【課題】ガラス基板の表面に支圧応力層パターンを形成する方法及び該方法で製造されたガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板１にマスク２を設けて化学イオン強化処理を実施することにより、ガラス基板１の少なくとも一つの表面に支圧応力層パターンが設けられ、該パターンは該表面において、異なる支圧応力を備えた複数の局部領域を画定し、それは若干の高支圧応力領域と低支圧応力領域を包含し、低支圧応力領域によりこれら高支圧応力領域相互間が隔離設置される。該ガラス基板１の高支圧応力領域はガラスの抵抗性を増し、破裂とスクラッチ防止の機能を向上し、低支圧応力領域は加工性を保持し、ガラス基板１を切削、分割或いは研磨などの加工に便利なものとする。 （もっと読む）

【課題】大型のガラス基板を反らすことなく安価に高速に加熱することが課題である。特に、当該基板表面に薄膜を付着させて、それを高速で高温でアニールしても当該基板を反らせないことが課題である。
【解決手段】高温に加熱したガスのビームを大型ガラス基板に吹き付けながら、当該基板を移動させる方式で、基板表面に付着させた薄膜を高速アニールできる。このとき、当該ビームを当該基板の表面と裏面から吹き付け、当該ビームの温度とガス流量を調整することにより、当該基板の反りを減少させることが可能である。 （もっと読む）

【課題】薄膜ガラスの端面の温度を適切に管理し、且つ、その熱変形を抑制しつつ、当該端面を強化する処理方法および処理装置を提供する。
【解決手段】端面処理装置１は、薄膜ガラスＧを搬送する搬送台２と、薄膜ガラスＧを予備加熱する予備加熱室３と、薄膜ガラスＧの端面Ｇａにスポット状プラズマＰを照射する照射ノズル４とを備えている。薄膜ガラスＧの端面Ｇａにスポット状プラズマＰを照射し、当該端面Ｇａに脱水架橋反応を生じさせる。 （もっと読む）

【課題】 ３００℃以上の高温で加熱処理しても十分な透明性を有し、薬液耐性に優れる樹脂組成物を及びそれを用いたポリイミド成形体とその製造方法等を提供する。
【解決手段】 （ａ）一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位を有するポリイミド前駆体。前記のポリイミド前駆体を含有する樹脂組成物。前記の樹脂組成物を加熱することで得られるポリイミド成形体。ポリイミド成形体からなるプラスチック基板。ポリイミド成形体からなる保護膜。保護膜を有する電子部品、表示装置。
【化１】


（一般式（Ｉ）中、Ｘはエーテル結合及びビフェニル骨格を有するジアミン残基である。） （もっと読む）

【課題】化学強化後に切断してなるものであって、耐傷性に優れ、ディスプレイの表示特性を向上可能なガラス板を提供する。
【解決手段】化学強化後に切断してなり、圧縮応力が残留する表面層２１および裏面層２２と、表面層２１と裏面層２２との間に形成され、引張応力が残留する中間層２３とを有し、切断面である側端面１３に、圧縮応力が残留する領域３１、３２と、引張応力が残留する領域３３とを有するガラス板１０において、中間層２３の平均残留引張応力が２０ＭＰａ以上であって、ガラス板１０の表面１１のうち、切断面である側端面１３から１０ｍｍ以内の領域に照射され、且つ、表面１１と直交する光によって測定したガラス板１０のレタデーションが１．０ｎｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】湿度膨張率および吸水率が小さく、かつ透明性および耐熱性に優れた樹脂硬化物、透明複合基板および表示素子基板を提供すること。
【解決手段】本発明の樹脂硬化物は、脂環式エポキシ樹脂と、カチオン系硬化剤と、を含む樹脂組成物を硬化させてなるものであり、エポキシ開環率が８５〜９６％であることを特徴とするものである。また、エポキシ系樹脂には、グリシジル型エポキシ樹脂と脂環式エポキシ樹脂とを併用するのが好ましい。また、本発明の樹脂硬化物は、ガラスフィラーを含んでいてもよく、ガラスフィラーとしてはガラス繊維布が好ましく用いられる。 （もっと読む）

