【課題】光学要素を取り付けるのに十分な設計空間を、特に対物系の前方部分に確保する投影対物系を提供する。
【解決手段】物体視野が形成される物体平面（２０、１００、３００、２１０３）と、入射瞳（ＶＥ）と、前記物体平面において前記入射瞳（ＶＥ）を鏡像化することによって得られる、鏡像化入射瞳平面（１０３）内の鏡像化入射瞳（ＲＥ）と、像平面（２１、１０２、３０２、２１０２）と、光軸（ＨＡ）と、少なくとも第１の鏡（Ｓ１）と第２の鏡（Ｓ２）とを備える。この投影対物系の入射瞳のバック・フォーカスが負であり、物体視野の中心点から発生して、物体平面から像平面にかけて対物系を横断する主光線（ＣＲ、ＣＲＰ）が、少なくとも１つの交差点（ＣＲＯＳＳ）において光軸（ＨＡ）と交差し、すべての交差点（ＣＲＯＳＳ、ＣＲＯＳＳ１、ＣＲＯＳＳ２）の幾何学的位置が、像平面（２１、１０２、３０２、２１０２）と鏡像化入射瞳平面（１０３）との間にある。 （もっと読む）

【課題】 極紫外スペクトル範囲（ＥＵＶ）内の波長に向けて構成された反射投影レンズを用いてマスクを層上に結像するためのマイクロリソグラフィ投影露光装置を提供する。
【解決手段】 マイクロリソグラフィ投影露光装置は、投影光源（ＰＬＳ）と、加熱光源（ＨＬＳ）と、反射投影レンズ（２６）と、好ましくは投影レンズ（２６）の外側に配置され、ドライバ（１２４）を用いて第１の位置と第２の位置との間で変位させることができる反射スイッチング要素（１２２；２２２；３２２；４２２；１４；１４，１４０）とを含む。この場合、スイッチング要素の第１の位置では、投影光（ＰＬ）のみが投影レンズ（２６）に入射することができ、スイッチング要素の第２の位置では、加熱光（ＨＬ）のみがこの投影レンズに入射することができる。 （もっと読む）

【課題】反射屈折投影対物系、投影露光装置、及び半導体構成要素及び他の微細構造化構成要素を製造する方法を提供する。
【解決手段】物体平面の物体視野を像平面の像視野上に結像するためのマイクロリソグラフィのための反射屈折投影対物系は、物体視野を第１の実中間像上に結像する第１の部分対物系、第１の中間像を第２の実中間像上に結像する第２の部分対物系、及び第２の中間像を像視野上に結像する第３の部分対物系を含む。第２の部分対物系は、厳密に１つの凹ミラー及び少なくとも１つのレンズを有する反射屈折対物系である。第１の折り返しミラー及び第２の折り返しミラーが設けられる。第２の部分対物系のレンズの少なくとも１つの面は、０．２％よりも低い反射率を有する。代替的又は追加的に、第２の部分対物系のレンズの全ての面は、周縁光線同心からのずれが２０°よりも大きいか又はそれに等しいように構成される。 （もっと読む）

【課題】ＮＡ＞１の開口数で液浸リソグラフィを可能にする真空紫外（ＶＵＶ）領域で使用するのに適する反射屈折投影対物レンズを提供する。
【解決手段】物体面１０１上に設けられたパターンを像面１０２上に結像するための反射屈折投影対物レンズ１００であって、物体面上に設けられたパターンを第１中間像１０３に結像する第１対物レンズ部１１０、第１中間像を第２中間像１０４に結像する第２対物レンズ部１２０、及び第２中間像を像面上に結像する第３対物レンズ部１３０、を備え、第１連続鏡面を有する第１凹面鏡１２１と、第２連続鏡面を有する少なくとも１つの第２凹面鏡１２２とが、第２中間像の上流側に配置され、ひとみ面が、物体面と第１中間像との間、第１及び第２中間像の間、及び第２中間像と像面との間に形成され、すべての凹面鏡が、ひとみ面から光学的に離して配置される。 （もっと読む）

【課題】集積回路を製造するためのマイクロリソグラフィーにおいて、マスク乃至レチクル形態の対象物をEUV照射によって照らすために使用される公知の照明システム及びそれらを備えた投影露光システムを指定サイズのEUVにより処理能力が増加する乃至所定のEUV処理能力によりサイズが減少されるよう、更に発達させることである。
【解決手段】光学軸の方向にEUV照射を集束するコレクタ、二次光源を発生するための第一光学要素、上記二次光源の位置に配置された第二光学要素及び第一光学要素と合わせて最大５つとなる更なる光学要素をコレクターと照明領域の間に備える照明システムにおいて、光学要素と光学軸が６０°よりも大きいか３０°よりも小さい入射角で交わり、光学軸の少なくとも一つの軸部分が少なくとも二つの光学要素の間において照明主要面に対して傾斜していることを特徴とする、照明システムによって成し遂げられる。 （もっと読む）

