【課題】画素電極にスリットが設けられていても、カラーフィルタを構成する着色層の電気的な性質が液晶配向不良や、スイッチングの閾値ずれに悪影響を与えることがなく、透明樹脂による保護層（オーバーコート層）を設けることがなくても十分な性能を確保できるカラーフィルタおよびそれを具備した液晶表示装置を提供する。
【解決手段】透明基板上に、少なくとも赤色画素、緑色画素、および青色画素を備え、且つ、各画素上にスリットが設けられた画素電極を備えるカラーフィルタにおいて、前記緑色画素を構成する着色層の誘電正接（ｔａｎδ）が周波数１０Ｈｚ〜１００Ｈｚの範囲で０．０２5以下であり、緑色画素の着色層の膜厚が１．０μｍから３．０μｍであり、緑色画素の膜厚１．５μｍでの色度ｙが０．５７以上であり、且つ、緑色画素の緑色着色組成物中に、ハロゲン化銅フタロシアニン顔料を含む。 （もっと読む）

【課題】遮光能に優れた遮光性カラーフィルタを作製でき、支持体上に塗布したときの塗布欠陥の発生が抑制される感光性樹脂組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】チタンブラックと、分散剤と、樹脂と、重合性化合物と、光重合開始剤と、プロピレングリコールアルキルエーテル系溶剤及びプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート系溶剤から選択される少なくとも１種と、芳香族系溶剤及びケトン系溶剤から選択される少なくとも１種と、を含有する感光性樹脂組成物を製造する過程で、チタンブラック及び分散剤を含む混合液に対し、該チタンブラックの体積平均粒子径の変化が１０ｎｍ／パス以下となるまで分散処理を行い、前記分散処理して得られた分散液に、更に分散剤を添加して分散処理を行う。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＤから生じた光を広い波長にわたって効率よく反射するレジスト膜を形成することを可能とするソルダーレジスト材料を提供する。
【解決手段】（Ａ）１分子中に少なくとも１つのカルボキシル基を有する重合性炭化水素モノマー及び重合性炭化水素ポリマーの内の少なくとも一方の重合性炭化水素化合物と、（Ｂ）４６５ｎｍの屈折率が１．６以上でありかつ屈折率比Ｘ(４００ｎｍの屈折率／(８００ｎｍの屈折率)が１以上、１．１以下である無機フィラーとを含む、感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングプロセスにおいて、２回目のパターニングの影響を受けにくい第一のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】ダブルパターニングプロセスにおいて、第一のレジスト膜を形成するポジ型レジスト組成物として用いられ、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、含フッ素化合物成分（Ｆ）とを含有し、当該（Ｆ）成分が、塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）のみを有する含フッ素高分子化合物（Ｆ１）および前記構成単位（ｆ１）と側鎖に特定の基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ｆ２）とを有する含フッ素高分子化合物（Ｆ２）からなる群から選択される少なくとも一種の含フッ素樹脂成分を含むポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】４０５ｎｍ付近の光に高感度を有し、露光後に加熱処理を行うこと無しに、耐薬品性、接着性に優れた良好な光硬化性を有する光重合性樹脂組成物を与えること、さらにこれを利用した耐刷性に優れ、クリーナー液耐性に優れた感光性平版印刷版材料を与える。
【解決手段】（Ａ）一般式Ｉで表される化合物またはトリハロアルキル置換ｓ−トリアジン環基を２個有する特定の化合物、（Ｂ）有機ホウ素塩化合物、（Ｃ）３８０〜４１０ｎｍの波長域に吸収を有する増感色素、（Ｄ）重合性化合物、（Ｅ）バインダーポリマーを含有する光重合性樹脂組成物。
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【課題】
高耐熱性・高解像度・高感度・高残膜率を両立したフォトレジスト用クレゾール樹脂および、それから得られるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】
ビフェニレン基及びキシリレン基から選ばれる少なくとも１つの２価のアリーレン基を架橋基に持つクレゾール型重合体単位（ｎモル）と、クレゾール・ホルムアルデヒド重合体単位（ｍモル）を共に有し、両者の重合度のモル比（ｍ／ｎ）を９７／３−７０／３０としたクレゾール樹脂および該樹脂を含有する組成物により解決される。 （もっと読む）

