【課題】投影露光装置において、広い露光エリアを確保しながら、高精度のパターンを形成する。
【解決手段】投影露光装置の投影光学系３０において、第１レンズ群３２、第２レンズ群３４、第３レンズ群３６、第４レンズ群３８を備え、第１レンズ群３２と第２、３レンズ群３４、３６との間に、偏光ビームスプリッタ４０を配置する。そして、マスクＰＭの光軸上点からのマージナル光線ＭＬ１、ＭＬ２が偏光ビームスプリッタ４０の入射面に対し垂直入射するように、第１レンズ群３２の光学特性が定められている。 （もっと読む）

【課題】マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明光学系を提供する。
【解決手段】マイクロリソグラフィ投影露光装置（１）用の照明光学系は、光源（２、２’）からの照明光（３、３’）で物体表面（１９）を照明するのに用いられる。少なくとも二つの照明設定を照明光学系の瞳面（１２）に設定するために、少なくとも二つの個々の光学モジュール（２８、２９）を用いる。光学モジュールの上流にある光路には、第１の光学モジュール（２８）及び／又は第２の光学モジュール（２９）に照明光（３、３’）を任意に送る分離要素（９）がある。二つの光学モジュール（２８、２９）の下流にある光路には、第１の光学モジュール（２８）及び／又は第２の光学モジュール（２９）を通過した照明光（３、３’）を照明領域に送る結合要素（３５）がある。これにより、照明光学系と光源をも有する照明系とがもたらされ、異なる照明設定間の高速切り換えが可能となる。 （もっと読む）

【課題】温度の影響による変形を低減する、ＥＵＶリソグラフィ用の光学機構、特に投影レンズと、光学素子を有する該光学機構を構成する方法とを提供する。
【解決手段】反射面３１ａ及び第１ゼロ交差温度Ｔ_ＺＣ１でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するＴｉＯ_２ドープ石英ガラスから構成された基板３２を備える第２ミラー２２と、反射面及び第１ゼロ交差温度とは異なる第２ゼロ交差温度でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するＴｉＯ_２ドープ石英ガラスから構成された第２基板を備える第２光学素子とを備え、第１ゼロ交差温度における第１基板３２の熱膨張率の勾配（ΔＣＴＥ_１>）及び／又は第２ゼロ交差温度における第２基板の熱膨張率の勾配（ΔＣＴＥ_２）は負の符号を有する光学機構に関する。 （もっと読む）

【課題】接着剤を用いて光学素子を光学素子保持装置に接着固定する場合でも、光学素子の歪みや変形を極力除去して、その光学素子を光学素子保持装置に固定することのできる光学素子保持装置への光学素子の接着方法を提供する。
【解決手段】本発明の光学素子保持装置２０への光学素子ＬＥＮの接着方法は、光エネルギーの照射により硬化する第１接着剤２０ｓを用いて局所的に光学素子ＬＥＮを保持枠部材２０Ｃに仮止めするステップと、光学素子ＬＥＮの外周部２０ｔを第１接着剤２０ｓよりも硬化時間の遅い第２接着剤２０ｘを用いて保持枠部材２０Ｃに接着固定するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】光学要素を取り付けるのに十分な設計空間を、特に対物系の前方部分に確保する投影対物系を提供する。
【解決手段】物体視野が形成される物体平面（２０、１００、３００、２１０３）と、入射瞳（ＶＥ）と、前記物体平面において前記入射瞳（ＶＥ）を鏡像化することによって得られる、鏡像化入射瞳平面（１０３）内の鏡像化入射瞳（ＲＥ）と、像平面（２１、１０２、３０２、２１０２）と、光軸（ＨＡ）と、少なくとも第１の鏡（Ｓ１）と第２の鏡（Ｓ２）とを備える。この投影対物系の入射瞳のバック・フォーカスが負であり、物体視野の中心点から発生して、物体平面から像平面にかけて対物系を横断する主光線（ＣＲ、ＣＲＰ）が、少なくとも１つの交差点（ＣＲＯＳＳ）において光軸（ＨＡ）と交差し、すべての交差点（ＣＲＯＳＳ、ＣＲＯＳＳ１、ＣＲＯＳＳ２）の幾何学的位置が、像平面（２１、１０２、３０２、２１０２）と鏡像化入射瞳平面（１０３）との間にある。 （もっと読む）

