【課題】ランプの放射光を効率的に利用できるとともに、小型化の要請に適した光学装置を提供することである。
【解決手段】放電ランプ１０と凹面反射鏡２０よりなる光学装置において、（イ）凹面反射鏡２０は、前方楕円面反射鏡部分２１、中央球面反射鏡部分２２および後方楕円面反射鏡部分２３から構成される。（ロ）仮想接線ＶＴＬと光軸Ｚがなす角度αと、仮想直線ＶＳＬと光軸Ｚがなす角度βの関係がβ＞αとなる。（ハ）電極Ｅ１の体積Ｖ（ｍｍ^３）と、ランプ電力（Ｐ）との関係が、０．０７×ＥＸＰ（０．０１４×Ｐ）＜Ｖを満たす。 （もっと読む）

【課題】Agの凝集および硫化が生じ難い反射膜積層体を提供する。
【解決手段】(1) 基体上に、Agを主成分としBiを0.08〜2.0 原子％含有すると共にTi、Ｖ、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、Ｗ、Co、Ge、Znの１種以上を合計で0.1 〜3.0 原子％含有するAg合金からなる第１層が形成され、その上にSi、Al、Tiの１種以上の金属酸化物からなる第２層が形成されていることを特徴とする反射膜積層体、(2) 前記反射膜積層体において第１層の厚さが200nm 以上であるもの、(3) 前記反射膜積層体において第２層の厚さが２〜50nmであるもの、(4) 前記反射膜積層体においてAg合金がAu、Pt、Pd、Rhの１種以上を合計で0.1 〜５原子％含有するもの、(5) 前記反射膜積層体においてJIS R3106 に準拠してD65 光源での波長範囲380 〜780nm の光によって測定された可視光反射率が90％以上であるもの等。 （もっと読む）

【課題】表面の汚れを除去しまたは表面の汚れを抑制することのできる光学素子を提供する。
【解決手段】本発明による光学素子は、光学素子の表面にバイアス電圧を印加するための電圧源（１０５）と、前記光学素子の前記表面に光が照射される際に生じる光電子電流を測定するための電流計（１０７）と、を備える。前記光学素子は、前記光学素子の前記表面に光が照射される際に生じる光電子電流を変化させるように、前記電圧源の電圧を調整することができるように構成されたことを特徴とする。 （もっと読む）

蛍光顕微鏡用の光源は、電球、アーク、フィラメント等の光生成器の使用可能な寿命にわたって検体に比較的一定の照明（ルーメン単位）を与えるよう設計される。別の態様では、本発明は、光の必要な励起波長を十分に透過させる一方で、光生成器から光学的構成要素への伝熱を減少させるよう設計された蛍光顕微鏡法用の光源を提供する。
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【課題】輝度が同じでも高い結像品質が達成される解決手段を提供することである。
【解決手段】少なくとも１つの第１の発光素子（ＬＥ１）と、第２の発光素子（ＬＥ２）と、少なくとも１つの光加算装置（１）とを有する光学的装置であって、
該光学的装置は、前記第１の発光素子と第２の発光素子（ＬＥ１，ＬＥ２）の光が１つの光ビームに加算されるように構成されている、ことを特徴とする光学的装置。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ装置の画面に直接手書きするタイプのデータ入力システムに適用でき、座標検知手段を提供する光学フィルムであって、軽量で、価格が安く、大面積化が容易で、量産可能で、かつ広い読取角度を有する読取性能に優れる光学フィルムを提供する。
【解決手段】本発明の光学フィルム１は、可視光を透過し、赤外線又は紫外線を拡散反射する基材９上に、赤外線又は紫外線を吸収する層３がパターン印刷されてなるものである。 （もっと読む）

【課題】反射面の劣化を抑制しつつ、所望の光学特性が得られる多層膜反射鏡を提供する。
【解決手段】多層膜反射鏡は、基材と、基材上に所定の周期長で交互に積層された第１層及び第２層を含み、表面が凹凸状に形成され、極端紫外光を反射可能な多層膜と、多層膜の表面を覆うように配置され、極端紫外光に対する屈折率が真空の屈折率とほぼ等しい物質で形成された第３層と、第３層の表面を覆うように配置された保護層とを備えている。 （もっと読む）

