigment Yellow 138を含有する顔料、透明樹脂、光重合性モノマー、及び溶剤を主成分とする光硬化性の緑色着色組成物を用いて形成した、厚み方向の位相差値(Rth)が−21.3nmから25.6nmの範囲内にある緑色画素を備えたことを特徴とするカラーフィルタ基板である。 (もっと読む)


【課題】レジスト材料の溶解性が良好であり、優れたリソグラフィー特性を示し、良好な形状のレジストパターンを形成できるアルコール系有機溶剤を用いたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とが、有機溶剤(S)に溶解してなり、前記有機溶剤(S)がアルコール系有機溶剤であり、前記樹脂成分(A)が、側鎖に、OH基を有する炭素数4〜6の環状エーテルを有する構成単位(a0−1)、側鎖に、OH基を有するアルキレン基または脂肪族環式基を有する構成単位(a0−2)、および酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】 感光性ペースト組成物およびパターン形成方法に関する。より詳しくは、フ
ラットパネルディスプレイなどのディスプレイパネル、電子部品の高度実装材料および太
陽電池材料などに用いられる電極などの微細なパターンを有する回路基板の製造において
、高感度かつ高精度のパターンを形成する場合に好適に使用することができる感光性ペー
スト組成物およびパターン形成方法を得る。
【解決手段】 表面の少なくとも一部がケイ素酸化物、ジルコニウム酸化物およびチタニウム酸化物から選ばれる少なくとも1種で被覆されてなるアルミニウム粉末(A)、
ガラス粉末(B)、
アルカリ可溶性樹脂(C)、
多官能(メタ)アクリレート(D)、および
光重合開始剤(E)
を含有することを特徴とする感光性ペースト組成物 (もっと読む)


【課題】ブラックマトリクスの遮光性を向上させながらも、パターン形状の悪化がなく高精細化が可能な黒色アルカリ現像型感光性樹脂組成物と、それを用いたカラーフィルタ及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】(イ)カーボンブラック、(ロ)バインダー樹脂、(ハ)エチレン性不飽和結合を有する化合物、(ニ)光重合開始剤、(ホ)溶剤からなる黒色アルカリ現像型感光性樹脂組成物において、固形分中における(イ)カーボンブラック含有量aと(ロ)バインダー樹脂含有量bの割合が、b/a=0.50〜0.75の範囲となる。 (もっと読む)


【課題】 画素の透過率を低下させることなく、またコントラスト比制御や色相制御との両立を保ちつつ、リタデーションを効果的に増大できるカラーフィルタ用着色樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 (A)顔料、(B)分散剤、及び(C)バインダ樹脂を含有するカラーフィルタ用着色樹脂組成物であって、(A)顔料が、C.I.ピグメントグリーン58を含有し、(C)バインダ樹脂が、重量平均分子量Mw及び二重結合当量が特定の範囲内にある樹脂((C−9)樹脂)を含有してなるカラーフィルタ用着色樹脂組成物、及びその用途。 (もっと読む)


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