【課題】リソグラフィーで用いられる少なくとも３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜の形成方法であって、反射率を低減でき、エッチング耐性が高く、高い耐熱性、耐溶媒性を有し、特に基板のエッチング中によれの発生がないレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成方法及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる少なくとも３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜の形成方法であって、ビスナフトール基を有する化合物を含有するレジスト下層膜材料を基板上にコーティングし、該コーティングしたレジスト下層膜材料を３００℃を超え、６００℃以下の温度で、１０秒〜６００秒間の範囲で熱処理して硬化させることを特徴とするレジスト下層膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】感活性光線または感放射線性樹脂組成物、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィー用のレジスト組成物において、レジスト保存中に発生する酸によるレジスト性能の変化を抑制しつつ、超微細領域で高感度かつ露光ラチチュードの広いパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物を提供すること。
【解決手段】活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、酸の作用により分解し、アルカリ水溶液に対する溶解性が増大する構造を有する繰り返し単位（Ｂ）を有する樹脂（Ｐ）、および、塩基性化合物（Ｑ）を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物であり、該塩基性化合物（Ｑ）の１２０℃で１５分間保持した際の揮発量が１０質量％以上であることを特徴とする感活性光線または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【解決手段】ヒドロキシナフチル基及び／又はヒドロキシアセナフチレンを有する繰り返し単位と酸によりアルカリ溶解性が向上する繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物を含む第１のポジ型レジスト材料で基板上に第１のレジスト膜を形成し、加熱処理後に上記レジスト膜を露光、現像し、その後高エネルギー線照射により第１のレジスト膜を架橋硬化させ、その上に第２のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第２のレジスト膜を形成し、加熱処理後に高エネルギー線で上記第２のレジスト膜を露光、現像する工程を有するパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第１のポジ型レジスト材料を用い第１パターンを形成後、波長２００nmを超え３２０nm以下の高エネルギー線による架橋反応によりアルカリ現像液とレジスト溶液に不溶化する。その上に第２のレジスト材料で第２パターンを形成することでパターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行える。 （もっと読む）

【課題】焦点深度が広く、ＬＷＲ及びＭＥＥＦが小さく、パターン倒れ特性に優れ、かつ、現像欠陥性能にも優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式(１)および（２）で表される繰り返し単位と、カーボネート構造を有する繰り返し単位（３）をそれぞれ１種類以上含むことを特徴とする重合体（Ａ）、ならびに感放射線性酸発生剤（Ｂ）を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および含窒素化合物（Ｄ）を含有するレジスト組成物であって、前記含窒素有機化合物（Ｄ）が、アンモニウム塩化合物であって、アニオンが、下記式（ｄ１−１）〜（ｄ１−３）のいずれかで表されるアニオンであることを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】酸の拡散の選択性及び除去性に優れた酸転写樹脂膜が得られる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】イミノスルホネート系感放射線性酸発生剤、及び式（１）に示す構成単位を有する重合体、を含有する組成物。この組成物を用いてなる酸転写樹脂膜。酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、上記酸転写樹脂膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。
【化１】
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【課題】繰り返しの温度サイクル試験後の耐クラック性に優れるプリント配線板用の感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性フィルム、永久レジストを提供する。
【解決手段】マレイミド又はマレイミド誘導体に由来する繰り返し単位を有するアクリル共重合体（ａ）、エポキシ樹脂とビニル基含有モノカルボン酸とを反応させて得られる樹脂に、飽和又は不飽和基含有多塩基酸無水物を反応させて得られる樹脂（ｂ）、光重合性モノマー（ｃ）、光重合開始剤（ｄ）、熱硬化剤（ｅ）を含有し、１Ｊ／ｃｍ^２で紫外線照射、及び１６０℃で硬化した時に、下記式（１）で表される定数Ａが６５以上、及び定数Ｂが０．０６以下となる硬化膜が得られる感光性樹脂組成物。


