【課題】 良好な表示を実現する。
【解決手段】 第１の透明基板と、第１の透明基板に対向配置された第２の透明基板であって、複数の金属線が平行に形成された第１のパターンと、第１のパターンを電気的に接続する第２のパターンを備える金属膜が配置されている第２の透明基板と、第１の透明基板と第２の透明基板との間に挟持された液晶層とを有する液晶表示素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い半導体装置を提供する。
【解決手段】ゲート電極と、ゲート電極の上に設けられたゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜
の上に設けられソース領域及びドレイン領域を含む半導体膜と、ソース領域又はドレイン
領域に電気的に接続する配線又は電極と、配線又は電極の上に設けられ第１の開口部を有
する第１の絶縁膜と、第１の絶縁膜の上に設けられ第２の開口部を有する第２の絶縁膜と
、第２の絶縁膜の上に設けられた画素電極とを有し、第１の絶縁膜は窒化シリコン膜を含
む積層の無機絶縁膜からなり、第２の絶縁膜は有機樹脂膜からなり、第２の絶縁膜の第２
の開口部の底面において、第１の絶縁膜の上面は第２の絶縁膜に覆われていない露呈した
部分を有し、第２の絶縁膜の第２の開口部の断面において、第２の絶縁膜の内壁面は凸状
の曲面を有しており、画素電極は、第１の開口部及び第２の開口部を介して配線又は電極
に電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】帯電の防止および小型化を図れると共に、光漏れを防止することが可能な液晶装置を提供する。
【解決手段】液晶装置１００は、対向して位置する素子基板１１および対向基板１２と、素子基板１１と対向基板１２との間に保持された液晶と、素子基板１１の液晶と反対側面に形成された素子導電膜と、を有する液晶パネル１と、定電位に保持されたグランド端子７４を有するフレキシブル基板７と、素子基板１１の縁辺に沿うように素子導電膜へ付与された黒色の導電性接着剤２８と、を備え、素子導電膜とグランド端子７４とが、導電性接着剤２８により導通している。 （もっと読む）

【課題】透過率が低下するのを抑制することが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】この液晶表示装置１００は、透過領域１１ａおよび反射領域１１ｂを有する画素１１が設けられるとともに、液晶５０を挟むように配置された基板２０および基板４０と、基板２０の透過領域１１ａに設けられ、液晶５０に映像信号を印加するための透過表示用画素電極１４ａおよび液晶５０に透過表示用共通電位信号を印加するための透過表示用共通電極１５ａと、透過表示用画素電極１４ａへの映像信号の供給を制御する透過表示用画素トランジスタ１２ａおよび１３ａとを備え、透過表示用画素トランジスタ１２ａおよび１３ａは、平面的に見て、反射領域１１ｂに配置されている。 （もっと読む）

【課題】アレイ基板を提供すること。
【解決手段】アレイ基板において、第１画素電極は、第１支持電極部より第１方向に延伸する第１ブランチ電極部、第１方向と交差する第２方向に延伸する第２ブランチ電極部、第３ブランチ電極部、及び第４ブランチ電極部を含む。第３ブランチ電極部は、第２ブランチ電極部から第１ブランチ電極部に平行に延伸し、第４ブランチ電極部は、第３ブランチ電極部から第２ブランチ電極部に平行に延伸して、第１画素電極は部分的にジグザグ形状を有する。第２画素電極は、第１及び第３ブランチ電極部の間と第１ブランチ電極部間とに配置された第５ブランチ電極部と、第２及び第４ブランチ電極部の間と第２ブランチ電極部間とに配置された第６ブランチ電極部とを含む。透過率が増加し、液晶層の応答速度が向上され、液晶表示装置の表示品質が向上される。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体層を用い、電気特性の優れた薄膜トランジスタを備えた半導体装置を提供することを課題の一つとする。
【解決手段】チャネル形成領域にＳｉＯｘを含む酸化物半導体層を用い、電気抵抗値の低い金属材料からなるソース電極層及びドレイン電極層とのコンタクト抵抗を低減するため、ソース電極層及びドレイン電極層と上記ＳｉＯｘを含む酸化物半導体層との間にソース領域またはドレイン領域を設ける。ソース領域またはドレイン領域は、ＳｉＯｘを含まない酸化物半導体層または酸窒化物膜を用いる。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、電気光学物質の配向不良を抑制しつつ、表
示画像の高品位化を図る。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）上に、画素電極（９）と、画素電極より誘電
体膜（７２）を介して下層側に配置され、画素電極の各々に少なくとも部分的に重なるよ
うに形成された下側電極（７１）と、下側電極の下地面上に配置され、下側電極非形成領
域の少なくとも一部に形成され、下側電極の上側表面と下側電極非形成領域における下地
面との段差を低減するための段差低減膜（１９）とを備える。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置における配線のレイアウトの自由度を向上させつつ、製造工程において一対の基板のアライメントを適切に実行可能とする。
【解決手段】電気光学装置（１００）は、互いに対向して配置された一対の基板（１０、２０）と、一対の基板のうち一方の基板における複数の画素が配列された画素領域（１０ａ）の周辺に位置する周辺領域に設けられ、一対の基板のアライメントを行うためのアライメントマーク（３１１、３１２、３２１、３２２）と、一方の基板上において、アライメントマークの上層側に形成され、導電性及び光透過性を有する材料を含んでなる配線（２００）とを備える。当該電気光学装置において、一方の基板上で平面的に見て、前記配線は、アライメントマークを少なくとも部分的に覆っている。 （もっと読む）