【課題】 極紫外スペクトル範囲（ＥＵＶ）内の波長に向けて構成された反射投影レンズを用いてマスクを層上に結像するためのマイクロリソグラフィ投影露光装置を提供する。
【解決手段】 マイクロリソグラフィ投影露光装置は、投影光源（ＰＬＳ）と、加熱光源（ＨＬＳ）と、反射投影レンズ（２６）と、好ましくは投影レンズ（２６）の外側に配置され、ドライバ（１２４）を用いて第１の位置と第２の位置との間で変位させることができる反射スイッチング要素（１２２；２２２；３２２；４２２；１４；１４，１４０）とを含む。この場合、スイッチング要素の第１の位置では、投影光（ＰＬ）のみが投影レンズ（２６）に入射することができ、スイッチング要素の第２の位置では、加熱光（ＨＬ）のみがこの投影レンズに入射することができる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ投影露光装置の投影対物器械を修正／修理する方法を提供する。
【解決手段】屈折力を有する少なくとも１つの第１の光学要素を含む複数の光学要素を対物面（１２）と像平面（１６）の間に含むリソグラフィ投影露光装置（１０）の投影対物器械を修正／修理する方法は、光学要素の全てを差し替えることなく、少なくとも１つの第１の光学要素を現場で投影対物器械から取り外す段階、少なくとも１つの第１の予備光学要素を少なくとも１つの第１の光学要素の位置で投影対物器械内に挿入する段階、及び投影対物器械の像品質を望ましい品質へと調節する段階を含む。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ露光プロセスに使用される、長期にわたって良好かつ信頼性の高い結像特性を有する光学結像装置を提供する。
【解決手段】マスクユニット３と、基板ユニット４と、光学素子ユニットのグループを有するパターンの転写に適合された光学投影ユニット２と、光学素子ユニットのうちの１つのコンポーネントである第１結像装置コンポーネントと、第１結像装置コンポーネントとは異なり、且つ、マスクユニット３、光学投影ユニット２、及び基板ユニット４のうちの１つのコンポーネントである第２結像装置コンポーネントと、計測装置１０と、を有する光学結像装置が提供されている。計測装置１０は、第１結像装置コンポーネントと第２結像装置コンポーネントとの間の空間的な関係をキャプチャしている。計測装置１０は、第１結像装置コンポーネントに直接的に機械的に接続されている基準素子１０．２を有している。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィプロセスのコストおよび複雑性の増加、スループットの低下、欠陥の増加などを解消する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを供給する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与するパターニングデバイスと、基板を保持する基板ホルダと、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、を備える。このリソグラフィ装置は、第１方向の明視野強度分布と、第１方向に略垂直な第２方向の暗視野強度分布とを有する放射を用いて、少なくとも使用中、パターンを基板上に結像する。 （もっと読む）

【課題】 グレイトーンマスクを用いたＴＦＴ基板の製造工程において、高画質かつ低価格の液晶パネルを高い歩留まりで生産し続けることが可能な露光装置および露光方法を提供すること。
【解決手段】 照明光学系と投影光学系を有する露光装置において、照明光学系内部に有効光源形状を変化させる有効光源形状調整手段と、投影光学系内部に静止ディストーションのばらつきを変化させる静止ディストーションばらつき調整手段と、プレートステージ上にあってマスク上のパターンを結像する２次元センサと、２次元センサが撮像した結果に基づき前記有効光源形状調整手段もしくは前記静止ディストーションばらつき調整手段のうち、少なくとも一つを調整する調整部を持つ。調整部は同一パターン内の光強度分布を調整することにより有効光源形状調整手段もしくは静止ディストーションばらつき調整手段を調整する。 （もっと読む）

