【課題】固浸レンズの移動をスムーズに実施可能であると共に、固浸レンズと観察対象の密着性を高めることが可能なレンズホルダ機構、電子装置の解析装置及び固浸レンズの制御方法を提供する。
【解決手段】電子装置の解析装置１００は、電子装置が発する光を検出するための固浸レンズ１０１と、固浸レンズに取り付けられる磁石１１２と、磁力により磁石の位置を調節する電磁石１１４と、磁石の変位を検出するセンサ１１５と、センサからの情報に応じて電磁石の磁力及び位置を制御する制御回路と、を備える。 （もっと読む）

【課題】３次元で移動可能で、アナライザ中の光学系を移動させることなくサンプルの焦点を得るために使用されることができる、分析されるサンプルを含むスライドを運搬するためのロボットを有するアナライザを提供する。
【解決手段】カメラ７と、中間光学系８と、前方光学系９と、を有する光学系６を具備する、生物標本の光学分析のためのアナライザ１である。このアナライザ１は、中間光学系８が移動可能に配置されており、前方光学系９が固定して配置されていることを特徴とする。また、生物標本の光学分析のためのアナライザ１が、スライド上に分析されるサンプルを運搬するためのロボット３を具備する。このアナライザ１は、ロボット３が、このロボット３の３次元の移動を可能にするように、少なくとも３つのモータによって制御されることを特徴とする。ロボット３は、スライドを把持するように構成されたハンドリング装置を有する。 （もっと読む）

【課題】人工授精における一連の操作のように、液浸を用いる観察と用いない通常の観察の両方に対応でき、しかも通常の観察を行う間は試料を直接加温でき、精度の高い温度管理が可能な顕微鏡観察用加温装置を提供する。
【解決手段】仮想線で示す穴開き加温プレート部５上のデッシュＤを、実線で示すように透明加温プレート部７の中央部へ移動させる。このとき、デッシュＤを穴開き加温プレート部５と透明加温プレート部７上においてＬ方向へスライドさせるようして移動する。穴開き加温プレート部５の上面と透明加温プレート部７の上面とが同一平面上に設けられ、段差部がないので、デッシュＤをスムーズにスライド可能であり、迅速にデッシュＤを透明加温プレート部７の中央部に備えることができる。デッシュＤを持ち上げる必要がないので、デッシュＤに加わる振動を最小限に抑えることが可能で、精子Ｈ、卵子Ｅに悪影響が及ぶのを防止できる。 （もっと読む）

【課題】液浸液の蒸発に起因する基板冷却の補償を改善する。
【解決手段】基板テーブルアセンブリ、液浸リソグラフィ装置およびデバイス製造方法が開示される。基板テーブルアセンブリは、基板を支持する基板テーブルと、基板テーブルと基板テーブル上に搭載された基板との間の領域にガスを供給するガスハンドリングシステムとを備える。ガスハンドリングシステムにより供給されるガスは、２９８Ｋで１００ｍＷ／（ｍ．Ｋ）以上の熱伝導率を有する。 （もっと読む）

【課題】汚染に起因する性能の劣化を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光の光路を第１液体で満たすように第１液体で液浸部を形成可能な第１部材と、第１部材から離れた位置で第２液体で液浸部を形成可能な第２部材と、所定部材と第２部材との間の第２液体に振動を与える振動発生装置とを備え、第２液体を用いて所定部材をクリーニングする。 （もっと読む）

【課題】光学素子に対する局所的な熱による環境影響を簡単に補償することを可能にする光学結像装置および光学結像法を提供する。
【解決手段】投影パターンを有するマスクを収容するためのマスク装置と、光学素子群を有する投影装置と、基板を収容するための基板装置と、液浸ゾーン１１０とを備える、特にマイクロリソグラフィで使用するための光学結像装置である。光学素子群が、基板に投影パターンを投影するように構成されており、作動中に少なくとも一時的に液浸ゾーン１１０に隣接して配置される液浸素子を有する複数の光学素子を備える。作動中に液浸ゾーン１１０が液浸素子と基盤との間に配置され少なくとも一時的に液浸媒体１１０．１が充填される。熱減衰装置１１１が設けられており、この熱減衰装置１１１は、液浸媒体１１０．１によって液浸素子の温度分布ＴＥに誘発される変動を減じるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】液浸露光装置において、投影システムと基板との間からの液体のオーバーフローや液体への気泡含有の機会を軽減するように対策がとられた液体供給システムを提供する。
【解決手段】投影システムＰＬと基板Ｗの間に少なくとも部分的に液体を閉じ込めるバリア部材１０に、突出体１００を設けた。突出体１００はバリア部材１０の他の部分より投影システムＰＬに近接しており、液体のメニスカス１１０が突出体１００と投影システムＰＬとの間に張り付くのを助ける。 （もっと読む）