（式（１）中、σは２５℃で感光性樹脂硬化物に与える応力振幅値、Ｎは感光性樹脂硬化物が破断するまでの応力振幅の繰り返し回数を示す。） （もっと読む）

【課題】 超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィにおいて、現像前のレジスト表面が親水性と疎水性の凸凹構造を持つことによる撥水化を抑制し、ムラなく均一に現像が進行するようにすることで、抜け性の向上による高解像性とアウトガス低減を同時に実現するパターン形成を可能とするリソグラフィ用基板被覆方法、及びその方法に用い得るポジ型レジスト組成物を提供すること。
【解決手段】 リソグラフィプロセスにおいて基板上に膜を被覆する工程と、該膜上にトップコート層を設ける工程を含むリソグラフィ用基板被覆方法であって、前記膜が、活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いて形成されることを特徴とする、リソグラフィ用基板被覆方法。 （もっと読む）

【課題】波長３６５ｎｍや４０５ｎｍの光に対する感度が高く、経時安定性に優れ、加熱経時による着色が抑制された硬化膜を形成可能な感光性組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）重合性化合物、（Ｂ）バインダー樹脂及び（Ｃ）オキシムエステル化合物と一般式（１）〜（４）で示される化合物から選択された少なくとも１種の化合物とを含む光重合開始系を含む感光性組成物。
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【課題】反射防止膜を使用したレジストパターニング工程におけるパターニング性に優れる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置の製造方法は、半導体ウェーハ１０上に第１の反射防止膜１１を形成する工程と、第１の反射防止膜１１上に第２の反射防止膜１２を形成する工程と、第２の反射防止膜１２上にレジスト膜１３を形成する工程と、レジスト膜１３を選択的に露光する工程と、この露光後にレジスト膜１３及び反射防止膜１１、１２を現像する工程と、この現像により得られたレジスト膜１３のパターンをマスクに半導体ウェーハ１０に対する処理を行う工程とを備え、第１の反射防止膜１１の感光剤濃度は第２の反射防止膜１２の感光剤濃度よりも高い。 （もっと読む）

【課題】波長３６５ｎｍや４０５ｎｍの光に対する感度が高く、経時安定性に優れ、現像性が良好な感光性組成物、およびカラーフィルタ用着色感光性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性化合物、（Ｂ）バインダー樹脂、および（Ｃ）光重合開始系を含み、該（Ｃ）光重合開始系が、（Ｃ−１）オキシムエステル化合物と、（Ｃ−２）増感剤と、（Ｃ−３）下記一般式（１）〜（４）から選ばれた少なくとも１種以上の化合物とを含有する感光性組成物。
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【課題】 ポストベークが不要でも、硬化速度が速く、耐エッチング性の良好なフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 少なくとも２個のプロペニルエーテル末端基を有する重合性化合物であって、プロペニルエーテル末端基を有するモノマー（Ａ１）、ポリエーテルオリゴマー（Ａ２）およびポリエステルオリゴマー（Ａ３）からなる群より選ばれる１種以上の重合性化合物（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）を必須成分とし、重合性化合物（Ａ）の水酸基価が０〜１０ｍｇＫＯＨ／ｇであるポストベークが不要なことを特徴とするフォトレジスト組成物を使用する。 （もっと読む）

【課題】ＰＤＰ、ＳＥＤ等の透明電極を形成する際にハレーションの影響を防止することが可能な透明電極形成用光硬化性樹脂組成物、及びそれを用いた透明電極の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る透明電極形成用光硬化性樹脂組成物は、３６０ｎｍの波長の光に対する透過率が８０％未満の光重合開始剤（ａ）と、酸基を有する樹脂（ｂ）と、エチレン性不飽和基を有するモノマー（ｃ）と、３００〜３５５ｎｍの波長の光を実質的に透過し、かつ、３６０〜４００ｎｍの波長の光を実質的に吸収する光吸収剤（ｄ）と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】高コントラストな塗膜及びカラーフィルタを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】着色剤（Ａ）、バインダー樹脂（Ｂ）、光重合性化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）及び溶剤（Ｅ）を含み、着色剤（Ａ）が、式（Ｉ）で表される化合物及びその塩からなる群から選択される少なくとも一種を含有する着色剤である着色感光性樹脂組成物。
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【課題】保存安定性に優れており、Ｓｉ含有量が多く且つレジスト材料の染み込み量が少ないシリコン含有膜を形成することができると共に、裾引き等のないレジストパターンを安定して形成することができる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本シリコン含有膜形成用組成物は、（Ａ）テトラアルコキシシラン由来の構造単位（ａ１）、及びヘキサアルコキシジシラン由来の構造単位（ａ２）を含有しており、前記構造単位（ａ１）の含有割合を１００モル％とした場合に、前記構造単位（ａ２）の含有割合が１０〜３０モル％であるポリシロキサンと、（Ｂ）有機溶媒と、を含有するものである。 （もっと読む）