【課題】第１に、マスクパターンのエッジ付近で生じる回折像の波形パターンのスイングを抑制し、露光対象基板上に形成されるパターンのエッジ形成位置のばらつきを低減することができ、第２に、マスクパターンのエッジ付近における回折像の波形パターンのスロープを急峻化することで、パターン線幅のばらつきを抑えることができるアライナ装置を提供する。
【解決手段】斜入射光学系４０を駆動させて、少なくとも入射角度±θの２つの照明光で露光対象基板２を露光し、照明光の入射角度±θに応じて露光対象基板２上で略平行にシフトする２つの回折像を重複させ、これら回折像の回折によるスイングを抑制する構成としてある。また、偏光変換光学系２０により、照明光の偏光方向を、マスクパターン１Ａのエッジ１ａと平行な方向に揃えて、露光対象基板２上に形成される回折像の回折によるスロープを急峻化する構成としてある。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィシステムを提供することである。
【解決手段】 パターンをターゲットの表面に転写するマスクレスリソグラフィシステムであって、複数の小ビームを発生するための少なくとも１つのビーム発生装置と、小ビームの大きさを変調するための複数のモジュレータを備えた変調手段と、モジュレータの各々を制御する制御ユニットとを備え、制御ユニットは、それぞれの小ビームの大きさを制御するために、パターンデータを発生し、前記モジュレータにパターンデータを伝送し、この制御ユニットがパターンデータを記憶するための少なくとも１つのデータ記憶装置と、データ記憶装置からパターンデータを読み取るための少なくとも１つの読み取りユニットと、データ記憶装置から読み取られたパターンデータを少なくとも１つの被変調光ビームに変換するための少なくとも１つのデータ変換装置と、少なくとも１つの被変調光ビームを前記変調手段に伝送するための少なくとも１つの光伝送装置とを備えている。 （もっと読む）

【課題】約６．４ｎｍから約７．２ｎｍの範囲の波長を有する放射を反射させるように構成された多層ミラーが提供される。
【解決手段】多層ミラーは、第１層および第２層を含む相互層を有する。第１層および第２層は、Ｕ層またはその化合物や窒化物層およびＢ_４Ｃ層、Ｔｈ層またはその化合物や窒化物層およびＢ_４Ｃ層、Ｌａ層またはその化合物や窒化物層およびＢ_９Ｃ層、Ｌａ層またはその化合物や窒化物層およびＢ_４Ｃ層、Ｕ層またはその化合物や窒化物層およびＢ_９Ｃ層、Ｔｈ層またはその化合物や窒化物層およびＢ_９Ｃ層、Ｌａ層またはその化合物や窒化物層およびＢ層、Ｕ層またはその化合物や窒化物層およびＢ層、Ｃ層またはその化合物や窒化物層およびＢ層、ならびにＴｈ層またはその化合物や窒化物層およびＢ層、からなる群から選択される。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光以外の他の光を取り除き、ＥＵＶ光のみをマスクに供給することができる露光装置を提供する。
【解決手段】ミラー５１０の表面には、Ｍｏ／Ｓｉの多層膜が設けられており、この多層膜にブレーズド溝５１３が形成される。ＥＵＶ光源装置１から入射する光２０３，３０１は、ミラー５１０に入射し、反射または回折する。ＥＵＶ反射光２０４（ＥＵＶ回折光を含む）と、他の波長の光３０１Ａ，３０１Ｂとは、反射角度または回折角度が異なるため、進行方向が異なる。アパーチャやダンパによって他の光３０１Ａ，３０１Ｂを除去することにより、純度の高いＥＵＶ光をマスク６００に照射することができる。 （もっと読む）