【課題】
リソグラフィック装置及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】
投影システムの最終エレメントと基板Ｗの間に配置される液浸液と共に使用するためのリソグラフィック投影装置を開示する。投影システム、基板テーブル及び液体拘束システムのコンポーネントを保護するための複数の方法を開示する。これらの方法には、投影システムの最終エレメント２０に保護コーティングを施すステップと、コンポーネントの上流側に犠牲体を提供するステップが含まれている。また、ＣａＦ_２の２コンポーネント最終光学エレメントを開示する。 （もっと読む）

【課題】対物レンズ上から除去したイマージョン液の飛沫が標本容器の表面に付着することを防止する。
【解決手段】標本Ａを収容する標本容器６に対向して配置され、標本容器６内の標本Ａからの光を集光する対物レンズ８と、該対物レンズ８と標本容器６との間の空間に供給されたイマージョン液を、圧縮空気の噴射により除去するイマージョン液除去手段１６と、標本容器６と対物レンズ８との間に挿脱可能に設けられる遮蔽板部材１７と、イマージョン液除去手段１６により圧縮空気が噴射される際に、遮蔽板部材１７を標本容器６と対物レンズ８との間に挿入する駆動機構１８とを備える顕微鏡装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の液体供給系内での圧力勾配を減少するために、各種圧力調整手段を開示する。
【解決手段】液体供給系は、リソグラフィ装置の投影系と基板テーブルとの間に液体を少なくとも部分的に閉じ込めるように構成された封液構造体を有する。高い圧力勾配は、液体供給系および／または封液構造体内で微粒子汚染を引き起こす可能性がある。例えば、１つまたは複数の弁のゆっくりとした切り換えの使用によって、１つまたは複数の弁を迂回する、または弁を通る抽気流の使用によって、弁を閉位置に切り換えるのではなく、または、それに加えて排液路への液体の分岐の使用によって、衝撃波を防ぐための圧力制御装置または流速制限器の使用によって、かつ圧力変動を補償するための緩衝容量の液体／ダンパの使用によって、圧力勾配を低減化できる。 （もっと読む）

【課題】ビームが通過する液浸液内に泡が形成されるリスクを低減する。
【解決手段】液浸リソグラフィ装置では、基板テーブル上のギャップのサイズ又は領域を低減することで液浸液内の泡の形成が低減又は防止される。ギャップのサイズは、例えば、ＢＥＳ（泡抽出システム）リングとして周知のリングであってもよい縁部材を用いて低減される。例えば、望ましくは基板の縁部を圧縮することなく縁部材を適当なサイズに低減してギャップを可能な限り低減するために、基板の形状及び／又は断面寸法（例えば、直径）に関する情報、又はギャップのサイズに関する情報が縁部材を制御するコントローラへ送信される。代替的に又は追加的に、基板及び／又は基板テーブルの表面の縁部に隣接する縁部材を移動させることでギャップを低減することができる。 （もっと読む）

【課題】解像度が改善された代替方法及び装置を提供する。
【解決手段】パターン化されたビームを基板に投影する投影システムと、前記投影システムの最終エレメントと前記基板との間に液体を供給するための液体供給システムと、を備えたリソグラフィ投影装置であって、前記液体供給システムは、前記投影システムの画像視野周りに形成されるリザーバに前記液体を閉じ込める疎水性表面を備える、リソグラフィ投影装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置およびデバイス製造方法と組み合わせて用いられる加湿装置および加湿方法を提供する。
【解決手段】ガスがメンブレンの第１の側に供給され、液体が同メンブレンの第２の側に供給される加湿装置が開示される。このメンブレンは液体に対して非浸透性であるが、液体の蒸気に対しては浸透性があり、前記液体に対しては液親性である。 （もっと読む）

【課題】光学系に発生する歪みを抑制するとともに、外来光によるノイズの増加を防止して、精度の高い観察を行う。
【解決手段】標本を収容して恒温恒湿を維持しつつ培養する培養部３と、該培養部３を保持するステージ４と、光源２からの照明光を標本に集光する第１の集光光学系５と、標本を透過した透過光を集光する第２の集光光学系６と、標本における照明光の集光位置と光学的に共役な位置に配置され、第２の集光光学系６により集光された透過光の一部を遮断する透過用ピンホール７と、透過用ピンホール７を通過した透過光を検出する透過用光検出器８と、これらとステージ４とを相対的に移動させる移動機構と、これらを取り囲み外光を遮断する筐体９と、筐体９内の温度を制御する温度制御部１０，１１，１２とを備える顕微鏡装置１を提供する。 （もっと読む）