【課題】低温かつ短時間で化学強化できるディスプレイ装置用ガラスを提供する。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６１〜７２％、Ａｌ_２Ｏ_３を８〜１７％、Ｌｉ_２Ｏを６〜１８％、Ｎａ_２Ｏを２〜１５％、Ｋ_２Ｏを０〜８％、ＭｇＯを０〜６％、ＣａＯを０〜６％、ＴｉＯ_２を０〜４％、ＺｒＯ_２を０〜２．５％含有し、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計Ｒ_２Ｏが１５〜２５％、Ｌｉ_２Ｏの含有量とＲ_２Ｏの比Ｌｉ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが０．３５〜０．８、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計が０〜９％であるディスプレイ装置用ガラス。 （もっと読む）

【課題】屈曲性、可撓性、耐衝撃性および外観に優れる透明基板の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板の製造方法は、溶剤透過性を有する支持基材１０上に熱可塑性樹脂（Ａ）組成物溶液を塗布して、塗布層２０を形成する工程Ａと、無機ガラスの少なくとも一方の面と該塗布層２０とを、接着剤組成物４０を介して貼り合わせて、積層体を形成する工程Ｂと、該積層体に第１の熱処理を施し、該塗布層中の残存溶剤量を所定量まで減少させる工程Ｃと、該積層体から該支持基材を剥離した後、第２の熱処理を行い、該塗布層を乾燥して、熱可塑性樹脂層２１を形成する工程Ｄとを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、温湿度の変化によって寸法が変化しやすいプラスチック基板上に、高精細なパターンが形成されたパターン形成体を得ることができるパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明においては、プラスチック基板上にパターンが形成されてなるパターン形成体の製造方法であって、上記プラスチック基板の含水率が、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで、上記プラスチック基板を上記温湿度雰囲気下で保管する保管工程と、上記所定の温湿度雰囲気下における含水率に達した上記プラスチック基板を、温湿度変化による寸法変化が上記プラスチック基板より少ない支持基板上に仮固定する貼合工程と、上記支持基板上に仮固定された上記プラスチック基板上に上記パターンを形成するパターン形成工程とを有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、湿度の変化によって寸法が変化しやすいプラスチック基板上に、高精細なパターンが形成されたパターン形成体を得ることができるパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明においては、プラスチック基板上にパターンが形成されてなるパターン形成体の製造方法であって、上記プラスチック基板を特定の吸水量となるまで脱水する脱水工程と、上記脱水工程後の上記プラスチック基板を、温度および湿度寸法変化が上記プラスチック基板より少ない支持基板上に仮固定する貼合工程と、上記支持基板上に仮固定された上記プラスチック基板上にパターンを形成するパターン形成工程とを有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】製品である液晶パネルの歩留まりを向上することができる無アルカリガラス基板を提供すること。
【解決手段】液晶パネル用の無アルカリガラス基板において、フッ酸（ＨＦ）：５．３質量％、フッ化アンモニウム（ＮＨ_４Ｆ）：３５．８質量％、残部：水からなるバッファードフッ酸の溶液中に２５℃、２０分間浸漬した後のヘイズ値が７．０％以下である。 （もっと読む）

【課題】湿気または酸素による有機物素子の寿命短縮を抑制ないし防止することができる湿気及び酸素バリア基板及び飲食物包装材のためのフレキシブル薄膜の製造方法の提供。
【解決手段】ナノメートルサイズまたはマイクロメートルサイズの粒子を溶液状態のポリマーに均一に分散させる段階、前記粒子が均一に分散された溶液状態のポリマーを溶液キャスティング法でキャスティングし、溶媒を除去することで、ポリマーまたはプラスチックフィルムを成形する段階２０９、前記段階で成形されたフィルムをガラス転移温度と溶融点の間で延伸することで、前記粒子の剥離を促進させ、剥離された平板型ナノメートルサイズまたはマイクロメートルサイズの粒子を配向させる段階２１１、有機コーティングによって前記フレキシブル基板の表面を平坦化する段階、前記有機膜硬化のための熱処理段階を含む。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、極めて高いガスバリア性能と高い耐久性を達成できるバリアフィルム、バリアフィルムの製造方法、バリアフィルムを用いた有機光電変換素子と該素子を用いた太陽電池を提供する。
【解決手段】基材の表面上にポリシラザンを含有する塗布液を塗布して塗膜を作製する工程、該塗膜を乾燥する工程の後、前記塗膜に真空紫外光を照射する工程を経て、前記塗膜を改質してバリア層を形成する工程を有するバリアフィルムの製造方法において、
前記塗膜を乾燥する工程と、該真空紫外光を照射する工程が終了するまでの間に、表面処理を行う工程を有することを特徴とするバリアフィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルム上に画像パターンを重ね合わせて形成する際に、たとえプラスチックフィルムに歪みが発生してても、最良の精度で位置合わせをすることが可能となるアライメント方法を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルム上に形成された画像パターン中に複数配置された位置合わせマークの座標を測定する工程と、該画像パターンの中心を中心として点対称になる該位置合わせマーク中の二点の組の中で、位置合わせマークの設計座標からのずれが最も少ない二点を選択する工程と、選択された二点の位置合わせマークを用いて、プラスチックフィルム上に形成された画像パターンと、別の画像パターンを形成する為の治具との位置合わせを行う工程から成ることを特徴とするアライメント方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能なディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイを提供する。
【解決手段】ＳｉＯ₂を４０〜７０重量％、Ａｌ₂Ｏ₃を０．１〜２０重量％、Ｎａ₂Ｏを０〜２０重量％、Ｌｉ₂Ｏを０〜１５重量％、ＺｒＯ₂を０．１〜９重量％含有し、Ｌｉ₂ＯとＮａ₂Ｏの合計含有量が３〜２０重量％であるガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ５０μｍ以上の圧縮応力層を形成する。 （もっと読む）

