【課題】 電気配線基板との積層を可能にし、光配線の配置を自由に行える安価で大面積の光導波路基板を提供する事を目的とする。
【解決手段】樹脂からなるコア部とクラッド部を備えた光導波路２が平板３に嵌め込まれて固着していることを特徴とする光導波路基板である。この平板には電気配線パターンが形成されていることが好ましい。また、これら光導波路が平板に嵌め込まれた光導波路基板と電気配線板とが積層してなる光電気混載基板である。 （もっと読む）

【課題】光通信や光情報処理に用いる光モジュールに関し、光導波路構造体を構成するクラッドの両曲面にコア部を形成することで光導波路のアレイ化を図り、光モジュール形成時に必要とされる高い位置合わせ精度を確保するとともに、良好な組み立て性を有する光導波路構造体および光モジュールを提供する。
【解決手段】一方の面から入射された複数の入射光を、進行方向を変えて他方の面から出射させる光導波路構造体１５或いは該光導波路構造体を含む光モジュールであって、光の進行方向に沿って表裏両面に溝が設けられた第１のクラッド１６と、前記第１のクラッドの屈折率よりも高い屈折率を有する透明材料からなり、少なくとも前記溝に埋設されるコア１７と、少なくとも前記コア１７の表出面を含む面を覆い、前記第１のクラッドと一体化された状態で前記第１のクラッドの表裏面上にそれぞれ設けられた第２のクラッド１８および第３のクラッド１９とを有する。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ
（Ｒ^１は、Ｈ若しくはＦ原子、又はＢ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ若しくはＴｉ原子を含む基又は有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示す。）
で表される化合物、その化合物の多量体、及び／又はその化合物の部分縮合物を必須成分としてを加水分解縮合して得られ、Ｓｉ原子１モルに対する、Ｓｉ原子に結合しているＨ、Ｆ、Ｂ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ及びＣ原子からなる群より選ばれる少なくとも一種の原子の総含有割合が０．９０〜０．２０である樹脂を含むシロキサン樹脂、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び（ｃ）成分：非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有する。 （もっと読む）

【目的】光導波路基板とプリント配線板との密着性を高めこれらを一体化した光電気混載板およびそれを構成する光導波路基板を提供することを目的とする。
【構成】コア部とハロゲン元素を含む第１樹脂からなるクラッド部とを備えた光導波路の少なくとも１面の表層に、第１樹脂と同種の樹脂を含み、かつハロゲン元素を含まない樹脂層を形成した光導波路基板であり、これらの光導波路基板が電気配線層と電気絶縁層とを有する電気配線基板に貼り合せられており、電気配線基板と光導波路基板の間にハロゲンを含まない前記樹脂層が介在している光電気混載基板である。 （もっと読む）

【目的】 本発明は、光通信分野で使用される光接続装置の製造法に関し、光配線層の端面加工過程で切断された箇所を自己形成光導波路により適宜接続すること。
【構成】 光配線層Ａの光軸に対して９０度光路変換が可能になるように対称的に４５度ミラー面３としてＶ字溝４を形成すること。該Ｖ字溝４に前記光配線層Ａ端面の屈折率差を消失させる感光性媒質Ｂを充填する。前記光配線層Ａの所望の光導波路１から直進する伝搬光により前記感光性媒質Ｂ内に自己形成光導波路７を形成する。該自己形成光導波路７の形成後に、前記感光性媒質Ｂを除去することで光接続装置を製造する。 （もっと読む）

【目的】 本発明は、光デバイスと光配線層とを効率よく光学的に接続し、集積化および多層化が可能な光接続装置の製造法に関する。
【構成】 光配線層Ａと電気配線層１からなる光電気混在基板において、前記光配線層Ａは１又は複数層とし、該光配線層Ａの光導波路３の光軸に垂直方向に前記光電気混在基板に対してホール５を形成し、該ホール５内には前記光軸を９０度に折り曲げる４５度ミラー６と、前記ホール５上部にはコアパターンを空隙として除去したフォトマスク基板Ｃとをそれぞれ配置し、該基板Ｃと４５度ミラー６との間に感光性媒質Ｂを充填した後に特定の光を照射して前記感光性媒質Ｂ内に連続的な自己形成光導波路１０を形成する。これは垂直部１０ａと９０度折り曲がる水平部１０ｂとを有する。該水平部１０ｂ端は前記光導波路３のそれぞれに接続する。その後、前記フォトマスク基板Ｃを除去すること。 （もっと読む）