【課題】４０５ｎｍから６５６ｎｍまでの波長域で収差補正された顕微鏡対物レンズを提供する。
【解決手段】液浸系顕微鏡対物レンズは物体側より正レンズ群Ｇａと正レンズ群Ｇｂとレンズ群Ｇｃとレンズ群Ｇｄとレンズ群Ｇｅから構成される。レンズ群Ｇａは物体側が平面の平凸レンズと物体側が凹面のメニスカスレンズの接合レンズと２つの正単レンズからなる。レンズ群Ｇｂは１つの３枚接合レンズからなる。レンズ群Ｇｃは１つ以上の接合レンズを含む。レンズ群Ｇｄは像側が強い凹面のメニスカス形状である。レンズ群Ｇｅは物体側が強い凹面の負レンズを含む。Ｈ１をレンズ群Ｇｂから射出するマージナル光線高、Ｈ２をレンズ群Ｇｄに入射するマージナル光線高、ｆを対物レンズの焦点距離、ｆ（Ｇｂ）をレンズ群Ｇｂの焦点距離とすると、次式を満足する。
０．５≦Ｈ２／Ｈ１≦０．７５
７．８≦ｆ（Ｇｂ）／ｆ≦ ２０ （もっと読む）

【課題】異なる視野点における結像収差の補正が容易なマイクロリソグラフィのための反射屈折投影対物系を提供すること。
【解決手段】反射屈折投影対物系は、物体面に配置された軸外物体視野を投影対物系の像面に配置された軸外像視野上に結像するように配置された複数の光学要素を含む。光学要素は、物体面から到来する放射線から第１の中間像を発生させ、かつ第１の瞳面を含む第１の屈折対物系部分と、第１の中間像を第２の中間像へと結像する少なくとも１つの凹面ミラーを含み、かつ第１の瞳面と光学的に共役な第２の瞳面を含む第２の対物系部分と、第２の中間像を像面上に結像し、かつ第１及び第２の瞳面と光学的に共役な第３の瞳面を含む第３の屈折対物系部分とを形成する。物体面と第１の瞳面の間に配置された光学要素は、第１の瞳面に光学的に近く配置された負のレンズ群を含むフーリエレンズ群を形成する。 （もっと読む）

【課題】レーザー光線を対物レンズの光軸に対して平行に照射することができる像側テレセントリック対物レンズおよびその対物レンズを備えたレーザー加工装置を提供する。
【解決手段】像側テレセントリック対物レンズであって、投光側から順次配設される負の屈折力を有する第１レンズ群G1と、正の屈折力を有する第2レンズ群G2と、負の屈折力を有する第3レンズ群G3とを具備し、該第１レンズ群G1は互いに対向する面が凹面を有する第１の負レンズと第２の負レンズにより正の空気レンズを構成しており、光学系の合成焦点距離をF、該第１レンズ群G1の合成焦点距離をF1、該第１レンズ群G1の空気レンズの焦点距離をFa、該第2レンズ群G2の合成焦点距離をF2、該第3レンズ群G3の合成焦点距離をF3としたとき、０．９＜｜F1／F2｜＜３．５、１．２＜｜F3／F2｜＜５．０、１．３＜｜F／Fa｜＜２．５５の条件を満足する。 （もっと読む）

【課題】照明光ビームを案内及び成形するための複数の光学面を含む照明光学ユニットを設定する方法及び装置等を提供する。
【解決手段】設定される照明パラメータが、像視野に結像される物体視野にわたって予め定められる。設定は、最初に、複数の視野点における複数の照明角度に関する照明光学ユニットの強度重み付き照明パラメータの実際の値を決定する段階を含む。次に、少なくとも１つの照明パラメータに対する照明光学ユニットの光学面のうちの少なくとも１つの変形の影響が決定される。更に、照明パラメータの望ましい値が予め定められる。照明パラメータの実際の値が予め定められた範囲内で照明パラメータの望ましい値に対応するように、変形の影響が決定された少なくとも１つの光学面の望ましい形状が決定される。最後に、光学面の実際の形状が望ましい形状に対応するように、光学面に対して機械応力を作用する少なくとも１つのアクチュエータを用いて光学面が変形される。 （もっと読む）