本発明は、ミラー、特に、ファセットミラーの製造方法と、本発明に係るミラーを備える投影露光装置の製造方法とに関する。
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【課題】膜総数が少なくて生産性が高く、しかも、可視光に対する裏面反射効率が高い裏面反射ミラーを提供する。
【解決手段】光透過性を有する基板２と、前記基板の光入射面である表面とは反対側の裏面に順次積層された第１誘電体層４、第２誘電体層６、第３誘電体層８、第４誘電体層１０、及び反射層１２と、を有し、前記第１誘電体層及び前記第３誘電体層はＴｉＯ_２層或いはＴａ_２Ｏ_５であり、前記第２誘電体層はＳｉＯ_２層であり、前記第４誘電体層はＡｌ_２Ｏ_３層或いはＹ_２Ｏ_３層であり、前記反射層はＡｇ層或いはＡｇ合金層である裏面反射ミラーを形成する。これにより、膜総数が少なくて生産性を高くすることができ、しかも、可視光に対する裏面反射効率を高めるこができる。 （もっと読む）

【課題】塗布法によって形成される反射膜、増反射膜、反射防止膜を有する光学部材を提供する。
【解決手段】光学部材母体と、前記光学部材母体上に交互に積層された第１及び第２の無機化合物層とを備え、前記第１の無機化合物層が、加水分解性残基を有するチタン化合物と親油性スメクタイトからなり、前記光学部材母体より高屈折率であり、前記第２の無機化合物層が、酸化ケイ素を含み、前記光学部材母体より低屈折率である。 （もっと読む）

【課題】照明器具用反射鏡において、反射鏡により反射された光を、赤色の物体をより鮮やかな赤色に見せ、かつ光源色と同等の色とする。
【解決手段】照明器具用反射鏡は、波長略５８０〜５９０ｎｍの光反射率が波長略６００〜７００ｎｍの平均光反射率の略５０％以下となるように、波長略４００〜５００ｎｍの光反射率が波長略６００〜７００ｎｍの平均光反射率の略６０〜８０％となるよう形成されている。そのため、照明器具用反射鏡により反射された光は、赤色の物体をより鮮やかな赤色に見せ、かつ光源色と同等の色とすることができる。 （もっと読む）

【課題】 波動光学理論に基づく位相回復法を利用し、実際の評価で使用する硬Ｘ線を用いてミラーにより集光された集光ビームの強度分布を用いることで、ミラー上の位相誤差分布、即ち、形状誤差を求めるＸ線波面計測法を提案し、それを利用してＸ線集光光学系を最適に調節する位相回復法を用いたＸ線集光方法及びその装置を提案する。
【解決手段】 反射Ｘ線の波面を微調節可能な波面調節能を有するＸ線ミラーを備え、焦点近傍でのＸ線強度分布を測定し、Ｘ線ミラー近傍でのＸ線強度分布を測定し若しくは入射Ｘ線の既知のＸ線強度分布を用い、焦点近傍でのＸ線強度分布と反射面近傍でのＸ線強度分布から位相回復法を用いて反射面での複素振幅分布を算出し、この複素振幅分布からＸ線集光光学系の波面収差を算出し、この算出した波面収差を最小にするように波面調節能にてＸ線ミラーの反射面を制御する。 （もっと読む）

【課題】高温環境下及び高温高湿環境下でも基板への膜密着性、擦傷性等の機械的強度が良好である反射鏡を提供する。
【解決手段】二酸化珪素と酸化アルミニウムの混合物からなる密着層Ｃを基板Ｓとアルミニウム反射層Ａの間に形成し、アルミニウム反射層Ａ上に二酸化珪素を含む低屈折率層と酸化チタンと酸化ランタンの化合物からなる高屈折率層とを積層した誘電体層Ｄを形成した構成である。 （もっと読む）