【課題】 生産性と品質とを向上させることが可能な光導波路部材の製造方法及び光導波路部材を提供する。
【解決手段】 光導波路部材１は、光合波用（中継及び／又は光分波用）の複数の光導波路２と、その複数の光導波路２が配索される基板部３とを備える。基板部３を構成するアンダークラッドの表面端部には、光軸調芯用ガイド溝６を複数形成する。光導波路２の端面（端部）と光軸調芯用ガイド溝６との間には、端面壁７を設ける。光導波路部材の製造方法は、アンダークラッドを成形する第一工程と、端面壁７を介在させる第二工程と、光導波路２を成形する第三工程と、オーバークラッドを成形する第四工程と、を順に経て製造することを特徴とする。また、別の方法としては、端面壁７を有するアンダークラッドを成形する第一工程と、光導波路２を成形する第二工程と、オーバークラッドを成形する第三工程と、を順に経て製造することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 既存のアルカリ現像設備で容易に精度良くパターン形成でき、耐衝撃性、耐熱性、密着性、電気絶縁性、クラック耐性等に優れることからソルダーレジストとしても利用可能であり、更に、構成樹脂の相溶性の悪さから生じる白濁・濁り等による光損失が少なく、均一な屈折率分布を有し、種々の光集積回路または光配線板に利用できる光導波路用光硬化性・熱硬化性ドライフィルムを提供する。
【解決手段】 （Ａ）カルボキシル基含有樹脂、（Ｂ）反応性希釈剤、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）一分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を含有する感光層を有しており、前記エポキシ樹脂（Ｄ）が、芳香環又は複素環を有し、エポキシ当量が２４０ｇ／ｅｑ．以下であり、かつ重量平均分子量が３，０００以下である。 （もっと読む）

【課題】 生産性、材料選択性、凹凸面の設計の自由度、コストおよび波長選択性に優れた基板生成方法、フォトニック結晶素子の生成方法、フォトニック結晶構造の生成方法を提供することを課題とし、さらには、フォトニック結晶構造の光学特性の向上および形状の小型化を図ることを課題とする。
【解決手段】 矩形の溝形状を表面に有する基板を準備し、この上に、スパッタによる成膜とエッチング処理を繰り返して、断面三角形状の面形状を形成する。さらに、その上に、Ｎｉ電界めっきにより、３００μｍ程度の厚さを有するＮｉ膜を形成し、形成したＮｉ膜を剥離して、断面三角形の表面形状を有するスタンパを取得する。取得したスタンパを用いて樹脂材料を射出成形して基板を取得する。この基板表面には、フォトニック結晶構造を積層形成するための断面三角形の表面形状が形成されている。 （もっと読む）

【課題】可視光領域の光を伝送する場合であっても導波路損失の少ない光導波路を形成することのできる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される構造を有する共重合体、
【化１】


［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は各々独立して水素原子または炭素数１〜１２のアルキル基、Ｘはカルボキシル基を有する基、Ｙは重合性反応基を有する基、ＺはＸおよびＹ以外の有機基であり、ｌ、ｎ、ｍは各々、０ではない繰り返し単位数を示す。］
（Ｂ）分子中に２個以上の重合性反応基を有する化合物、および（Ｃ）光重合開始剤を含有し、かつ、成分（Ｃ）の含有率が０．０１〜０．３質量％である感光性樹脂組成物。該感光性樹脂組成物は、光導波路２４を構成するコア部分２０及びクラッド層１２，２２の材料となる。 （もっと読む）