【課題】マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システムを提供する。
【解決手段】照明システムは、ミラー配列１４０によって反射される光の角度分布を変更するための互いに独立に変位可能な複数のミラーユニット１４１，１４２，１４３を有するミラー配列１４０と、異なるミラーユニット上に入射する少なくとも２つの異なる偏光状態を生成するために、光伝播方向にミラー配列１４０の前に配置された少なくとも１つの要素１３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明光学系を提供する。
【解決手段】マイクロリソグラフィ投影露光装置（１）用の照明光学系は、光源（２、２’）からの照明光（３、３’）で物体表面（１９）を照明するのに用いられる。少なくとも二つの照明設定を照明光学系の瞳面（１２）に設定するために、少なくとも二つの個々の光学モジュール（２８、２９）を用いる。光学モジュールの上流にある光路には、第１の光学モジュール（２８）及び／又は第２の光学モジュール（２９）に照明光（３、３’）を任意に送る分離要素（９）がある。二つの光学モジュール（２８、２９）の下流にある光路には、第１の光学モジュール（２８）及び／又は第２の光学モジュール（２９）を通過した照明光（３、３’）を照明領域に送る結合要素（３５）がある。これにより、照明光学系と光源をも有する照明系とがもたらされ、異なる照明設定間の高速切り換えが可能となる。 （もっと読む）

【課題】照明瞳輝度分布の形状、大きさ、および偏光状態について多様性に富んだ照明条件を実現することのできる照明光学装置を提供する。
【解決手段】照明光学装置は、光学ユニット３を備えている。光学ユニットは、入射光束を２つの光束に分割する光分割器３５と、第１光束の光路に配置可能な第１空間光変調器３３と、第２光束の光路に配置可能な第２空間光変調器３４と、第１空間光変調器を介した光束と第２空間光変調器を介した光束とを合成する光合成器３６とを備え、第１空間光変調器および第２空間光変調器は、二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素３３ａ，３４ａを有する。 （もっと読む）

【課題】照明瞳面、または被照射面における偏光分布を調整することにより、所望の偏光状態の光で被照射面を照明する照明光学装置を提供する。
【解決手段】光源１からの光に基づいて被照射面Ｍ、Ｗを照明する照明光学装置の瞳面における光の偏光分布を調整するために、偏光分布調整部材９を備えている。偏光分布調整部材は、照明光学装置の光軸ＡＸを中心として回転可能に配置されて、入射位置に応じて変化する旋光量を入射光に付与するための旋光部材を有する。旋光部材は、旋光性の光学材料により形成されて、光軸方向の厚さが光軸と直交する所定方向に沿って変化している。 （もっと読む）

【課題】照明光学ユニット、照明系、投影露光装置、微細構造化又はナノ構造化構成要素を生成する生成方法、及び生成された微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素を提供する。
【解決手段】結像される物体を配置することができる物体視野を照明光で照明する投影リソグラフィのための照明光学ユニットは、複数の視野ファセットを有する視野ファセットミラーを有する。照明光学ユニットの瞳ファセットミラーは、複数の瞳ファセットを有する。瞳ファセットは、瞳ファセットに対して個々に割り当てられた視野ファセットを物体視野に結像するように機能する。照明光学ユニットの個々のミラーアレイは、個々に従動方式で傾斜可能な個々のミラーを有する。個々のミラーアレイは、視野ファセットミラーの上流の照明光ビーム経路に配置される。これは、照明光学ユニットによって柔軟に構成可能で所定の値に容易に適応可能な照明をもたらす。 （もっと読む）

【課題】レチクル上に様々なピッチで形成されるパターンをいずれも高い解像度で安定して転写しうる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】斜入射照明を用いた露光を行うことにより、レチクル上に形成されたパターンを半導体基板上に転写する工程を有する半導体装置の製造方法において、斜入射照明を用いた露光を行う工程では、輪帯状の第１の開口部２２が形成され、第１の開口部の周辺に複数の第２の開口部２４ａ１〜２４ａ４が形成された開口絞り１６を用いて露光を行う。 （もっと読む）