【課題】微細化されたジケトピロロピロール系顔料が、ポストベーク工程において結晶として画素表面に析出することのない赤色着色組成物を提供すること。
【解決手段】ジケトピロロピロール系顔料、顔料担体、光重合開始剤、熱硬化性樹脂、および有機溶剤を含む赤色着色組成物であって、前記熱硬化性樹脂が、メラミン樹脂及び／又はメラミン化合物を含み、前記メラミン化合物は、（１）メラミン樹脂とイソシアネート基を含有する化合物とを反応させて得られたメラミン化合物、（２）メラミン樹脂とイソシアネート基を含有する化合物とを反応させた後、更に酸無水物を反応させて得られたメラミン化合物、又は（３）メラミン樹脂と酸無水物とを反応させて得られたメラミン化合物であり、かつ、前記ジケトピロロピロール系顔料の質量（ＤＰＰ）と、メラミン化合物の質量又はメラミン樹脂及びメラミン化合物の合計の質量（Ｍ）の質量比（ＤＰＰ／Ｍ）が、０．０５〜０．３２の範囲であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
高い遮光性を有し、現像性、解像性（感度等）及びパターン形状（直線性等）に優れる感光性黒色組成物を提供することにある。又、本発明の他の目的は、遮光性が高く、解像性及びパターン形状（直線性等）に優れるブラックマトリックスを備えたカラーフィルタを提供することにある。
【解決手段】
カーボンブラック、光重合開始剤、エチレン性不飽和化合物、並びに、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物の存在下に、エチレン性不飽和単量体をラジカル重合してなる、片末端領域に２つの水酸基を有するビニル重合体中の水酸基と、テトラカルボン酸無水物中の酸無水物基と、を水酸基過剰で反応させてなる水酸基を有する化合物中の水酸基と、１つのイソシアネート基を有し且つ光硬化性部位を有する化合物中のイソシアネート基と、を反応させてなる感光性樹脂等からなる群から選ばれる感光性樹脂を含有してなる感光性黒色組成物により解決。 （もっと読む）

【課題】吸水性が十分に低く、アルカリ現像性に優れ、厚膜で像形成を行うことが可能な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
下記一般式（１）、（２）及び（３）でそれぞれ表される構成単位を有するポリアミック酸と、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含む感光性樹脂組成物。


ここで、Ａｒ^１は炭素数５〜２０のアルキレン基を有する４価の基を示し、Ａｒ^２は炭素数５〜２０のアルキレン基を有する２価の基を示し、Ａｒ^３は芳香族炭化水素基を有する２価の基を示す。 （もっと読む）

【課題】高コントラストな塗膜及びカラーフィルタを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】着色剤（Ａ）、バインダー樹脂（Ｂ）、光重合性化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）及び溶剤（Ｅ）を含み、着色剤（Ａ）が、式（Ｉ）で表される化合物及びその塩からなる群から選択される少なくとも一種を含有する着色剤である着色感光性樹脂組成物。
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【課題】厚膜でも無機物の微細パターン形成が可能なポジ型感光性ペーストを提供する。
【解決手段】ノボラック樹脂、ウレタン化合物、光酸発生剤および無機粉末を含むポジ型感光性ペーストであって、該ノボラック樹脂と該ウレタン化合物の合計量に対し、該ノボラック樹脂を９０〜９９質量％、該ウレタン化合物を１〜１０質量％含有することを特徴とするポジ型感光性ペーストである。 （もっと読む）