【課題】広範囲ズーム機能を備えた超広帯域紫外（ＵＶ）カタディオプトリック映像顕微
鏡システムが開示される。
【解決手段】カタディオプトリックレンズ群及びズーミングチューブレンズ群を含む顕微
鏡システムは、極ＵＶ波長で高光学解像度と、連続的に調整可能な倍率と、高開口数とを
有する。このシステムは、部品点数を削減し、システムの製造プロセスを簡単化するため
、対物レンズ、チューブレンズ及びズーム光学系のような顕微鏡モジュールを統合する。
好ましい実施例によれば、全屈折ズーミングチューブレンズと組み合わせることにより、
非常に広い極紫外スペクトル域に亘って優れた画質が得られる。ズーミングチューブレン
ズは、一般的に性能を制限する高次色収差を補償するように変更される。 （もっと読む）

【課題】ＮＡ＞１の開口数で液浸リソグラフィが可能な非常に高い像側開口数を有する真空紫外（ＶＵＶ）領域で使用する反射屈折投影対物レンズの提供。
【解決手段】物体面１０１上のパターンを像面１０２上に結像するための反射屈折投影対物レンズであって、パターンを第１中間像１０３に結像する第１対物レンズ部１１０と、第１中間像を第２中間像１０４に結像する第２対物レンズ部１２０と、第２中間像を像面１０２上に結像する第３対物レンズ部２３０とを有し、第１連続鏡面を有する第１凹面鏡１２１と、第２連続鏡面を有する少なくとも１つの第２凹面鏡１２２とが、第２中間像１０４の上流側に配置され、瞳面が、物体面と第１中間像との間、第１及び第２中間像の間、及び第２中間像と像面との間に形成され、主光線高さがすべての凹面鏡１２１，１２２で光学的に離して配置される。 （もっと読む）

【課題】レンズの移動精度の厳密に管理しなくとも高倍率の変倍を行うことができかつ歪曲収差が極力変化しないようにすることのできる投影光学系を提供する。
【解決手段】本発明の投影光学系は、像面側に臨む第６群Gｒ６が２枚の正の屈折力を有するレンズL１６、L１７から構成されている。レンズL１７は最も外側に配置されている。レンズL１６は下記の条件式を満たしかつレンズL17の内側に隣接して配置されている。レンズL１７をレンズL１６に対して光軸ZO方向に離反・接近させることにより変倍を行う。 ０≧ｑ＞−０．７２ …（１）
ここで、符号ｑは、レンズL１６の形状ファクターを規定する数値である。レンズL１７に近い側の面３４の曲率半径をｒ２、レンズL１７から遠い側のレンズL１６の面３３の曲率半径をｒ１としたとき、ｑ＝（ｒ２−ｒ１）／（ｒ２＋ｒ１）…（２）である。 （もっと読む）

【課題】掩蔽（obscurated：オブスキュレーション）光学系において、分解能の限界が結像構造の位置及び配向に応じて変わる場合、結像光学系の精密測定の実行を可能にするデバイス、このデバイスを有する投影露光装置、その方法、センサユニットとを提供する。
【解決手段】結像光学系上流ビーム経路内に位置決め可能な第１格子構造（１６）を有する第１格子パターン（６）と、下流ビーム経路内に位置決め可能な第２格子構造（１８）を有する第２格子パターン（８）と、第２格子パターン（８）の第２格子構造（１８）への第１格子パターン（６）の第１格子構造（１６）の結像中に生成される重ね合わせ縞パターンの空間分解測定用センサユニットとを備えるデバイスに関する。 （もっと読む）

【課題】関連する光学素子の変化を調整可能なマイクロリソグラフィ投影対物レンズを提供する。
【解決手段】光学素子と、光学素子を操作するように構成されたマニピュレータと、マニピュレータを制御するように構成された制御ユニットであって、マニピュレータの移動を制御するように構成された第１のデバイス、マニピュレータの移動範囲の境界情報を有するメモリ、および少なくとも１つの誤差の二乗平均平方根（ＲＭＳ）の二乗に基づくメリット関数を生成し、マニピュレータの移動範囲の境界情報に応じてメリット関数を最小化するように構成された第２のデバイスと、を備える。 （もっと読む）

