【課題】消費電力を抑えつつ、複数の電気信号を並行処理で光信号に変換する。
【解決手段】データ信号Ｄａ１，Ｄａ２，Ｄａ３、およびクロック信号ＣＫａの数未満の数の発光ダイオード１１ａで構成された光源部１１と、データ信号Ｄａ１，Ｄａ２，Ｄａ３、およびクロック信号ＣＫａと一対一で対応して配設されたこれらの電気信号の数と同数の光シャッタ１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄとを備え、各光シャッタ１２は、対応する電気信号の信号内容に応じて、光源部１１から出射される光Ｌを透過する透過状態および光Ｌを遮光する遮光状態のうちの一方の状態から他方の状態、または他方の状態から一方の状態に移行することにより、上記の電気信号を光信号に並行処理で変換して出力する。 （もっと読む）

【課題】 レーザ光の集光制御を充分な自由度で好適に実現することが可能な光変調制御方法、制御プログラム、制御装置、及びレーザ光照射装置を提供する。
【解決手段】 空間光変調器を用いたレーザ光の集光照射の制御において、レーザ光の波長数、各波長の値、及びレーザ光の入射条件を取得し（ステップＳ１０１）、集光点数、及び各集光点での集光位置、波長、集光強度を設定し（Ｓ１０４）、各集光点について、レーザ光に付与する集光制御パターンを設定する（Ｓ１０７）。そして、集光制御パターンを考慮して空間光変調器に呈示する変調パターンを設計する（Ｓ１０８）。また、変調パターンの設計において、１画素での位相値の影響に着目した設計法を用いるとともに、集光点での集光状態を評価する際に、集光制御パターンの逆の位相パターンを加えた伝搬関数を用いる。 （もっと読む）

【課題】 レーザ光の集光制御での歪み補正を好適に実現することが可能な光変調制御方法、制御プログラム、制御装置、及びレーザ光照射装置を提供する。
【解決手段】 空間光変調器を用いたレーザ光の集光照射の制御において、レーザ光の波長数、各波長の値、及びレーザ光の入射条件を取得し（ステップＳ１０１）、集光点数、及び各集光点での集光位置、波長、集光強度を設定し（Ｓ１０４）、各集光点について、レーザ光に空間光変調器を含む光学系で付与される歪み位相パターンを導出する（Ｓ１０７）。そして、歪み位相パターンを考慮して空間光変調器に呈示する変調パターンを設計する（Ｓ１０８）。また、変調パターンの設計において、１画素での位相値の影響に着目した設計法を用いるとともに、集光点での集光状態を評価する際に、歪み位相パターンを加えた伝搬関数を用いる。 （もっと読む）

【課題】高スループットで高品質のレーザ加工をすることができて装置の小型化が可能であるレーザ加工装置等を提供する。
【解決手段】レーザ加工装置１は、レーザ光源１０、位相変調型の空間光変調器２０、駆動部２１、制御部２２、結像光学系３０を備える。結像光学系３０はテレセントリック光学系を含む。駆動部２１に含まれる記憶部２１Ａは、複数の基本加工パターンそれぞれに対応する複数の基本ホログラムを記憶するとともに、フレネルレンズパターンに相当する集光用ホログラムを記憶する。制御部２２は、記憶部２１Ａにより記憶された複数の基本ホログラムのうちから選択した２以上の基本ホログラムを並列配置し、その並列配置した各基本ホログラムに集光用ホログラムを重畳して全体ホログラムを構成し、その構成した全体ホログラムを空間光変調器２０に呈示させる。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器を通過する高強度の光源を必要とせずに、単一通過、高解像度、高速度の画像形成システムを提供する。
【解決手段】高エネルギ赤外レーザから均質光を発生させる均質光発生器１１０、２次元アレイ内に配列された光変調素子を含む空間光変調器１２０、およびアナモフィック光学システム１３０を含む画像形成システム。光変調素子は、各変調素子が関連均質光部分を受信するように配置され、「オン」変調状態と「オフ」変調状態との間で個々に調整可能であり、それによって「オン」変調状態において各変調素子は、関連変調光部分がアナモフィック光学システム１３０の中の対応する領域上へ向けられるように、受信した均質光部分を変調する。次いでアナモフィック光学システム１３０は、変調光部分をアナモフィックに集光して、スキャンライン画像を形成する。 （もっと読む）

【課題】複数の一次元スキャンライン画像を同時に生成するために使用が可能な高信頼かつ高速の画像形成システムを提供する。
【解決手段】複数行および複数列に配置される光変調素子を有する空間光変調器１２０を用いて二次元均質光場１１９Ａを変調することにより、２つの略一次元スキャンライン画像ＳＬ１、ＳＬ２を同時発生させる。上側の変調素子グループは、第１のスキャンライン画像データグループを用いて構成され、かつ下側の変調素子グループは、第２のスキャンライン画像データグループを用いて構成される。次に、二次元均質光場を空間光変調器上へ方向づけるために、均質光源１１０がパルスされる。二次元変調光場１１９Ｂはアナモルフィック光学系１３０を介して方向づけられ、アナモルフィック光学系は、画像形成面上に２つの平行する一次元スキャンライン画像が同時に形成されるように、変調光を画像形成面上へ画像化し、かつ集中させる。 （もっと読む）