【課題】水による現像が可能な感光性平版印刷版材料の印刷時の汚れを発生させる問題を解決すること。特に、現像処理装置の現像部分において絞りロールの表面にスラッジが付着し、感光性平版印刷版材料の表面汚染に起因する印刷時の地汚れの問題を解決することを課題とする。
【解決手段】支持体上に親水性層および水により現像が可能な光硬化性感光層をこの順に設けた感光性平版印刷版材料に関して、シリコーン系微粒子とアニオン性界面活性剤を光硬化性感光層に含有する。 （もっと読む）

【課題】水溶性保護層に対して適度な剥離性と適度な密着性とを発揮するカバーフィルム、およびカバーフィルムと水溶性保護層との間に適度な剥離性と適度な密着性とを兼ね備え、廃棄時の環境負荷が少ない水系凸版印刷用感光性樹脂構成体を提供すること。
【解決手段】表面に樹脂層４２を有し、該樹脂層が、酸変性成分１〜１０質量％および（メタ）アクリル酸エステル成分０．５〜４０質量％の酸変性ポリオレフィン樹脂、架橋剤およびポリビニルアルコールを含有し、架橋剤がカルボジイミド化合物および／またはオキサゾリン化合物にて構成され、酸変性ポリオレフィン樹脂１００重量部に対する架橋剤の含有量が１〜３０質量部であり、ポリビニルアルコールの含有量が５〜１００質量部であるカバーフィルム４。ベースフィルム１、水溶性感光性樹脂組成物層２、水溶性保護層３、および上記カバーフィルム４の順に積層された構造を有する水系凸版印刷用感光性樹脂構成体。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥の発生が抑制され、且つ、露光ラチチュード及びラインエッジラフネス性能に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂および、（Ｃ）疎水性樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式（１）で表される酸を発生する化合物であることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（式中の符号は、明細書に記載の意味を有する。）
【化１】
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【課題】放射線に対する透明性が高く、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れる。
【解決手段】アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって、下記式（１）で表される酸解離性基を有する繰り返し単位と、下記式（２）で表されるラクトン構造を有する繰り返し単位との２成分のみからなる共重合体である酸の作用によりアルカリ易溶性となる樹脂成分と、放射線により酸を発生する酸発生成分とを含有するポジ型レジスト組成物。
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【課題】ナフテン酸クロムのようなクロム化合物を含まず、クロム化合物を合成触媒として用いたものと同等以上の熱安定性及び現像管理幅を有する感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）三価の有機リン化合物と質量基準で該三価の有機リン化合物の少なくとも４倍のナフテン酸ジルコニウム及びオクチル酸ジルコニウムの少なくとも１種との存在下で、多官能エポキシ化合物と不飽和一塩基酸とを反応させ、更に多塩基酸無水物を反応させて得られる感光性樹脂、（Ｂ）エポキシ樹脂、（Ｃ）光重合開始剤並びに（Ｄ）反応性希釈剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】臭素化エポキシ樹脂やハロゲン系難燃剤を用いずに優れた難燃性を得ることができ、解像性、密着性、耐熱性、耐薬品性、耐折性に優れ、燃焼時の臭化水素やダイオキシン類等の有害ガスの発生が抑制された感光性熱硬化型樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）１分子中に（メタ）アクリロイル基とカルボキシル基とを有し、希アルカリ溶液に可溶な樹脂成分、（Ｂ）エポキシ基を有する熱硬化成分、（Ｃ）下記一般式［１］で示される（メタ）アクリロイル基含有リン化合物、


（但し、式中、Ｒ^１は水素またはメチル基を示す。）
（Ｄ）ホスファゼン化合物、（Ｅ）光重合開始剤、および（Ｆ）希釈剤を含有する感光性熱硬化型樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】側鎖に、連結基を介してその環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を有するエステル基を有する（メタ）アクリレート構造で表される構成単位（ａ０−１）、側鎖に、酸解離性基を有するエステル基と、連結基を介したエステルを縦に連結した（メタ）アクリレート構造で表される構成単位（ａ０−２）、および側鎖に酸解離性基を有する（メタ）アクリレート構造で表される構成単位（ａ１−０−１）を有し、全構成単位に対し、構成単位（ａ０−１）の割合は１０〜４０モル％であり、構成単位（ａ０−２）の割合は５〜２０モル％であり、構成単位（ａ１−０−１）の割合は１０〜５５モル％である高分子化合物（Ａ１）。 （もっと読む）