【課題】単結晶シリコン基板よりも大面積な基板に、均一な質を有する複数の単結晶半導体層を貼り付けたＳＯＩ基板の作製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】熱処理において、ベース基板支持及び単結晶半導体基板保持のトレイとして、凹部の底が深く、ベース基板に貼り付けられた単結晶半導体基板と接触しないトレイを用いて、単結晶半導体基板の熱分布の均一化を図る。また、該トレイの各々の凹部の間にベース基板支持部を設けることによって、該トレイとベース基板との接触面積を低減する。以上より、単結晶半導体基板から単結晶半導体層を分離する熱処理の際、単結晶半導体基板及びベース基板の熱分布が均一になるようにする。 （もっと読む）

【課題】加工時や使用時に生じる熱による寸法変化が起こりにくく、且つ変質しにくく、したがって、長期にわたり高く安定したガスバリア性を保持することができる透明ガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムを加熱処理し、特定の熱収縮率となるように収縮させてプラスチック基材フィルムとし、該プラスチック基材フィルムの少なくとも一方の面に蒸着膜を設けて蒸着フィルムとし、さらに、該蒸着フィルムを加熱処理して、特定の熱収縮率となるように収縮させ、該収縮させた蒸着フィルムの蒸着膜が設けられた面に、ガスバリア性塗布膜を設けることを特徴とする透明ガスバリア性フィルム。 （もっと読む）

【課題】フレキシブル基板上にカラーフィルタやＴＦＴをパターン形成する際の寸法安定性を向上させることができるパターン形成方法の提供。
【解決手段】フレキシブル基板３を寸法安定なハード基板１に仮留剤で仮留めする仮留工程Ａと、前記仮留剤のガラス転移温度以上、前記フレキシブル基板３を構成するポリマーのガラス転移温度以下の温度で前記フレキシブル基板３をアニール処理するアニール処理工程Ｂと、前記フレキシブル基板３上にフォトリソグラフィーによりパターンを形成するパターン形成工程Ｃと、パターン形成したフレキシブル基板３をハード基板１から剥離する剥離工程Ｄとを含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】大型の液晶ディスプレイ部品を高温で急速に昇温させることができる液晶ディスプレイ部品の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】液晶ディスプレイを構成する液晶ディスプレイ部品の製造装置であり、液晶ディスプレイ部品を加熱する板状の炭化ケイ素を含むヒータ１を複数枚配置したヒータユニットを備え、ヒータユニットのうちの、各ヒータ１をそれぞれ個別に制御し、所定の温度まで液晶ディスプレイ部品の温度を上昇させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い機械的強度が得られるように、圧縮応力層の圧縮応力値と厚みを適正化することができ、しかも熱加工を容易に行うことができる強化ガラスの製造方法を創案すること。
【解決手段】本発明の強化ガラスの製造方法は、徐冷点から歪点までの温度域を２００℃／分以下、好ましくは５０℃／分以下の冷却速度で冷却した後、強化処理を行うことを特徴とする。 （もっと読む）