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Fターム[2H090HD14]の内容

液晶−基板、絶縁膜及び配向部材 (35,882) | 絶縁膜及び配向部材の機能 (2,261) | 配向部材の機能 (1,553) | 配向欠陥防止 (1,058)

Fターム[2H090HD14]に分類される特許

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【課題】少量の放射線照射によっても光配向が可能であって、かつ照射中及び照射後の加熱工程が不要な位相差フィルム用液晶配向膜を形成可能な液晶配向剤、この位相差フィルム用液晶配向膜を備え、液晶配向性及び熱安定性に優れる位相差フィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】[A]桂皮酸構造を有する基を含むセルロースを含有する位相差フィルム用液晶配向剤である。また、[A]セルロースは下記式(1)で表される。
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【課題】良好な表示特性の液晶装置を高い生産性で製造する製造方法を提供する。
【解決手段】画素電極9を備えた第1基板10と、これに対向配置される第2基板と、これら基板間に挟持された液晶層とを備え、画素電極9に対応する位置が表示領域Pとされ、この表示領域P間が非表示領域BMとされる液晶装置の製造方法である。画素電極9を表示領域Pとなる位置に、その周縁部を非表示領域BMとなる位置に形成し、画素電極9上の表示領域Pとなる位置に垂直配向膜41を形成し、非表示領域BMの少なくとも画素電極9の周縁部上に水平配向膜42を形成する。このとき、基板10A上の配向膜42aにラビング処理し、レジストパターンRをマスクにして表面改質して、水平配向膜42を形成し、垂直配向膜41の材料を形成する。 (もっと読む)


【課題】無機配向膜が水分や不純物を吸着することを抑制しながら、無機配向膜を選択的に形成することのできる液晶装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶装置100において、素子基板10に配向膜16を形成するにあたっては、犠牲膜形成工程において、素子基板10における配向膜16の非形成領域10hに犠牲膜18a、18bを形成した後、無機配向膜形成工程において、犠牲膜18a、18bの表面側に、シリコン酸化膜等からなる配向膜16を斜め蒸着する。次に、リフトオフ工程では、犠牲膜18a、18bを選択的にエッチングする反応性ガスによって犠牲膜18a、18bを除去する。ここで、犠牲膜18a、18bはシリコン膜であり、反応性ガスは二フッ化キセノンガスである。 (もっと読む)


【課題】製造工程において無機配向膜が水分や不純物を吸着することを防止することのできる液晶装置の製造方法、および液晶装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置100において、素子基板10および対向基板20の無機配向膜からなる配向膜16、26の表面に保護膜17、27を形成した後、素子基板10と対向基板20とをシール材107により貼り合わせてパネル100sを形成し、その後、シール材107の途切れ部分107cから反応性ガスを導入して保護膜17、27を除去する。従って、配向膜16、26は開放状態になっている時間が短いので、配向膜16、26が水分を吸着することを抑制することができる。また、シール材107が硬化する際、シール材107から不純物が放出されても、かかる不純物は、配向膜16、26で吸着されることがない。 (もっと読む)


【課題】耐湿性の向上を図ると共に、液晶層や無機配向膜の汚染を防ぐことが可能な液晶装置を提供する。
【解決手段】一対の基板15,25間に液晶層30を挟持する液晶装置において、一対の基板15,25の液晶層30と対向する側の面に、それぞれ液晶層30の液晶分子の配向方向を制御する無機配向膜が設けられ、液晶層30の周囲を囲むシール材50により一対の基板15,25が貼り合わされ、一対の基板15,25のそれぞれの端面を覆うモールド材51が設けられると共に、モールド材51が水(湿気)硬化性の開始剤を含む。 (もっと読む)


【課題】表示品位を向上できる液晶装置、液晶装置の製造方法及び電子機器を提供する。
【解決手段】マトリックス状に配列された複数の画素電極12及び斜方蒸着膜21を備えた回路基板20と、共通電極32及び斜方蒸着膜41を備えた対向基板30と、回路基板及び対向基板の間に狭持された液晶50とを有し、回路基板と対向基板との斜方蒸着膜は互いに対向して液晶に対面している液晶装置100は、少なくとも回路基板の斜方蒸着膜上にはシランカップリング剤層22が複数の画素電極の外側に対応する部分S2に設けられており、且つ、シランカップリング剤層が複数の画素電極の内側に対応する部分には設けられておらず、シランカップリング剤層は長鎖シランカップリング剤を有しているとともに、斜方蒸着膜の膜厚より薄く形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】光配向を用いたIPS方式の液晶表示装置において、配向膜が柱状スペーサによって削れることを防止する。
【解決手段】対向基板200に形成された柱状スペーサ204がTFT基板100に接触する部分に、画素電極108よりも高い、台座114を形成する。画素電極108および台座114の上に2層構造の配向膜113を塗布すると、レベリング効果によって、台座114上の配向膜113は薄くなる。この状態で光配向すると、台座上の光分解した上配向膜112は消失し、機械的な強度の大きい下配向膜111が残る。したがって、配向膜削れを防止できる。一方、画素電極108上では、上配向膜112は元々厚いので、液晶を配向させるための所定の膜厚を確保できる。 (もっと読む)