【課題】コンパクトなマイクロリソグラフィー投影光学系を提供する。
【解決手段】物体面１００の物体フィールドを像面１０２の像フィールドに結像する、波長が２４８ｎｍ以下、好ましくは１９３ｎｍ以下、特に波長が１〜３０ｎｍの範囲のＥＵＶリソグラフィー用のマイクロリソグラフィー投影光学系に関する。本マイクロリソグラフィー投影光学系は、例えば、虹彩絞りを導入することができる、十分なスペースの取扱い可能な絞り面２０００を設ける。 （もっと読む）

【課題】対物系のＮＡ値を大きくすることができる対物系を提供する。
【解決手段】合焦レンズ素子及び各視野レンズ素子は、同じ単一のガラス素材から形成され、マンジャンミラー集合体３１２、視野レンズ素子集合体３０５及び合焦レンズ素子集合体３１１の全ての構成要素は、受け取る光エネルギの軸線に沿って整列され、マンジャンミラー集合体において、１個または複数個のマンジャンミラー素子の２個の反射面は、受け取る光エネルギの軸線に沿って非ゼロ距離の離れた鏡面である。 （もっと読む）

【課題】広いスペクトル域で標本を撮像できる対物系及び撮像方法を提供する。
【解決手段】標本撮像用の超高開口率対物系であって、
レンズ素子を１個又は複数個含み入射光を合焦させて中間像を生成する合焦レンズ素子群１０１と、中間像の近傍に配置された視野レンズ素子１１２を１個又は複数個含む視野レンズ素子群１０２と、前記視野レンズ素子群と標本との間に配置され中間像から採光し出射光をもたらすカタジオプトリック素子群１０３と、を備え、カタジオプトリック素子群が、球面状反射面、有意の反りを示さない反射面を有する１個又は複数個のマンジャン素子１１５、並びにメニスカスレンズ素子１１４を有し、そのメニスカスレンズ素子が、各マンジャン素子に直接接触せず、前記球面状反射面の球面曲率半径とは実質的に逆方向にメニスカス表面曲率半径を有するメニスカス表面を備えるよう配置される。 （もっと読む）

【課題】反射屈折投影対物系、投影露光装置、及び半導体構成要素及び他の微細構造化構成要素を製造する方法を提供する。
【解決手段】物体平面５の物体視野３を像平面９の像視野７上に結像するためのマイクロリソグラフィのための反射屈折投影対物系１は、物体視野を第１の実中間像１３上に結像する第１の部分対物系１１、第１の中間像を第２の実中間像１７上に結像する第２の部分対物系１５、及び第２の中間像を像視野上に結像する第３の部分対物系１９を含む。第２の部分対物系は、厳密に１つの凹ミラー２１及び少なくとも１つのレンズを有する反射屈折対物系である。第１の折り返しミラー２３及び第２の折り返しミラー２５が設けられる。第２の部分対物系のレンズの少なくとも１つの面は、０．２％よりも低い反射率を有する。第２の部分対物系のレンズの全ての面は、周縁光線同心からのずれが２０°よりも大きいか又はそれに等しいように構成される。 （もっと読む）

【課題】対物光学系、特に、投影対物光学系、好ましくは、マイクロリソグラフィー投影対物光学系の提供。
【解決手段】光線束を通過させる開口部を有さない少なくとも１枚の鏡Ｓ１を有する第１部分対物光学系１００と、少なくとも１枚の１次凹面鏡ＳＫ１と１枚の２次凹面鏡ＳＫ２を有する第２部分対物光学系２００とを含み、１次凹面鏡ＳＫ１と２次凹面鏡ＳＫ２が光線束を通過させる開口部を有する、動作波長が特に１９３ｎｍ以下の、対物光学系、特にマイクロリソグラフィー投影対物光学系に関する。 （もっと読む）

【課題】照明光学系において、光源からの光の角度分布の不均一性を解消しつつ、均一な光強度分布を高い効率で形成するために有利な技術を提供する。
【解決手段】 光源からの光を用いて被照明面を照明する照明光学系は、前記光源からの光を分割して複数の光束を生成する分割部と、前記分割部によって生成された前記複数の光束の光強度分布のそれぞれを均一化する第１反射型インテグレータと、前記第１反射型インテグレータからの光を集光する集光部と、前記集光部からの光を受けて前記被照明面を照明する第２反射型インテグレータと、前記第２反射型インテグレータと前記被照明面との間に配置される開口絞りとを備え、前記分割部は、前記開口絞りが配置される面に対して、前記光源から前記分割部に提供される光の断面形状とは異なる断面形状を有する光が入射するように、前記複数の光束を生成する。 （もっと読む）