【課題】良好な点灯状態が得られる液晶表示装置、を提供する。
【解決手段】液晶表示装置１０は、画素電極が形成されるアクティブマトリクス基板４１と、アクティブマトリクス基板４１上に形成される引き回し配線２２と、アクティブマトリクス基板４１と対向して設けられる対向基板４６と、対向基板４６上に形成される対向電極６１とを有する。アクティブマトリクス基板４１の主表面４１ａ上には、表示エリア３１と、表示エリア３１に隣り合って配置される非表示エリア３２とが規定される。引き回し配線２２は、非表示エリア３２に配置される。対向電極６１は、表示エリア３１に対向して配置されるアクティブ部６２と、非表示エリア３２に対向して配置され、アクティブ部６２から電気的に絶縁される周辺部６３とを含む。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置の製造時における、蓄積容量を構成する誘電体膜の汚染を防止する。
【解決手段】基板（１０）上に、画素電極（９）と、画素電極（９）及び容量電極（７１）に挟持される誘電体膜（７２）よりも下層側に配置された導電層（３５）と、少なくとも画素電極（９）及び誘電体膜（７２）を貫通して導電層（３５）の表面に至るように開孔されたコンタクトホール（３３ｂ）に重なるように島状に形成されており、画素電極（９）と導電層（３５）とを互いに電気的に接続する接続部材（９３ａ）とを備える。 （もっと読む）

【課題】画像品質の向上、および、装置の信頼性の向上を実現する。
【解決手段】対向基板２０２において、ＴＦＴアレイ基板２０１に対向するｘｙ面上に、凸部ＣＯを形成する。ここでは、凸部ＣＯにおいてＴＦＴアレイ基板２０１に対向する頂面に、平坦領域ＨＲを設ける。そして、タッチセンサスイッチＳＷｓを構成するタッチ電極２５を、その凸部ＣＯ上において平坦領域ＨＲ以外の領域に形成せずに、平坦領域ＨＲ上に孤立パターンとして形成する。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、耐湿性を向上させ、長期に渡って表示画像の高品位化を図る。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）上に、画素電極（９）と、画素電極の下層側に、前記画素電極に対向するように設けられた容量電極（７１）と、画素電極と容量電極との間に介在すると共に、窒化シリコン及び窒化酸化シリコンの少なくとも一方を含んでなる誘電体膜（７２）とを備える。 （もっと読む）

【課題】視野角を制御しながら応答速度が低下するのを抑制することが可能な液晶表示装
置を提供する。
【解決手段】この液晶表示装置１００は、行列状に配置された平面的に見て略矩形状を有
する表示用副画素１ａ、１ｂ、１ｃおよび視野角制御用副画素１ｄを含む画素１を備える
。視野角制御用副画素１ｄと、視野角制御用副画素１ｄとＹ方向において隣接する表示用
副画素１ａとは、それ以外の表示用副画素１ｂおよび１ｃよりも面積が大きくなるように
構成され、表示用副画素１ａは、最も視感度が高い色以外の色に対応するように構成され
ている。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置を提供するに際し、酸化物半導体層と電極層との接触抵抗を低減することを課題の一とする。
【解決手段】ゲート絶縁層上方の第１のソース電極層または第１のドレイン電極層と、ゲート絶縁層上方の酸化物半導体層と、酸化物半導体層、および第１のソース電極層または第１のドレイン電極層上方の第２のソース電極層または第２のドレイン電極層と、を有し、酸化物半導体層の下面は、ゲート電極層と重畳する領域においてゲート絶縁層と接しており、且つ、少なくとも他の一部の領域において第１のソース電極層または第１のドレイン電極層と接しており、酸化物半導体層の上面は、その一部の領域において第２のソース電極層または第２のドレイン電極層と接しており、第１のソース電極層または第１のドレイン電極層は、第２のソース電極層または第２のドレイン電極層と電気的に接続している。 （もっと読む）