【課題】染料起因の膜欠陥の発生を抑制することができる染料含有硬化性組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも有機溶剤可溶性染料と有機溶剤とを混合した染料溶液を６０〜１００℃に加熱する加熱工程と、加熱後の前記染料溶液を２０〜４０℃の範囲に降温する降温工程と、降温後の前記染料溶液に、降温終了から１２時間以内にさらに光重合開始剤と重合性化合物とを混合する混合工程とを有し、前記有機溶剤可溶性染料の全質量に対する含有率が３０質量％以上である硬化性組成物を作製する。 （もっと読む）

【課題】着色層の電気的な性質が液晶の配向乱れや、スイッチング性能に悪影響を与えることの無いカラーフィルタ、及び薄膜トランジスター（ＴＦＴ）方式カラー液晶表示装置の駆動用基板上の着色層についても電気特性に優れたカラーフィルタを形成することができるカラーフィルタ用着色組成物、及びカラーフィルタを提供すること。
【解決手段】前記課題は、無水マレイン酸と無水マレイン酸以外の１種類以上のエチレン性不飽和単量体との共重合体（Ａ）、顔料、バインダー樹脂（Ｂ）、活性エネルギー線重合性単量体、及び、活性エネルギー線重合開始剤を含有することを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物によって解決される。 （もっと読む）

【課題】分散性、流動性、及び保存安定性に優れ、更には耐性も優れたカラーフィルタ用着色組成物、並びにこれを用いたコントラスト比及び明度が高いカラーフィルタの提供。
【解決手段】顔料と、樹脂と、活性エネルギー線重合性単量体と、活性エネルギー線重合開始剤と、溶剤と、を含んでなるカラーフィルタ用着色組成物であって、該樹脂が、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物（ａ１）を含むポリオール（ａ）中の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ１）を含むポリカルボン酸無水物（ｂ）中の酸無水物基と、を反応させてなるポリエステル（Ｄ）の存在下、水酸基を有するエチレン性不飽和単量体（ｃ１）を含むエチレン性不飽和単量体（ｃ）をラジカル重合してなるポリエステル（Ｘ）を、含んでなることを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物によって解決。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト膜を用い、１回の露光で密集したドットパターンと孤立ドットパターンを形成し、これを用いてポジネガ反転によってホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基の脱離によってアルカリ性現像液可溶になる樹脂、光酸発生剤又はこれと熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料を塗布しレジスト膜を形成する工程、位相シフトマスクを用いて露光し、露光後加熱しアルカリ性現像液で現像してポジ型パターンを得る工程、パターンを露光又は加熱し、上記樹脂の酸不安定基を脱離させアルカリ溶解性を向上させ、樹脂に架橋を形成させ上記ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物用の有機溶剤への耐性を与える工程、反転用膜を形成する工程、上記架橋形成されたポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】従来の感光性樹脂組成物では困難であった、光塩基発生剤による副生成物がなく、さらに高温キュアの必要がないアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物及びそれを用いた回路基板を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、光塩基発生剤（Ａ）とポリアミド酸（Ｂ）とを含有する感光性樹脂組成物であって、前記光塩基発生剤は、式（１）で表わされる光による解裂部位を環状構造内に含む環状化合物を含有することを特徴とする。
【化１】


（式中、Ｘ¹はアリーレン基であり、ｎは０〜３の整数を表す。Ｒ^１は芳香族基または炭素数が２〜５０のアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含むエステル基を有するアクリル酸系エステルで表される構成単位（ａ０−１）、および酸解離性の脂肪族単環式基を有するアクリル酸系エステル構成単位（ａ０−２）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】隔壁の耐溶剤性を損なうことなく、インクジェット法によるインク注入時のインク同士の混色が防止可能であり、画素内のインクに対する良好な濡れ性を確保することで均一なインク層が形成可能であって、かつ、得られる光学素子に十分な耐熱性を保持させることが可能であり、さらに簡素化され経済的に有利な工程で行うことが可能な光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】支持基板上に、表面に撥インク性を有する樹脂組成物からなる隔壁を形成させ、インクジェットにて該隔壁間にインクを注入して光学素子を製造する方法であって、隔壁形成後、インクジェットにてインクを注入する前と後に、それぞれインクジェット前には加熱温度１８０℃〜２１５℃で、インクジェット後には加熱温度２２０℃〜２５０℃で加熱処理を施すことにより隔壁を構成する樹脂組成物を硬化物とする光学素子の製造方法。 （もっと読む）