【課題】単一パス高解像度高速印刷用途に使用されることが可能な高信頼でしかも高出力である画像形成システムを提供する。
【解決手段】アナモルフィック光学系１３０Ｅは、画像形成面１６２Ｅから湿し溶液を気化するに足るエネルギーを有するライン画像を発生するために、１つまたは複数の円柱／非円柱レンズ１３４Ｅにより全屈折配置に形成される、または円柱／非円柱レンズおよびミラーの組合せによって形成される工程方向サブ光学系１３７Ｅを含む。また、本アナモルフィック光学系は、変調光場１１９Ｂを工程横断方向に画像化するために１つまたは複数の円柱／非円柱レンズ１３８Ｅおよび任意選択の円柱／非円柱視野レンズにより形成される工程横断方向サブ光学系１３３Ｅも含む。本アナモルフィック投影光学系は、ライン画像の複数のピクセル画像の同時的発生を容易にし、１２００ｄｐｉ以上での印刷を容易にする。 （もっと読む）

【課題】光変調しない画素有効領域外からの出射光を抑制して、コントラストを向上させた反射型の空間光変調器を提供する。
【解決手段】基板７上に２次元配列された画素４からなる空間光変調器の画素アレイ４０は、各画素４の光変調素子同士を絶縁する素子間絶縁層５を、光の入射される側から順に低屈折率絶縁層５２およびそれよりも屈折率の高い高屈折率絶縁層５１の少なくとも２層を積層して備える。光が高屈折率絶縁層５１の上下界面で多重反射して閉じ込められることにより減衰して、出射光が抑制される。 （もっと読む）

【課題】ＭｇＯを障壁層として磁化反転電流を低減したＴＭＲ素子構造を備える光変調素子を提供する。
【解決手段】光変調素子５は、磁化固定層１１、ＭｇＯからなる障壁層１２、磁化自由層１３を積層してなるＴＭＲ素子構造１と、その上下に接続した上部電極３、下部電極２を備える。下部電極２は、組成がＣｕ_1-xＣｒ_x（０．０７＜ｘ＜０．４２）である非晶質のＣｕ−Ｃｒ合金からなり、磁化固定層１１は非晶質の磁性体からなり、このような非晶質の層の上に、障壁層１２としてＭｇＯ膜が形成されるため、ＭｇＯ膜が強い（００１）面配向を示して、ＴＭＲ素子構造１の磁化反転電流を低減できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光通信システム用の放射電力等化器に関する。
【解決手段】本発明は、光通信システム用の放射電力等化器を提供し、該等化器は、（ａ）１つ又はそれ以上の放射成分に分割する光デマルチプレクサ（３００）、（ｂ）前記１つ又はそれ以上の放射成分を選択的に伝送又は減衰する液晶セル・アレー（３１０）、（ｃ）光マルチプレクサ（３３０）、（ｄ）１つ又はそれ以上の対応する成分放射電力を示す信号を生成するＰＩＮダイオード検出器アレー（１２０）と結合した発信器エルビウムドープ・ファイバ増幅器（７０）、及び、（ｅ）制御モジュール（１３０）を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 光波長多重信号の偏光面を波長成分ごとに調整することができ，しかも各成分に時間的なずれが生じない，波長選択偏波制御器を提供する。
【解決手段】 この波長選択偏波制御器は，光波長多重信号が入射するテレセントリック光学系１１と，テレセントリック光学系から出力された光の偏波面を調整する偏波制御器１２と，偏波制御器からの出力を光路へと出力するための出力光学系１３と，を有する。テレセントリック光学系１１は，光波長多重信号が入射する第１の回折格子１５と，回折格子１５を経た光波長多重信号を集光する第１の集光レンズ１６と，を有する偏波制御器１２は，複数の位相変調器２１，２２，２３を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マスクレス加工装置に関する。
【解決手段】本発明のマスクレス加工装置は、基板に照射される光を提供する照明光学系と、多数の光変換素子で構成され、前記照明光学系から照射された光を加工パターンに応じて選択的に反射または透過するように当該光変換素子を調節して光量を変換する空間光変調器と、前記多数の光変換素子が前記基板の一つのピクセルに対応して集光するように配列され、前記空間光変調器により変換された光が入射されると、当該ピクセルに前記多数の当該光変換素子によって提供された高エネルギーの光を投射する投射光学系と、前記加工パターンの入力を受け、入力された加工パターンに応じて、前記光源から照射された光を前記多数の光変換素子によって選択的に変換されるように前記空間光変調器を制御する制御部と、を含み、デジタルマスクを用いることにより、マスク使用によるコストが低減し、加工しようとする対象のスケール変形に対する能動的な対応が容易であるだけでなく、前記装置の活用度及び利用度が拡大される。 （もっと読む）