【課題】縦クロストークの発生を防止することができ、かつ、開口率を向上させることができる横電界方式の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】共通電極２６と画素電極２７とを同層上に形成し、共通電極２６及び画素電極２７の双方を透明材料から形成する。共通電極２６はデータ線２４を完全に覆うように形成する。ブラックマトリクス層１７は共通電極２６よりも小さい幅を有するように形成する。 （もっと読む）

【課題】設計自由度を低下させることなく、端子の腐蝕を防ぐこと。
【解決手段】ＦＰＣ基板１０と、前記ＦＰＣ基板１０上に位置した端子２７と、前記ＦＰ
Ｃ基板１０上に位置し、前記端子２７と隣接する第１ダミー端子５７ａと、前記ＦＰＣ基
板１０上に位置し、前記第１ダミー端子６５と隣接する第２ダミー端子５７ｂと、を備え
た電気光学装置の製造方法が、前記第１ダミー端子５７ａと前記第２ダミー端子５７ｂと
の間に電位差を与える工程を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】補助容量部の静電容量を確保しつつも、画素の表示有効エリアが広い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】ゲート絶縁膜の下層側にゲート電極が形成されるとともに、ゲート絶縁膜の上層側にドレイン電極及びソース電極が形成された薄膜トランジスタと、ゲート電極と同一層に形成された補助容量電極とを備えた液晶表示装置である。この液晶表示装置は、ゲート絶縁膜を介して補助容量電極と重畳するように形成された金属薄膜と、ソース電極及び金属薄膜の上層側に形成され、ソース電極の上面の少なくとも一部及び金属薄膜の上面の少なくとも一部にそれぞれコンタクトホールを有する層間絶縁膜と、層間絶縁膜の上層側に形成され、ソース電極と金属薄膜とをコンタクトホールを介して電気的に接続する透明性の画素電極とを備える。金属薄膜の上層側に形成されたコンタクトホールは、金属薄膜と画素電極とが重畳する領域に複数形成されている。 （もっと読む）

【課題】
画素電極と共通電極又はコモン線との間の確実な短絡を可能とし、また、点欠陥の修正作業の作業効率を高めた液晶表示装置及びその点欠陥修正方法を提供すること。
【解決手段】
ゲート信号線ＧＬと、該ゲート信号線に直行するドレイン信号線ＤＬと、該ゲート信号線と該ドレイン信号線によって囲まれた画素領域と、該画素領域のそれぞれには、画素電極ＰＸ及び共通電極ＣＴと、該画素電極を駆動するスイッチング素子と、該スイッチング素子と該画素電極とを接続するソース線ＳＬと、該共通電極に接続されるコモン線ＣＬが設けられる液晶表示装置において、該共通電極上に形成され、且つ該ソース線と重畳する位置に配置されるメタルパターン２を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】一対の電極間に形成される層間絶縁膜のコンタクトホールによって露出される導
電層と電極とのコンタクト抵抗が大きくなるのを抑制することが可能な液晶表示装置の製
造方法を提供する。
【解決手段】この液晶表示装置１００の製造方法では、共通電位配線１７および画素電極
１９を覆うように有機膜からなる層間絶縁膜２０を形成する工程と、層間絶縁膜２０の共
通電位配線１７に対応する領域にコンタクトホール２０ａを形成する工程と、コンタクト
ホール２０ａによって露出された共通電位配線１７および層間絶縁膜２０の表面をエッチ
ングする工程と、共通電位配線１７にコンタクトホール２０ａを介して接続され、層間絶
縁膜２０を挟んで画素電極１９と対向するように設けられる共通電極２１を形成する工程
とを備える。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリクス基板における配線と電極端子との接続部において、電極端子に欠陥が生じた場合でも、配線に含まれる金属が腐食することがない構成を提供する。
【解決手段】本発明のアクティブマトリクス基板は、接続部１６を備えたアクティブマトリクス基板であって、上記接続部１６は、第１の金属層１ｂと、上記第１の金属層１ｂの上に、上記第１の金属層１ｂの幅より狭く積層された第２の金属層１ａと、上記第２の金属層１ａの上に、上記第２の金属層１ａを完全に覆い、かつ上記第１の金属層１ｂの幅より狭く積層された保護部２と、上記保護部２の上に、上記保護部２を完全に覆い、かつ上記第１の金属層１ｂに接触するように積層された電極端子３とを備えているので、電極端子３に欠陥部４が生じた場合でも、配線に含まれる金属が腐食することがない。 （もっと読む）