【課題】液晶層における液晶分子の初期配向状態が安定した略垂直配向型の液晶装置、液晶装置の製造方法、該液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置１５０は、一対の基板間に挟持された負の誘電異方性を有する液晶分子を含む液晶層５０と、一対の基板のそれぞれに設けられ、液晶分子ＬＣにプレチルトを与えて垂直配向させる配向膜１８，２４と、反応性メソゲンを有する液晶モノマー１９ａ，２５ａの光重合物からなり、配向膜１８，２４と液晶層５０との間に形成された配向制御膜１９，２５と、基板と配向膜１８，２４との間で配向膜１８，２４に接して設けられた光透過性の光触媒膜１５ｂ，２３ｂと、を備えた。 （もっと読む）

【課題】液晶層における液晶分子の初期配向状態が安定した略垂直配向型の液晶装置、液晶装置の製造方法、該液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置１５０は、一対の基板間に挟持された負の誘電異方性を有する液晶分子を含む液晶層５０と、一対の基板のそれぞれに設けられ、液晶分子ＬＣにプレチルトを与えて垂直配向させる配向膜１８，２４と、反応性メソゲンを有する液晶モノマー１９ａ，２５ａの光重合物からなり、配向膜１８，２４と液晶層５０との間に形成された配向制御膜１９，２５とを備え、画素電極１５および共通電極２３は、第１電極材料からなる導電膜１５ａ，２３ａと、第１電極材料よりも仕事関数が小さい第２電極材料を含む導電膜１５ｃ，２３ｃとを含む。 （もっと読む）

【課題】量産性に優れると共に、十分な光学的距離を確保することができ、かつ応答速度を向上することができる多重構造液晶光学素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】多重構造液晶光学素子は、内側面上にセグメント電極が形成された基板と内側面上にコモン電極が形成された基板との間に液晶が封入された液晶素子が複数個互いに積層されて構成されており、セグメント電極が形成された基板とコモン電極が形成された基板とは、液晶が封入された状態で所定厚さに薄く加工されている。 （もっと読む）

【課題】表示品位の良好な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 画像を表示する表示エリアの各画素に対応して配置された画素電極及び画素電極の表面に配置された第１垂直配向膜を備えた第１基板と、画素電極の各々に対向する対向電極及び対向電極の表面に配置された第２垂直配向膜を備えた第２基板と、表示エリアの外側に配置され第１基板の第１垂直配向膜と第２基板の第２垂直配向膜とが対向した状態で第１基板と第２基板とを貼り合わせるシール材と、表示エリア及び表示エリアとシール材との間の枠状の非表示エリアに亘って第１基板と第２基板との間に保持された誘電率異方性が負の液晶分子を含む液晶層と、を備え、液晶分子は、表示エリアにおいては第１垂直配向膜及び第２垂直配向膜による配向規制力あるいは画素電極と対向電極との間の電界によって配向制御され、非表示エリアにおいては配向制御されない液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】透明基板上に、少なくとも、ブラックマトリックスと、着色画素層と、透明導電膜と、該透明導電膜上にポジ型のフォトレジストからなるレジストパターンと、該透明導電膜自体には所定の開口部と、が形成されているカラーフィルタ基板の簡素で合理的な製造方法を提供すること。
【解決手段】透明導電膜２ｂ上に、ポジ型フォトレジスト３を所定の膜厚で塗布する工程と、ポジ型フォトレジスト３を露光・現像して所定の開口部を形成し露出した透明導電膜をエッチングにより除去して透明導電膜２ｂに配向制御用の開口部２ｃを形成する工程と、残置しているポジ型フォトレジストを再び露光・現像して所定のレジストパターン９を形成する工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 階調表示と応答性の改善を両立させ、さらに高輝度表示、及び透過表示若しくは反射表示の可能な斜め電界液晶表示装置用のカラーフィルタ基板、及びこのカラーフィルタ基板を備える斜め電界液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】 階調表示を行う通常表示と明るいダイナミック表示、透過表示若しくは反射表示が可能な斜め電界液晶表示装置用カラーフィルタ基板であって、透明基板、この透明基板上に形成された透明導電膜、この透明導電膜上に形成された、複数の多角形画素形状の開口部を有するブラックマトリクス、このブラックマトリクスの開口部の中央に形成された第２の透明樹脂層、この透明導電膜上に形成された着色層、及びこの着色層上に形成された第１の透明樹脂層を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】帯電の解消を可能とするとともに、特有の表示ムラが低減されて、マルチプレックス駆動に好適な垂直配向型の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、表面に前面電極５１を有する基板と、背面電極５２を有する基板とにより液晶層を挟持し、液晶層は電圧無印加時に電極面に垂直となるよう配向され、マルチプレックス駆動による電圧印加によって、画素内で基板と平行となるよう配向変化する。液晶層の比抵抗は１×１０^１０Ωｃｍ〜２×１０^１１Ωｃｍの範囲にあり、前面電極５１に設けられた画素分割手段であるスリット５４により、１つの画素５０が複数のサブ画素５５に分割され、スリット５４を挟んで隣接するサブ画素間では、電圧印加時の液晶層の配向変化の方向が異なるようにするとともに、サブ画素の形成ピッチＰ１が５０μｍ〜１００μｍの範囲内にあるようにする。 （もっと読む）