本発明は試料領域（Ｐ）を照明する光のシートを生成する照明装置（１９）を含む顕微鏡に関し、シートは照明ビーム経路の照明軸（Ｘ）方向及び照明軸に対し直角に位置する横軸（Ｙ）方向に略平面状に延在している。顕微鏡は試料領域からの放射光を検出ビーム経路の検出軸（Ｚ）に沿って検出する検出装置（１）を更に備え、照明軸と検出軸、並びに横軸と検出軸は互いに対しゼロでない角度に向いている。検出装置は、検出ビーム経路内に配置された検出レンズ系（２）と、検出ビーム経路を２つのビームサブ経路（１４、１５）に分割する分割手段とを含み、空間分解面検出器（４）又は（４’）がそれぞれのビームサブ経路内に配置され、面検出器に検出すべき光を結像させることができ、分割手段は、空間分解面検出器に対して無限遠領域（１２）に近接してビーム経路内に配置された少なくとも１つのダイクロイックビームスプリッタ（１３、４０）を含む。
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本発明は試料領域（Ｐ）を照明する光のシートを生成する照明装置（１９）を含む顕微鏡に関し、シートは照明ビーム経路の照明軸（Ｘ）方向及び照明軸に対し直角に位置する横軸（Ｙ）方向に略平面状に延在している。顕微鏡は試料領域からの放射光を検出ビーム経路の検出軸（Ｚ）に沿って検出する検出装置（１）を更に備え、照明軸と検出軸、並びに横軸と検出軸は互いに対しゼロでない角度に向いている。照明装置は、回転対称光ビームを生成する手段と、所定の時間間隔で横軸に沿って試料領域を光シートスキャナのように走査する走査手段とを有する第１の光のシート生成手段を含み、光のシートを生成する少なくとも１つの非点収差レンズを含む第１の非点収差的に作用する光学素子（２７）を有する第２の光のシート生成手段を含む。顕微鏡は光のシートを生成するために第１又は第２の光のシート生成手段の何れか又は両方を共に選択する選択要素を更に有する。
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【課題】 イマージョンレンズの試料上への移動、設置、及び位置決めを効率的に実行することが可能なイマージョンレンズ支持装置を提供する。
【解決手段】 固浸レンズ２０を、そのレンズ下面２２が下部開口３２を通して下方に突出した状態で固定せずにフリーな状態で保持するレンズホルダ３０と、レンズホルダ３０の上部開口３１に対して設けられ、固浸レンズ２０側となるカバー下面４２が光軸に垂直な平面上にあって、固浸レンズ２０の球面状のレンズ上面２１と１点接触するレンズカバー４０とによって、固浸レンズ支持装置を構成する。また、レンズカバー４０において、対物レンズを介して観察されるレンズカバー４０の像を参照して、対物レンズに対する固浸レンズ２０の位置決めを行うことが可能な位置決め部を設ける。 （もっと読む）

【課題】試料を観察、測定する際に、測定の為の移動量が多い場合でも、また長時間にわたる場合でも、対物レンズ先端部に供給される液浸媒質が対物レンズ先端部からこぼれおちることが少ない液浸対物レンズ、液浸媒質の保持機構及びその製造方法を提供する。
【解決手段】液浸対物レンズは先端部、レンズ環部及びレンズ外枠から形成され、該レンズ環部は先端部のレンズからレンズ外枠１０に至る傾斜した面全体からなり、液浸対物レンズの先端部とレンズ環部とを含む領域内にレンズに先端部を取り巻くようにリング状に液浸媒質を保持するための第１の材質で表面処理した領域である液浸媒質を保持する第１のリング状部材（α部）を有し、第１のリング状部材の液浸媒質に対する親和性は、表面処理された領域の内側に連接する領域の液浸媒質に対する親和性より低い。 （もっと読む）

【課題】ハイパーレンズを用いてサンプルの光学特性の波長依存性の情報を入射光の波長以下のサイズで得る。
【解決手段】複数の光源波長と各光源波長に合わせて設計・作製したハイパーレンズ１００７をレーザ顕微鏡のレンズホルダ１００１に配置する。被観察物体の色素１００６をサンプルホルダ１００５に並べ、光源部１００３からの入射光１００８を入射し、ハイパーレンズ１００７を通過した光を顕微鏡３０７で受け、ＣＣＤカメラ３０９で観測する。光源波長毎に複数のサンプル像を取得し、複数のサンプル像を位置あわせ・強度合わせして重ね合わせる。 （もっと読む）

【課題】一方の振動が他方に伝わらないように２つの物体を結合する装置を提供する。
【解決手段】この露光装置は、投影光学系（ＰＬ）と基板（Ｐ）との間を液体（５０）で満たし、投影光学系（ＰＬ）と液体（５０）とを介して基板（Ｐ）上にパターン像を投影することによって基板（Ｐ）を露光する露光装置であって、投影光学系（ＰＬ）は、液体（５０）と接する光学部材（６０）を含む第１群（６０）と、その第１群（６０）とは異なる第２群（ＭＰＬ）とを含み、第１群（６０）は第１支持部材に支持され、第２群（ＭＰＬ）は第１支持部材とは異なる第２支持部材に分離して支持されている。 （もっと読む）