【課題】スピン注入型磁化反転素子を用いた光変調素子の光変調度を向上することを目的とする。
【解決手段】磁化固定層１１と、非磁性中間層１２と、磁化自由層１３とをこの順で積層したスピン注入型磁化反転素子構造と、このスピン注入型磁化反転素子構造の上下に設けられた一対の電極２，３とを備え、当該一対の電極２，３を介して電流を供給されることにより磁化自由層１３の磁化方向を変化させて、入射した光をその偏光方向を変化させて出射する光変調素子１０において、一対の電極２，３のうち、磁化固定層１１側に設けられた電極である下部電極３は、少なくとも上層部がＡｇからなるように構成した。 （もっと読む）

【課題】中間色、特に視感度が高い赤色と緑色の組み合わせで表示される中間色の色相ズレを低減することができるようにする。
【解決手段】赤色、緑色および青色の各色レーザ光をそれぞれ出力する赤色、緑色および青色の各レーザ光源装置と、これらの各レーザ光源装置から時分割で順次出力されるレーザ光を映像信号に基づいて変調する空間光変調素子と、１フレームを構成する複数の点灯区間ごとにレーザ光源装置の点灯を制御するとともに、空間光変調素子での各色レーザ光の出力を制御する制御部と、を備え、緑色レーザ光源装置は、ＣＩＥｘｙ色度図上において標準緑色よりも高いｙ値を有する緑色レーザ光を出力し、制御部は、隣接する２つのフレームに跨って緑色および赤色の順序で点灯するＧＲ点灯パターンを含む点灯順序でレーザ光源装置を点灯させる構成とする。 （もっと読む）

【課題】周辺部分に非表示部分がある空間光変調器を複数並べた電子ホログラフィ表示装置で、隣の空間光変調器との境界部分で画像が途切れがちであるが、これがないようにする。
【解決手段】空間光変調器と拡大光学系を備える表示ユニットの複数を横に並べた面と、閲覧者との間に、光学系を配置して、上記の画像が途切れることを解決する。つまり、空間光変調器から出射した光を、拡大光学系を用いてそれぞれの表示ユニット毎に上記光学系で拡大し、複数の表示ユニットからの光を連結させて、表示面全体に広がる一連の画像にする。その際に、上記非表示部分からの光を遮光板で遮蔽する。次に、その一連の画像を縮小光学系で縮小する。これにより、その個々の空間光変調器の画素数や分解能などの表示特性を損なうことなく、上記の非表示部分の影響を除外でき、その部分で画像が途切れないようにする。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器を用いた波長選択スイッチにおいて、所望の位相シフト関数を再現すること。
【解決手段】本実施例の波長選択スイッチでは、入射信号光及び回折信号光と空間位相変調器であるＬＣＯＳとの位置関係は、ＬＣＯＳのピクセル面の直交する２方向のうちの一方の方向は、ＬＣＯＳへ入射する入力信号光の波長分散方向に一致するように配置され、他方の方向のみが回折信号光の回折方向となっている。この場合、チャネル帯域は、線分散と無関係となるため、帯域の制限から決まるスポットサイズの上限は制限されないことになる。一方で式（２０）で表されるスポットサイズの下限は、スポットサイズに対して位相変調関数が粗すぎて、空間位相変調器上に集光されたガウシアンビームが高い周波数成分をもった変調関数を感じてしまうことに起因しており、線分散とは無関係に生じるため本実施例においても適用される。 （もっと読む）

【課題】スピン注入型磁化反転素子の中間層におけるＭｇＯの（００１）面配向性を向上する。
【解決手段】光変調素子（スピン注入型磁化反転素子）５は、垂直磁気異方性を示す磁化固定層５１と、ＭｇＯからなる中間層５２と、垂直磁気異方性を示す磁化自由層５３とをこの順で積層したトンネル磁気抵抗型のスピン注入型磁化反転素子構造を備え、スピン注入型磁化反転素子構造の上下に設けられた一対の電極２、３を介して電流を供給されることにより磁化自由層５３の磁化方向を変化させて、入射した光をその偏光方向を変化させて出射する。ここで、磁化自由層５３は、遷移金属または遷移金属を含む合金からなる界面層５３ｂと、Ｔａ膜またはＲｕ膜からなる緩衝層５３ｃと、磁化方向が反転される磁性層である主層５３ａとをこの順で積層して構成した。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器を用いた分散補償器において、所望の位相シフト関数を再現すること。
【解決手段】複数波長の信号光が多重された波長多重信号光は、光ファイバを通じて、光サーキュレータ１０の第１のポート１１から入力されて第２のポート１２から出力され、スラブ導波路を1つだけ有するアレイ導波路回折格子２０へ入力される。アレイ導波路回折格子２０において、波長多重信号光はそれぞれの波長毎に空間分離され、アレイ導波路回折格子２０の集光レンズ３０の側に取り付けられたレンズ（図示せず）によりコリメートされた後、集光レンズ３０で空間位相変調器４０上に集光される。異なる波長の信号光は、それぞれ空間位相変調器４０上の異なる領域にスポットサイズｗで集光される。スポットサイズｗは、空間位相変調器４０が有する位相付与素子の幅Ｘ、チャネル帯域Ｂ₀等との関係で所定の不等式を満たすように制限されている。 （もっと読む）