【課題】良好な特性を有する液晶配向膜の形成にも用いることができる、ビスマレイミドを含有する新規な組成物、並びにビスマレイミドと酸性添加剤の新規共重合体、及び新規共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】マレイミド系高分子、添加剤、並びに溶剤を含有する組成物は、新規組成物であり、良好な特性を有する。そのため、様々な用途への適用が期待できる。また、上記添加剤のうち、酸性の添加剤とビスマレイミドを共重合させた共重合体は、新規の共重合体である。この共重合体についても、良好な特性を有し、新規の材料として応用が期待される。 (もっと読む)


【課題】光配向処理が行われた配向膜を有するTFT基板と対向基板を接着する樹脂を、紫外線を用いて硬化させる工程において、該紫外線に対する遮光マスクを用いることなく、該紫外線によって配向膜がダメージを受けることを防止する。
【解決手段】対向基板200のブラックマトリクス201とブラックマトリクス201の間には紫外線吸収層210が形成されている。TFT基板100と対向基板200の周辺はシール材150によって封止されている。シール材150は紫外線硬化樹脂であり、硬化させるために対向基板200の側から紫外線を照射する。紫外線吸収層210は配向膜113を劣化させる300nm以下の波長に対する吸収が大きいので、シール材硬化のための紫外線によって配向膜113がダメージを受けることを防止することが出来る。これによって、表示領域に紫外線を遮光する遮光マスクの配置を省略することが出来る。 (もっと読む)


【課題】表面凹凸を有するプリズム上において均一な液晶配向を有する液晶光学素子を提供する。
【解決手段】 液晶光学素子は、相互に対向する一対の第1及び第2の透明基板と、前記第1及び第2の透明基板上に形成され、前記第1及び第2の透明基板間に電圧を印加する一対の第1及び第2の透明電極と、前記第1及び第2の透明基板の一方の上方に形成されるプリズムを有するプリズム層と、前記プリズム層上に形成され、光配向により配向処理が施された配向膜と、前記第1及び第2の透明基板間に挟まれ、液晶分子を有する液晶層とを有し、前記第1及び第2の透明電極に印加する電圧を変化させることにより、前記液晶層の屈折率を変化させて前記プリズムの斜面と前記液晶層の界面を通過する光の屈折角が変化することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】コントラストを向上させることのでき、しかも、画像表示の立ち上がり速度の向上だけでなく、立ち下がり速度の向上を図ることができる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、一対の基板20,30の対向面側に設けられた第1配向膜22及び第2配向膜32、並びに、第1配向膜22と第2配向膜32との間に配され、負の誘電率異方性を有する液晶分子41を含む液晶層40を有する液晶表示素子を備えており、第1配向膜22は、側鎖として架橋性官能基又は重合性官能基を有する第1の高分子化合物が架橋又は重合した化合物を含み、第2配向膜32は、第2の高分子化合物が架橋又は重合した化合物を含み、液晶分子41Aには、第1配向膜22によってプレチルトが付与され、且つ、液晶分子41Bは、第2配向膜32によって垂直配向されている。 (もっと読む)


【課題】長時間連続駆動した場合であっても電気特性の悪化や液晶分子の配向不良といった表示品位が劣化することのない液晶配向膜を形成することができ、少ない液量で印刷を行った場合でも印刷性に優れる液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記液晶配向剤は、ポリアミック酸およびポリイミドよりなる群から選択される少なくとも1種の重合体、ただしこの重合体は、分子内に下記式(A’−1)で表される構造に代表される特定の構造を有する、を含有することを特徴とする。


(式(A’−1)中、「*」、それぞれ、結合手であることを示す。) (もっと読む)