【課題】光導波路等の光学材料等に利用可能な、耐熱性、クラック耐性、平坦化性、及び耐剥離性に優れる硬化物を形成し得る硬化性組成物を提供する。
【解決手段】一般式：（Ｒ¹）_p（Ｒ²）_qＳｉ（Ｘ）_4-p-q ［式中、Ｒ¹はフッ素原子を含有する炭素数が１〜１２である非加水分解性の同一であるか又は異なる有機基を示し、Ｒ²はフッ素原子を含有しない炭素数が１〜１２である非加水分解性の有機基を示し、Ｘは同一であるか又は異なる加水分解性基を示す。また、ｐは１又は２であり、ｑは０又は１である。］で表される加水分解性シラン化合物の加水分解物及び／又はその縮合物と、鱗片状フィラーとを含有する硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】光導波路の下部クラッド層の材料として用いることにより、光導波路の形成時に発生する収縮応力を緩和して、高温高湿等の条件下でも長期に亘って基材からの光導波路の剥離を防止することのできる光導波路用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ウレタン（メタ）アクリレート３５〜６９．９８質量％、（Ｂ）エチレン性不飽和基を１つ含む化合物３０〜６４.９８質量％、（Ｃ）アクリロイル基を２つ以上含む（メタ）アクリレート０〜２０質量％、（Ｄ）ラジカル性光重合開始剤０．０１〜１０質量％および（Ｅ）酸化防止剤０．０１〜３質量％を含有する感光性樹脂組成物。該感光性樹脂組成物２は、基板１上に塗布され、光導波路１３を構成する第一の下部クラッド層４を形成する。 （もっと読む）

【課題】 光の進路をコンパクトに方向変換する光導波路装置、及び、その光導波路装置と他の光部品（発光素子、受光素子、光ファイバ、或いは光導波路など）とを位置合わせして基体に位置固定し、光学的に結合した光結合装置を提供すること。
【解決手段】 クラッド２とコア３との接合体からなる光導波路１の両端面４と５を、４５度に傾斜した反射面に形成する。一方の端面４に対向して、支持体１２のＶ字溝１４によって調芯された光ファイバ８を配置し、その端面を光導波路主面６に接着固定して、光導波路１と光ファイバ８との光結合を形成する。他方の端面５には、面型の受発光素子４６を対向配置する。光導波路１と受発光素子４６との位置合わせは、光導波路１の下部クラッドに設けた嵌合用凸部１１と、実装基板４１に設けた嵌合用凹部４２との凹凸嵌合によって行い、これを補助するガイドピン１３とガイド孔４３を、支持体１２と実装基板４１に設ける。 （もっと読む）

【課題】 光軸調心が容易な光回路及びその製造方法を提供するものである。
【解決手段】 本発明に係る光回路１０は、ガラス基板１１の一方の平面上に設けたクラッド層１２内に、そのクラッド層１２よりも高屈折率の光伝搬パターン１３を設けた回路部１４を有するものである。ガラス基板１１の他方の平面上にはメタルパターン１５が設けられ、クラッド層１２内に、このメタルパターン１５と略同形状の光伝搬パターン１３が設けられる。 （もっと読む）