【課題】電気容量を小さくできる層間絶縁膜を形成可能な感光性樹脂組成物を提供すること。また、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、及び、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）式（ａ１）〜式（ａ４）で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、（成分Ｂ）式（Ｂ）で表されるオキシムスルホネート化合物、（成分Ｃ）塩基性含窒素環状化合物、及び、（成分Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、並びに、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置。
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【課題】画素電極に形成されたスリット及び光配向膜を有する液晶表示パネルを提供する。
【解決手段】液晶表示パネルの単位画素は、光配向工程技術を用いて形成された複数のドメインを含む。上記複数のドメインは、相互に異なるドメイン配向ベクトルを有し、配向膜上の液晶分子の長軸は、液晶表示パネルの透過軸に平行に配向される。また、上記単位画素は、スリットを含む画素電極を有する。上記スリットは、上記ドメインの配向と所定のスリット角をなし、上記スリット角は、４５°より小さい。したがって、上記単位画素の透過率が増加することにより高品質の映像を保証することができる。 （もっと読む）

【課題】配向膜なしで、またラビング工程なしで、液晶の垂直配向を実現でき、パネル設計を最適化することで、高コントラスト、高輝度、高速応答、大画面化を実現する。
【解決手段】上部基板または下部基板のいずれか一方の基板上にくし歯電極を有し、横電界により液晶を駆動する液晶表示装置において、前記液晶にデンドリマーが添加されてなり、前記くし歯電極の間隔を５−１５μｍ、セル厚を５−８μｍ、デンドリマー濃度を０．１ｗｔ％以上、前記液晶の誘電異方性Δεを８以上とする。 （もっと読む）

【課題】パターン加工した透明電極と下地との表面の段差に起因するラビングムラを抑制し、表示ムラのない液晶表示装置を実現するカラーフィルタ基板を提供する。
【解決手段】透明基板１上のブラックマトリックス２の開口部に赤、緑、青の各画素が形成され、各画素上に透明導電膜５と絶縁膜６が形成された液晶表示装置用カラーフィルタ基板において、透明導電膜はパターン形成され、該透明導電膜が除去された部分には絶縁膜が形成されており、かつ透明導電膜と絶縁膜における表面の段差が５０ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】フレキシブル基板に形成されたパターンの寸法精度を容易に向上させることができるフレキシブル基板積層体を提供する。
【解決手段】本発明によるフレキシブル基板積層体１０、フレキシブル基板１１と、フレキシブル基板１１に粘着層１３を介して貼り合わされ、フレキシブル基板１１に対して剥離自在な剥離フィルム１２と、を備えている。フレキシブル基板１１には、パターン１４が形成されている。フレキシブル基板１１のうちパターン１４が形成された部分において、フレキシブル基板１１と剥離フィルム１２とを貼り合せたことにより生じたひずみが、±０．０１％以内となっている。 （もっと読む）

【課題】 水分に対する高いガスバリア性を有するにもかかわらず、プラスチックフィルムが吸湿した含有水分の除去が容易であり、表示素子の表示性能の低下などの問題が生じにくい、表示素子などへの用途に適した透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】 基材プラスチックフィルムの一方の面にガスバリア機能層を有し、他方の面に透明導電層を有する透明導電性フィルムであって、前記ガスバリア機能層の水蒸気透過度を０．０１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下とし、前記透明導電層の水蒸気透過度を１．０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以上としたことを特徴とする透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】表示基板、表示パネル、及び表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は表示パネル１００、ガンマ電圧生成部、制御部及びデータ駆動部を含む。表示パネル１００は第１下部電極１１３＿１及び第１下部電極１１３＿１にオーバーラップし第１スリットパターン１１５＿１を有する第１上部電極１１４＿１を含む第１画素と、第１画素の第１方向に配置されて第２下部電極１１３＿２及び第２下部電極１１３＿２にオーバーラップし第１スリットパターン１１５＿１の延長方向と異なる方向に延長した第２スリットパターン１１５＿２を有する第２上部電極１１４＿２を含む第２画素と、第１方向と異なる第２方向に延長し第１画素と第２画素との間に配置された第１ゲートラインＧＬ１を含む構成である。 （もっと読む）