【課題】ラビング処理、ポリイミド配向膜及び磁場配向法に起因する様々な問題を防止し、既存の装置を有効活用して、低コストで液晶の配向制御性に優れた液晶表示装置を製造し得る方法を提供する。
【解決手段】少なくとも1つの基板が凹凸構造を有する2つの基板上にポリマーブラシを形成する工程と、前記ポリマーブラシを形成した2つの基板間に液晶を注入して液晶セルを作製する工程と、前記液晶セルを、前記ポリマーブラシと前記液晶とが相溶した部分のTgよりも高く且つ前記液晶のNI点よりも低い温度に加熱して保持する工程と、前記液晶セルを、前記ポリマーブラシと前記液晶とが相溶した部分のTgよりも低い温度に冷却する工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】信頼性が高く、且つ、良好なコントラスト特性を有し、ディスクリネーションの発生を防止した液晶装置、及びその簡素化された製造方法を提供する。
【解決手段】液晶装置が有する配向膜11が、垂直配向領域40Aに対応する部分の液晶分子を垂直配向させる垂直配向膜41と、表示領域の間に存在する水平配向領域40Bに対応する部分において液晶分子を一定方位方向に水平配向させる水平配向膜42からなり、垂直配向膜41と水平配向膜42が共通の共通膜40を有するとともに、垂直配向膜41に長鎖アルキル鎖28A、水平配向膜42に短鎖アルキル鎖28Bを有する。 (もっと読む)


【課題】配向膜の形成時にラビング処理が不要であり、かつ異物の混入を低減することが可能な液晶素子の製造方法を提供する。
【解決手段】第1基板、第2基板の各々の一面側に感光性の樹脂膜を形成する第1工程と、第1基板と第2基板を、各一面側を対向させ、所定の間隙を設けて貼り合わせる第2工程と、第1基板、第2基板の各々の他面側から樹脂膜に焦点を合わせて部分的に光照射を行って樹脂膜の各々を部分的に選択的に硬化させることにより、複数の突起物からなる配向膜を形成する第3工程と、第1基板と第2基板の相互間に液晶材料を注入することにより液晶層を形成する第4工程を含む液晶素子の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】液晶表示素子として一般に要求される電圧保持率、耐光性と言った特性を満足しつつ、電気光学応答時間の短い液晶表示素子を形成しうる光配向性液晶配向剤の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、[A]光配向性基及び下記式(A1)で表される基を有する重合体を含有する液晶配向剤である。下記式(A1)中、Rはメチレン基、炭素数2〜30のアルキレン基、フェニレン基又はシクロヘキシレン基である。但し、これらの基が有する水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。Rは二重結合、三重結合、エーテル結合、エステル結合及び酸素原子のうちのいずれかを含む連結基である。Rは少なくとも2つの単環構造を有する基である。aは0又は1である。

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【課題】
電圧保持率が高く、イオン量が小さく、残留電荷が少ない等の、液晶配向膜に共通して求められる電気特性を保持しつつ、光照射による化学変化の感度が良好で、液晶分子の配向性に優れ、光透過率が高い光配向膜を形成するための液晶配向剤を提供すること。さらに、この液晶配向剤を用いた光配向膜、並びにこの光配向膜を用いた液晶表示素子を提供すること。
【解決手段】
シクロブタンテトラカルボン酸二無水物またはシクロブタンテトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物の混合物と、分子中にアミノ基の窒素原子以外に少なくとも2つの窒素原子を有する特定のジアミンとを反応させて得られるポリアミック酸またはその誘導体を含有する液晶配向剤によって形成された光配向膜を、液晶表示素子に用いる。 (もっと読む)


【課題】ラビング処理によって、膜が削れにくいく、配向特性が均一な配向膜を高い歩留まりで製造できる配向膜用組成物およびその配向特性が均一な配向膜を用いた液晶表示素子を提供する。
【解決手段】少なくとも多価ヒドロキシ化合物(a1)とジアミン(a2)と酸無水物基を2つ以上有する化合物(a3)とを用いて得られたポリエステル−ポリアミド酸(A1)およびそのイミド化物であるポリエステル−ポリイミド(A2)からなる群から選ばれる1以上を含む液晶配向膜用組成物。 (もっと読む)


【課題】例えば、配向膜をガラス基板に平坦性よく塗布することができ、かつ、額縁領域をできるだけ狭くすることができる印刷塗布方法を提供する。
【解決手段】チャンバ内を減圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板GSの外周部にだけインクINKを塗布する。続いて、チャンバ内の圧力を大気圧(常圧)に回復した後、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板GSの外周部よりも内側領域である内周部にインクINKを塗布する。 (もっと読む)


【課題】無機配向膜が形成された基板を適正に再利用できる基板の製造方法を提供する。
【解決手段】対向基板に無機配向膜を形成する工程と、無機配向膜の欠陥を検査する工程と、検査工程において無機配向膜に欠陥が検出された場合に、無機配向膜をフッ素系のエッチング液を用いて除去する工程と、その後、対向基板を純水洗浄する工程と、対向基板に再び無機配向膜を形成する工程と、を有する。 (もっと読む)


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