【課題】光通信に使用される近赤外領域で高い透明性と低い屈折率を示し、高周波エレクトロニクス材料として有用な低誘電率を有し、加工性に優れたポリベンゾオキサゾール樹脂とその前駆体を提供すること。
【解決手段】
主鎖に、３つのベンゼン環が２個の酸素原子によって連結された構造を有するフッ素化ジカルボン酸モノマー成分に由来する繰り返し単位を有し、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィによりポリスチレン換算値として測定される重量平均分子量が３，０００〜１，０００，０００の範囲内であるポリベンゾオキサゾール樹脂前駆体、該前駆体を環化してなるポリベンゾオキサゾール樹脂、該樹脂から形成された成形体、これらの製造方法、樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 光ファイバとの結合部における結合損失を低減するとともに、結合手段の簡易化を図ることができ、これにより、低伝搬損失であって、実装時を含むコスト性にも優れた光導波路を提供する。
【解決手段】 コア層１と、溝部３を有するクラッド層２とを含み、信号光を入射−伝播−出射する光導波路１０である。コア層１の断面寸法が、入射側と出射側とにおいて異なる。好適には、コア層１の入射側の断面寸法が、出射側の断面寸法より大きい。コア層１の、入射側および出射側の断面形状は、矩形または略円形とすることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 光導波路配線基板における光導波路配線及び光電気混載基板における光導波路配線と電気配線の導通の良否を検査する方法において、検査光信号の挿入損失を低減することが可能な検査方法を提供すること。
【解決手段】光導波路配線基板に形成された光導波路配線の導通の良否を、光導波路配線基板に重ねた検査用基板を用いて判定する検査方法であり、検査用基板の入力部を介して検査用光信号を光導波路配線基板面上の光入力部に入射させ、光導波路を導波した検査用光信号を光導波路配線基板面上の光出力部から出射させ検査用基板の出力部を介して取り出し検出することにより光導波路配線の導通の良否を判定する検査方法、前記検査用基板に更に電気配線検査端子を設け、光電気混載基板における光導波路及び電気配線の導通の良否を判定する検査方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、例えば光通信などにおいて、光分波器及び合波器などに適用される、偏光変化、コア層の作成時に起こる望ましくない膜厚変化、屈折率変化及び温度変化に強い高分子光導波路回路デバイスを得ることである。
【解決手段】基板の表面上に作られ、光導波路コアは、1.506〜1.567の屈折率n_gと0.008〜0.01の複屈折を有する高分子であり、光導波路コアを覆う下部クラッド層と上部クラッド層の材料は1550nm波長では1.503〜1.562の屈折率n_cと0.008〜0.01の複屈折を有する高分子である。またその光導波路コアの断面形状は8μm の幅と7〜8μmの厚さを有する矩形であり、一方の方向性結合器の平行部長さは0.691〜0.841mm或いは1.924〜2.381mm、他方の方向性結合器の平行部長さは1.924〜2.381mm或いは0.691〜0.841mm、一方の方向性結合器の平行部間隔は4.5〜5.2μm、他方の方向性結合器の平行部間隔は4.5〜5.2μm及び光導波路コアの長さの差ΔLは0.37〜0.45μmに構成される。 （もっと読む）

【課題】 量産性の向上および低コスト化を図ることができ、かつ、作業性および生産安定性に優れる光導波路の製造方法を提供すること。
【解決手段】 長尺の基材１の上に、フルオレン誘導体層２を連続して塗工し、これを硬化させてアンダークラッド層３を形成する。次いで、アンダークラッド層３の上に、感光性フルオレン誘導体層４を連続して塗工し、フォトマスク５を介して連続して所定のパターンで露光した後、連続して露光後加熱する。その後、連続して現像し、感光性フルオレン誘導体層４を所定のパターンに形成した後、連続して硬化させ、アンダークラッド層３の上にコア層６を所定のパターンで形成する。その後、アンダークラッド層３の上に、コア層６を被覆するように、フルオレン誘導体層８を連続して塗工し、これを硬化させて、オーバークラッド層７を形成する。 （もっと読む）

【課題】光通信に使用される近赤外領域で高い透明性と低い屈折率を示し、高周波エレクトロニクス材料として有用な低誘電率を有し、加工性に優れたポリベンゾオキサゾール樹脂とその前駆体を提供すること。
【解決手段】主鎖にパーフルオロアルキレン基を持つ繰り返し単位を有し、かつゲル・パーミエーション・クロマトグラフィによりポリスチレン換算値として測定される重量平均分子量が３，０００〜１，０００，０００の範囲内であるポリベンゾオキサゾール樹脂、その前駆体、これらの製造方法、該樹脂から形成された光学素子、光学部品、高周波エレクトロニクス部品。 （もっと読む）