複数の光学要素を含む反射屈折投影対物器械、投影露光装置、そのような投影対物器械を用いる投影露光方法、及びミラーを提供する。反射屈折投影対物器械は、投影対物器械の物体表面に配列されたパターンを投影対物器械の像表面上へと結像するために光軸に沿って配列された複数の光学要素を有する。光学要素は、凹ミラーと、物体表面からの光を凹ミラーに向けて偏向させ、又は凹ミラーからの光を像表面に向けて偏向させるために第１の傾斜軸回りに第１の傾斜角ｔ₁だけ光軸に対して傾斜された第１の偏向ミラーと、第２の傾斜軸回りに第２の傾斜角ｔ₂だけ光軸に対して傾斜された第２の偏向ミラーとを含む。第１の偏向ミラーは、（ｔ₁−Δα₁）≦α₁＜（ｔ₁＋Δα１）に従う第１の入射角度範囲からの第１の入射角α₁において第１偏向ミラー上に入射するｓ−偏光光に対して反射率Ｒ_s¹（α₁）及びｐ−偏光光に対して反射率Ｒ_p1（α１）を備えた第１の反射コーティングを有する。第２の偏向ミラーは、（ｔ₂−Δα₂）≦α₂≦（ｔ₂＋Δα₂）に従う第２の入射角度範囲からの第２の入射角０２において第２偏向ミラー上に入射するｓ−偏光光に対して反射率Ｒ_s²（α２）及びｐ−偏光光に対して反射率Ｒ_p²（α₂）を備えた第２の反射コーティングを有する。第１及び第２の偏向ミラー上の反射時に蓄積される極点エッジ光線のｓ−偏光光に関する第１の反射率総和Ｒ_s^PEは、第１及び第２の偏向ミラー上の反射時に蓄積される赤道エッジ光線のｐ−偏光光に関する第２の反射率総和Ｒ_p^Eと実質的に等しい。 （もっと読む）

【課題】ぎらつき現象を抑え、かつ低コストで効率的な窓貼り用フィルムを提供する。
【解決手段】本発明の窓貼り用フィルムは上記課題を解決するためになされたものであり、反射光を拡散させてある特定方向に反射光が偏らないという発想から考えたものである。それは、基材フィルムの少なくとも片面に金属薄膜層が設けられており、波長４００ｎｍ〜８００ｎｍにおける垂直反射率が３０％以下であり、かつ、全光線透過率が２０％以上であり、さらに、ヘーズが５０％以上であることを特徴とする窓貼り用フィルムである。 （もっと読む）

【課題】応力を低減した多層膜反射鏡を提供する。
【解決手段】本発明による多層膜反射鏡は、反射層（１０３）と前記反射層の応力を低減する応力低減層（１０１）とを備え、前記応力低減層が、モリブデン層（１０１１）、酸化モリブデン層（１０１３）およびシリコン層（１０１５）を含む層対を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多層膜反射鏡によって反射される光の位相を調整するために多層膜を削り取る際に、各層間で位相変化の割合が急激に変化しないように構成された多層膜反射鏡を提供する。
【解決手段】本発明による多層膜反射鏡は、所定の波長に対して屈折率の高い層と屈折率の低い層とを交互に積層した多層膜を含む多層膜反射鏡である。本発明による多層膜反射鏡は、前記多層膜反射鏡によって反射される光の位相を調整するために多層膜を削り取る際に、各層間で位相変化の割合が急激に変化しないように、前記屈折率の低い層の厚さに対する拡散層の厚さの比率を大きくしたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】球面収差を抑えつつ、非点収差も抑えられる光ピックアップ装置およびそれを搭載する光ディスク装置を提供する。
【解決手段】ビーム整形ミラー１６を介した光を対物レンズ１８に入射させ、光ディスク４１まで導いている光ピックアップ装置５９であって、ビーム整形ミラー１６に入射する光を無限系の光にするコリメータレンズ１５が搭載されており、ビーム整形ミラー１６は、無限系の光を有限系の光にする回折格子１を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】光触媒性の酸化チタン層を積層した場合の反射スペクトルを制御し、防眩性と防汚性を兼ね備え、視認性に優れたミラーを提供する。
【解決手段】ガラス基板１と、反射膜２と、着色層３、酸化チタン層４および酸化ケイ素層５が順次積層された複合膜とを有し、分光反射率ピークが４９０〜５４０ｎｍであるミラー１０であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多層反射膜の成膜により基板に応力が加わっても、基板が変形せず平坦度を良好とできるＥＵＶマスクブランクの多層反射膜の成膜方法の提供、およびバッファ層及び吸収層の成膜により基板に応力が加わっても、基板が変形せず平坦度を良好とできるＥＵＶマスクブランクの製造方法の提供。
【解決手段】スパッタリング法を用いて、基板上にＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの多層反射膜を成膜する方法であって、多層反射膜の成膜により基板に加わる応力と逆方向の応力を前記基板が有するように、前記基板を変形させた状態で前記多層反射膜の成膜を実施し、前記多層反射膜の成膜後、前記基板を変形前の形状に戻すことを特徴とするＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの多層反射膜の成膜方法。 （もっと読む）