【課題】フリーラジカルに起因する液晶材料の劣化を防止し、耐光性寿命の向上を図った液晶装置を提供する。
【解決手段】対向配置された一対の基板２、３間に誘電率異方性が負の液晶層４を挟持し、一対の基板２、３の対向面にそれぞれ電極５、７を有し、電極５、７上にそれぞれ無機配向膜６、８を有した垂直配向モードの液晶装置１である。液晶層４中には、液晶層４中の液晶材料に対してラジカルトラップ材料が、０．０１ｍｏｌ％以上１ｍｏｌ％以下の割合で含まれている。 （もっと読む）

【課題】高コントラストの高分子強誘電性液晶を用いた液晶表示素子の製造方法を得る。
【解決手段】互いに対向する第１基板および第２基板の各対向面に、ラビング法によって配向処理された第１配向膜および第２配向膜をそれぞれ形成する配向膜形成ステップと、
前記第１配向膜が形成された前記第１基板と前記第２配向膜が形成された前記第２基板との間に、高分子強誘電性液晶を含む液晶材料を封入して液晶層を形成する液晶層形成ステップと、 液晶層の形成後、ＩＳＯ温度より急冷により電界印加処理を行う電界印加処理ステップとを備える。 （もっと読む）

【課題】製造コストを削減するとともに歩留まりを向上し、かつプロセス設計が容易である液晶表示装置およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶表示装置１において、半導体層ＡＳＩと半導体層ＡＳＩの面に形成された金属層Ｍとの積層部分であり、かつ画素電極ＭＩＴの面に重なる部分である重なり部５０を含むソース電極ＳＤ２と、金属層Ｍおよび半導体層ＡＳＩの積層部分からなる映像信号線ＤＬと、金属層Ｍおよび半導体層ＡＳＩの積層部分からなるドレイン電極ＳＤ１とが形成され、前記第２の絶縁層ＰＡＳ２は、ソース電極ＳＤ２の面から重なり部５０の端部を通じて画素電極ＭＩＴの面につながる部分であるつなぎ部６０を露出させる開口部ＴＨが形成され、開口部ＴＨによって露出されたつなぎ部６０に共通電極ＣＴに形成される導体膜７０が形成されている。 （もっと読む）

【課題】水平電界成分による透過率の減少を防止する液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る液晶表示装置は、第１基板と、前記第１基板と対向する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置される液晶分子を含む液晶層と、前記第１基板上に配置される第１電極と、前記第１電極上に配置される絶縁膜と、前記絶縁膜上に配置される第２電極と、前記第２基板上に配置される第３電極と、前記第２電極及び前記第３電極のうちの少なくとも一つの上に配置する配向膜とを含み、前記第２電極は微細スリット構造に形成され、前記液晶層及び前記配向膜のうちの少なくとも一つは配向補助剤を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】矩形のコーナー部がカットされた異形６角形である表示領域において、輝度むらや色むらを防止する。
【解決手段】走査線２０と映像信号線３０に囲まれた領域にサブ画素１１が形成され、前記サブ画素１１が３個組になって画素１０が形成されている。表示領域６０は、矩形のコーナー部がカットされた形状である表示領域傾斜部６１を含む異形６角形である。表示領域傾斜部６１において、走査線２０が延在する方向におけるサブ画素１１の数は、走査線２０をまたぐ毎に表示領域６０の片側で、３サブ画素あるいはその倍数で、均一に変化する。サブ画素１１の数を均一に変化させることによって、ソースドライバ８０における映像信号の大きさの調整を容易に行うことが出来る。 （もっと読む）

【課題】画素電極表面でのヒロックの発生や、平坦化絶縁膜において凹部を埋める部分での空洞の発生を防止することのできる電気光学装置、該電気光学装置を用いた投射型表示装置、および当該電気光学装置の製造方法を提供すること。
【課題手段】電気光学装置１００の素子基板１０において、反射性の画素電極９ａの上層側に設けられた平坦化絶縁膜１７は、画素電極９ａ上に積層された層がドープトシリコン酸化膜１７０からなる。ドープトシリコン酸化膜１７０の熱膨張係数は、画素電極９ａを構成するアルミニウム膜の熱膨張係数との差が小さい。このため、加熱した状態で平坦化絶縁膜１７を成膜しても、画素電極９ａおよび平坦化絶縁膜１７に大きな熱応力が発生しないので、画素電極９ａの表面にヒロック等の欠陥が発生しにくい。また、ドープトシリコン酸化膜１７０は、段差被覆性に優れている。 （もっと読む）